【技术实现步骤摘要】
涂胶显影设备及其维护方法
[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种涂胶显影设备及其维护方法。
技术介绍
[0002]在半导体生产中，主要生产设备是光刻机和涂胶显影机，这两种设备是联线作业方式进行生产的。大规模集成电路生产线对涂胶显影机的要求是，适应工艺生产及高产能的要求、占地面积小、维护方便、操作便捷、运行费用低、工艺拓展窗口大。
[0003]目前，大规模集成电路生产线上，与光刻机联线作业的涂胶显影设备(TRACK)通常是由片盒站、工艺站和接口站等串接组成。其中，片盒站主要包括晶片盒、传片机器人；工艺站包括涂胶模块、显影模块和热处理模块。热处理模块包括增粘单元、冷板单元、低温热板单元、高温热板单元、复合冷热板单元；接口站主要包括晶圆边缘曝光处理模块、晶圆传送缓存处理模块、晶圆传送机器人。现有机台内工艺处理模块的结构设计及工艺模块的布局上是多样式的，但现有的维护方式存在维护路径长和维护通道矮小导致维护耗时较长，以及维护人员需要蹲着或爬着进入维护通道，维护更为耗费体力，维护不方便，对维护人员不友好等问题。<...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括第一层间工艺模块、以及设置于所述第一层间工艺模块的一侧的层内机械人组件，所述层内机械人组件包括从下而上依次层叠设置的第一层内机械人、第二层内机械人和第三层内机械人；所述第一层间工艺模块内设有第一模块内维护通道，所述第一层间工艺模块与所述第一层内机械人、所述第二层内机械人和所述第三层内机械人任一种之间均设有第一模块间维护通道；所述第一模块内维护通道和所述第一模块间维护通道连通构成第一维护路线，所述第一维护路线用于对所述第一层间工艺模块、所述第一层内机械人、所述第二层内机械人和所述第三层内机械人进行维护。2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括抽拉装置，所述抽拉装置活动设置于所述第一层间工艺模块，所述抽拉装置拉出或推回于所述涂胶显影设备以打开或关闭所述第一维护路线的第一维护出入口。3.根据权利要求2所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括依次设置于所述层内机械人组件的另一侧的第二层间工艺模块和第三层间工艺模块；所述第二层间工艺模块内和所述第三层间工艺模块内设有第二模块内维护通道，所述第二层间工艺模块与所述第一层内机械人之间、所述第三层间工艺模块与所述第二层内机械人和所述第三层内机械人任一种之间均设有第二模块间维护通道；所述第二模块内维护通道和所述第二模块间维护通道连通构成第二维护路线，所述第二维护路线用于对所述第二层间工艺模块、所述第三层间工艺模块、所述第一层内机械人、所述第二层内机械人和所述第三层内机械人进行维护。4.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述抽拉装置活动设置于所述第二层间工艺模块，所述抽拉装置拉出或推回于所述涂胶显影设备以打开或关闭所述第二维护路线的第二维护出入口。5.根据权利要求2或4所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述抽拉装置的高度为1.4～2m。6.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括设置于所述第一层间工艺模块的另一侧的片盒模块，所述片盒模块内设有第三模块内维护通道，所述第三模块内维护通道的两端设有预留维护出入口，所述第三模块内维护通道构成第三维护路线，所述第三维护路线用于对所述片盒模块进行维护。7.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括设置于所述第三层间工艺模块的下方的接口模块，所述接口模块与所述第二层间工艺模块之间设置有第三模块间维护通道，所述第三模块间维护通道用于对所述接口模块靠近所述第二层间工艺模块的部件进行维护。8.根据权利要求7所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括预留维护出入口，所述预留维护出入口设置于所述接口模块的正面，所述预留维护出入口用于对所述接口模块靠近所述接口模块正面的部件进行维护。9.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一模块间维护通道包括与所述第一模块内维护通道分别连通的第一模块间维护通道一、第一模块间维护通道二和第一模块间维护通道三，所述第一模块间维护通道一设置于所述第一层间工艺模块和所述第
一层内机械人之间，所述第一模块间维护通道二设置于所述第一层间工艺模块和所述第二层内机械人之间，所述第一模块间维护通道三设置于所述第一层间工艺模块和所述第三层内机械人之间；所述第一模块内维护通道用于对所述第一层间工艺模块进行维护，所述第一模块间维护通道一用于对所述第一层内机械人靠近所述第一层间工艺模块一侧的部件进行维护，所述第一模块间维护通道二用于对所述第二层内机械人靠近所述第一层间工艺模块一侧的部件进行维护，所述第一模块间维护通道三用于对所述第三层内机械人靠近所述第一层间工艺模块一侧的部件进行维护。10.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第二模块内维护通道包括第二模块内维护通道一和第二模块内维护通道二，所述第二模块间维护通道包括第二模块间维护通道一、第二模块间维护通道二和第二模块间维护通道三；所述第二模块内维护通道一设置于所述第二层间工艺模块，所述第二模块内维护通道二设置于所述第三层间工艺模块，所述第二模块间维护通道一设置于所述第二层间工艺模块和所述第一层内机械人之间，所述第二模块间维护通道二设置于所述第三层间工艺模块和所述第二层内机械人之间，所述第二模块间维护通道三设置于所述第三层间工艺模块和所述第三层内机械人之间；所述第二模块内维护通道一分别与所述第二模块间维护通道一和所述第二模块内维护通道二连通，所述第二模块内维护通道二分别与所述第二模块间维护通道二和所述第二模块间维护通道三连通；所述第二模块内维护通道一用于对所述第二层间工艺模块进行维护，所述第二模块内维护通道二用于对所述第三层间工艺模块进行维护，所述第二模块间维护通道一用于对所述第一层内机械人靠近所述第二层间工艺模块一侧的部件进行维护，所述第二模块间维护通道二用于对所述第二层内机械人靠近所述第二层间工艺模块一侧的部件进行维护，所述第二模块间维护通道三用于对所述第三层内机械人靠近所述第二层间工艺模块一侧的部件进行维护。11.根据权利要求4所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述抽拉装置包括装置本体和抽拉组件；所述装置本体为所述第一层间工艺模块的部分结构和/或所述第二层间工艺模块的部分结构；所述抽拉组件包括上导轨组件和下导轨组件，所述上导轨组件和所述下导轨组件均为多段式导轨，所述上导轨组件设置于所述装置本体的上端面，所述下导轨组件设置于所述装置本体的下端面，所述装置本体沿所述上导轨组件和所述下导轨组件的导轨方向运动，以从所述涂胶显影设备中拉出或推回于所述涂胶显影设备。12.根据权利要求11所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括密封组件，所述装置本体朝向所述装置本体拉出方向的端面为第一端面，所述装置本体朝向所述装置本体推回方向的端面为第二端面，所述第一端面和所述第二端面之间的两对称端面分别与所述涂胶显影设备中与所述两对称端面相对的部件的距离为5～7mm；所述第一端面的边缘和所述第二端面的边缘均设置有所述密封组件，所述密封组件凸出于所述边缘设置，且所述密封组件的凸出端部与所述边缘的距离为2～3mm。13.根据权利要求11所述的涂胶显影设备，其特征在于，还包括上定位组件，所述上定位组件包括定位座组件和定位杆组件，所述定位杆组件包括定位杆，所述定位座组件包括
技术研发人员：郭亚内，张建，曲征辉，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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