一种氪氙提取工艺除氡机制造技术

技术编号:39226168 阅读:14 留言:0更新日期:2023-10-30 11:32
本实用新型专利技术涉及氪氙提取设备技术领域,且公开了一种氪氙提取工艺除氡机,包括:机箱,机箱连接冷凝装置,冷凝装置用于降低机箱内的温度,机箱内设置紊流装置,紊流装置用于扰动机箱内的气流,冷凝装置包括制冷机,制冷机设置在机箱顶部,机箱内固定安装有冷凝板,冷凝板与制冷机电性连接,制冷机一侧设置温度传感器。该氪氙提取工艺除氡机,氪氙混合气体进入机箱内,冷凝装置对机箱内降温,使氪氙中的氡液化,将氡与氪氙气体进行分离,紊流装置扰动气流使氪氙气体中的流体质点在机箱内相互混掺和扩散,延长了气体在机箱内的留滞时间,使得氪氙中的氡在机箱内冷凝时间更久,液化程度更高,提高了氡的去除率。提高了氡的去除率。提高了氡的去除率。

【技术实现步骤摘要】
一种氪氙提取工艺除氡机


[0001]本技术涉及氪氙提取设备
,具体涉及一种氪氙提取工艺除氡机。

技术介绍

[0002]空气中含有微量的氡,在氪氙提取过程中,随着氪氙浓缩的进行,氡的浓度也会越来越高,尤其在氪氙浓缩物精制的过程中,氡的各种同位素浓度会达到最高值,衰变产生的放射性会对人体健康产生影响。
[0003]根据公告号CN215311259U公开的一种氪氙提取工艺中去除氡的装置,该氪氙提取工艺中去除氡的装置能够较为快速的对氡进行液化并将其分离,且设备的防辐射性能较好,在对氡进行分离时能够有效阻挡其衰变所产生的放射性元素,设置的箍环能够将连接管与外部管道之间的接口进行加固,以防止设备在使用时出现气体泄漏的情况,设置的导流板能够有效防止设备在工作时液化的氡残留于设备内部,同时设置的密封条能够保证设备在使用时液化的氡流入收料盒内部时不会出现渗漏的现象,从而使设备在使用时的安全性得到提升。
[0004]然而氪氙混合气体在内壳中的留存时间较短,氪氙中的氡在较短的时间内难以冷凝完全,使得氡的去除率不佳。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种氪氙提取工艺除氡机,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种氪氙提取工艺除氡机,包括:机箱,所述机箱连接冷凝装置,所述冷凝装置用于降低所述机箱内的温度,所述机箱内设置紊流装置,所述紊流装置用于干扰所述机箱内的气流。
[0007]优选的,所述冷凝装置包括制冷机,所述制冷机设置在所述机箱顶部,所述机箱内固定安装有冷凝板,所述冷凝板与所述制冷机电性连接,所述制冷机一侧设置温度传感器,所述温度传感器穿过所述机箱顶部并延伸至所述机箱内。
[0008]优选的,所述冷凝板下方设置固定板,所述固定板固定安装在所述机箱内,所述固定板顶部设置斜顶,所述固定板底部连接引风机。
[0009]优选的,所述紊流装置包括紊流板,若干个所述紊流板固定安装在所述机箱内壁。
[0010]优选的,所述紊流板设置遮挡部,所述遮挡部延伸至缓冲部,所述缓冲部延伸至扩散部,所述扩散部延伸至引流部。
[0011]优选的,所述机箱内固定安装有挡板,所述挡板设置弧面,所述挡板上开设若干个气孔。
[0012]优选的,所述挡板底部设置圆角。
[0013]优选的,所述挡板下方设置导流板,所述导流板中心处设置通孔,所述通孔内设置电磁阀,所述导流板顶部设置斜面。
[0014]优选的,所述导流板下方设置收料盒,所述收料盒上设置拉环,所述机箱正面开设定位孔,所述定位孔与所述收料盒滑动连接,所述机箱上设置定位框,所述定位框设置在所述定位孔外部,所述定位框与所述收料盒滑动连接。
[0015]优选的,所述机箱夹层中设置铅板,所述机箱一侧设置进气管道,所述机箱另一侧设置出气管道,所述出气管道内设置单向膜,所述机箱正面设置控制器,所述机箱底部固定安装有垫片。
[0016]该氪氙提取工艺除氡机具备以下有益效果:
[0017]该氪氙提取工艺除氡机,氪氙混合气体进入机箱内,冷凝装置对机箱内降温,使氪氙中的氡液化,将氡与氪氙气体进行分离,紊流装置扰动气流使氪氙气体中的流体质点在机箱内相互混掺和扩散,延长了气体在机箱内的留滞时间,使得氪氙中的氡在机箱内冷凝时间更久,液化程度更高,提高了氡的去除率。
附图说明
[0018]图1为本技术结构的立体图;
[0019]图2为图1中机箱的剖视图;
[0020]图3为图1中A处的放大图;
[0021]图4为图2中固定板的仰视图;
[0022]图5为图2中紊流板的示意图;
[0023]图6为图2中挡板的示意图;
[0024]图7为图2中导流板的示意图。
[0025]图中:1、机箱;2、铅板;3、进气管道;4、出气管道;5、单向膜;6、冷凝装置;601、制冷机;602、冷凝板;603、温度传感器;604、固定板;605、斜顶;606、引风机;7、紊流装置;701、紊流板;702、遮挡部;703、缓冲部;704、扩散部;705、引流部;706、挡板;707、弧面;708、圆角;709、气孔;8、导流板;801、通孔;802、斜面;9、收料盒;10、拉环;11、定位孔;12、定位框;13、控制器;14、垫片。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0027]如图1

