一种光刻胶原料中和反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶原料中和反应釜，包括反应釜体和插装在反应釜体上端的进料管，反应釜体内分别设有搅拌机构和清洗机构，搅拌机构包括驱动电机、正向搅拌轴、两组旋转喷淋头、若干组正向搅拌桨、安装壳、主动伞齿轮、传动轴、一组传动伞齿轮、反向搅拌轴、从动伞齿轮以及若干组反向搅拌桨，清洗机构包括往复丝杆、调节轴套、伺服气缸、拨动爪、往复丝母、固定圆杆、滑动轴套以及环形刮板。本实用新型专利技术的有益效果是，若干组正向搅拌桨配合若干组反向搅拌桨相对转动产生逆流，对原料进行充分搅拌混合，提高中和反应效果，清洗机构采用两组旋转喷淋头配合环形刮板可对反应釜体内残留杂质进行自动清理，防止残留杂质对反应造成影响。响。响。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶原料中和反应釜


[0001]本技术涉及光刻胶领域，具体为一种光刻胶原料中和反应釜。

技术介绍

[0002]光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。 光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
[0003]光刻胶在生产过程中需要将定量的纯净水和固体氢氧化钠投入中和釜进行中和反应，来配置成5%的稀碱。长期使用的反应釜内容易残留杂质，随着时间不断在反应釜中堆积，不但影响反应釜的容量，且残留中的成分还会对反应造成影响，因此，需要对反应釜进行定期清洗，目前，反应釜清洗大多通过人工进行完成，清洗时费事费力，且影响生产效率。
[0004]需要说明的是，上述内容属于专利技术人的技术认知范畴，并不必然构成现有技术。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶原料中和反应釜，包括反应釜体（1）和插装在反应釜体（1）上端的进料管（2），其特征在于，所述反应釜体（1）内分别设有搅拌机构和清洗机构；搅拌机构包括驱动电机（3）、正向搅拌轴（4）、两组旋转喷淋头（5）、若干组正向搅拌桨（6）、安装壳（7）、主动伞齿轮（8）、传动轴（9）、一组传动伞齿轮（10）、反向搅拌轴（11）、从动伞齿轮（12）以及若干组反向搅拌桨（13），所述驱动电机（3）安装在反应釜体（1）上端右侧，且旋转端竖直朝上，所述正向搅拌轴（4）活动插装在反应釜体（1）上端中心处，两组旋转喷淋头（5）安装在正向搅拌轴（4）上端，若干组正向搅拌桨（6）均匀安装在正向搅拌轴（4）上，所述安装壳（7）固定安装在反应釜体（1）内，所述主动伞齿轮（8）安装在正向搅拌轴（4）底部，且位于安装壳（7）内，所述传动轴（9）活动插装在安装壳（7）内，一组传动伞齿轮（10）安装在传动轴（9）两端，且分别与主动伞齿轮（8）互相啮合，所述反向搅拌轴（11）活动插装在安装壳（7）底部，所述从动伞齿轮（12）安装在反向搅拌轴（11）上端，且与一组传动伞齿轮（10）互相啮合，若干组反向搅拌桨（13）安装在反向搅拌轴（11）底部。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶原料中和反应釜，其特征在于，清洗机构包括往复丝杆（14）、调节轴套（15）、伺服气缸（16）、拨动爪（17）、往复丝母（18...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宪磊，李春山，路世伟，李建峰，
申请(专利权)人：河北立业化学制品有限公司，
类型：新型
国别省市：