一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术提供了一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材及其上方自下而上依次溅射形成的第一介质层、第一复合层、第二介质层、第二复合层、第三介质层、第三复合层和第四介质层。本实用新型专利技术所述的中低透可钢低辐射镀膜玻璃，耐加工、易保存、好运输，能够满足现代建筑对玻璃透过率、颜色、硬度和节能效果的需求。求。求。

【技术实现步骤摘要】
一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃


[0001]本技术属于特种玻璃
，尤其是涉及一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃。

技术介绍

[0002]Low
‑
E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品，具有对中远红外线高反射的特性以及优异的保温隔热性能，是目前市面上使用最广泛的建筑节能玻璃。随着Low
‑
E技术的发展，市场对产品的辐射率要求越来越高。目前国家对高性能Low
‑
E玻璃的辐射率要求为≤0.04，市场上高性能Low
‑
E玻璃普遍辐射率在0.015～0.02之间。与此同时，随着人们对室外原色显示度要求的提高和强度的要求，要进行钢化处理，但是市场上这样的镀膜玻璃比较少，需要我们进一步研发来满足更大的市场需求。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术旨在提出一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，以解决现代建筑对玻璃显示度、硬度和辐射量的需求难以批量满足的问题。
[0004]为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：
[0005]一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材及其上方自下而上依次溅射形成的第一介质层、第一复合层、第二介质层、第二复合层、第三介质层、第三复合层和第四介质层。
[0006]进一步的，所述第一介质层为SiZrNx+SiNx+ZnAlOx复合结构，第二介质层及第三介质层为ZnSnOx+ZnAlOx或SiNx+ZnAlOx复合结构，第四介质层为SiNx层或SiNx+SiZrNx复合结构。
[0007]进一步的，所述第一介质层厚度为30
‑
50nm，第二介质层厚度为40
‑
70nm，第三介质层厚度为70
‑
100nm，第四介质层厚度为10
‑
30nm，其中第三层介质层厚度大于其他介质层厚度。
[0008]进一步的，所述第一复合层、第二复合层和第三复合层包括自下而上依次溅射形成的功能层和保护层。
[0009]进一步的，所述第一复合层和第二复合层中功能层为Ag层，第三复合膜层的功能层为Ag或AgTi膜层。
[0010]进一步的，所述第一复合层中功能层厚度为4
‑
10nm，第二复合层中功能层厚度为12
‑
18nm，第三复合层中功能层厚度为8
‑
15nm，其中第二复合层中功能层厚度高于第一层复合层中功能层、第三层复合层中功能层的厚度。
[0011]进一步的，所述保护层包括金属保护层和设置在金属保护层外的氧化物层，金属层包括Ni、Cr、Ti中至少一种金属层或其合金层，厚度为1
‑
5nm。
[0012]进一步的，所述氧化物层设在金属层外侧，为AZO层或TiOx层，第一层复合层、第二
层复合层中金属氧化物层的厚度为2
‑
8nm，第三层复合层中金属氧化物层的厚度为12
‑
20nm，第三复合层中金属氧化物层的厚度高于第一复合层、第二复合层中金属氧化物层的厚度之和。
[0013]进一步的，所述第四介质层为单层SiNx层时，还包括在SiNx层外侧溅射形成的ZrOx层，ZrOx层厚度为4
‑
10nm。
[0014]进一步的，所述玻璃基片厚度小于10mm时，第三介质层为SiNx+ZnAlOx复合结构，玻璃基片厚度大于等于10mm时，第三介质层为ZnSnOx+ZnAlOx复合结构。
[0015]相对于现有技术，本技术所述的中低透可钢低辐射镀膜玻璃具有以下优势：
[0016](1)本技术所述的中低透可钢低辐射镀膜玻璃，耐加工、易保存、好运输，能够满足现代建筑对玻璃显示度、硬度和辐射量的需求。
[0017](2)本技术所述的中低透可钢低辐射镀膜玻璃，解决了目前双银中低透镀膜玻璃透射率偏低的难题。
附图说明
[0018]构成本技术的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0019]图1为本技术实施例所述的中低透可钢低辐射镀膜玻璃的剖视图。
[0020]附图标记说明：
[0021]1‑
玻璃基材；2
‑
第一介质层；3
‑
第一复合层；4
‑
第二介质层；5
‑
第二复合层；6
‑
第三介质层；7
‑
第三复合层；8
‑
第四介质层。
具体实施方式
[0022]需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0023]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
[0026]一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，如图1所示，包括玻璃基材1及其上方自下而上依次溅射形成的第一介质层2、第一复合层3、第二介质层4、第二复合层5、第三介质层6、第三复合层7和第四介质层8。
[0027]第一介质层为SiZrNx+SiNx+ZnAlOx复合结构，厚度为30
‑
50nm，第二及第三介质层为ZnSnOx+ZnAlOx或SiNx+ZnAlOx复合结构，第二介质层厚度为40
‑
70nm，第三介质层厚度为70
‑
100nm，玻璃基片厚度小于10mm时，第三介质层为SiNx+ZnAlOx复合结构，玻璃基片厚度大于等于10mm时，第三介质层为ZnSnOx+ZnAlOx复合结构。
[0028]第四介质层为SiNx层或SiNx+SiZrNx复合结本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基材及其上方自下而上依次溅射形成的第一介质层、第一复合层、第二介质层、第二复合层、第三介质层、第三复合层和第四介质层；第一介质层为SiZrNx+SiNx+ZnAlOx复合结构，第二介质层及第三介质层为ZnSnOx+ZnAlOx或SiNx+ZnAlOx复合结构，第四介质层为SiNx层或SiNx+SiZrNx复合结构；第一复合层、第二复合层和第三复合层包括自下而上依次溅射形成的功能层和保护层。2.根据权利要求1所述的一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层厚度为30
‑
50nm，第二介质层厚度为40
‑
70nm，第三介质层厚度为70
‑
100nm，第四介质层厚度为10
‑
30nm，其中第三层介质层厚度大于其他介质层厚度。3.根据权利要求1所述的一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一复合层和第二复合层中功能层为Ag层，第三复合膜层的功能层为Ag或AgTi膜层。4.根据权利要求1所述的一种中低透可钢低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一复合层中功能层厚度为4
‑
10nm，第二复合层中功能层厚度为12
‑
18nm，第三复合层...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘双，王士成，杨占雨，钟学勇，胡冰，
申请(专利权)人：天津南玻节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：