图2所示,本技术提供一种氪氙提取工艺除氡机的实施例,包括:机箱1,机箱1夹层中设置铅板2,铅板2密度高,使得铅板2颗粒之间的缝隙非常小,小于紫外光谱长度,即小于辐射产生的光谱长度,这样辐射的波长就通过不了铅板2,即隔离氡的同位素衰变产生的辐射,机箱1一侧设置进气管道3,机箱1另一侧设置出气管道4,出气管道4内设置单向膜5,氪氙气体从进气管道3进入,去除氡后通过单向膜5并从出气管道4中输出,机箱1正面设置控制器13,机箱1底部固定安装有垫片14。
[0028]如图1

图2所示,机箱1连接冷凝装置6,冷凝装置6用于降低机箱1内的温度。
[0029]进一步的,如图2、图4所示,冷凝装置6包括制冷机601,制冷机601设置在机箱1顶
部,机箱1内固定安装有冷凝板602,冷凝板602与制冷机601电性连接,制冷机601一侧设置温度传感器603,温度传感器603穿过机箱1顶部并延伸至机箱1内,温度传感器603检测机箱1内的温度,使机箱1内的温度达到使氡液化的温度,冷凝板602下方设置固定板604,固定板604固定安装在机箱1内,固定板604顶部设置斜顶605,部分冷凝后的氡会附着在固定板604顶部,设置斜顶605使附着的液化氡因重力而向下汇流并从固定板604上滴落,固定板604底部连接引风机606。
[0030]如图2所示,机箱1内设置紊流装置7,紊流装置7用于干扰机箱1内的气流。
[0031]具体的,如图2、图5

图6所示,紊流装置7包括紊流板701,若干个紊流板701固定安装在机箱1内壁,紊流板701设置遮挡部702,氪氙气体流动时经遮挡部702遮挡,使氪氙气体中的流体质点在机箱1内相互混掺,降低了气流的流速且影响气流的流向,遮挡部702延伸至缓冲部703,气流经遮挡部702运动至缓冲部703,再次降低了气体流速,缓冲部703延伸至扩散部704,气体运动至扩散部704,并向各个方向流动,使氪氙气体因质点紊动发生扩散,扩散的氪氙气体在各个方向与其他氪氙气流混掺,相互影响气流流速,扩散部704延伸至引流部705,部分气流经引流部705向上运动,与冷凝板本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氪氙提取工艺除氡机,其特征在于:包括:机箱(1),所述机箱(1)连接冷凝装置(6),所述冷凝装置(6)用于降低所述机箱(1)内的温度;所述机箱(1)内设置紊流装置(7),所述紊流装置(7)用于干扰所述机箱(1)内的气流;所述紊流装置(7)包括紊流板(701),若干个所述紊流板(701)固定安装在所述机箱(1)内壁,所述紊流板(701)设置遮挡部(702),所述遮挡部(702)延伸至缓冲部(703),所述缓冲部(703)延伸至扩散部(704),所述扩散部(704)延伸至引流部(705)。2.根据权利要求1所述的一种氪氙提取工艺除氡机,其特征在于:所述冷凝装置(6)包括制冷机(601),所述制冷机(601)设置在所述机箱(1)顶部,所述机箱(1)内固定安装有冷凝板(602),所述冷凝板(602)与所述制冷机(601)电性连接,所述制冷机(601)一侧设置温度传感器(603),所述温度传感器(603)穿过所述机箱(1)顶部并延伸至所述机箱(1)内。3.根据权利要求2所述的一种氪氙提取工艺除氡机,其特征在于:所述冷凝板(602)下方设置固定板(604),所述固定板(604)固定安装在所述机箱(1)内,所述固定板(604)顶部设置斜顶(605),所述固定板(604)底部连接引风机(606)。4.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶智来朱亚京
申请(专利权)人:瀚沫能源科技上海有限公司
类型:新型
国别省市:

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