一种非接触式曝光设备及曝光方法技术

本发明专利技术提供了一种非接触式曝光设备及曝光方法，属于光伏行业中电池镀铜的图形化领域，曝光设备包括安装于底架上的掩膜支撑模组、上料模组、曝光光学模组、定位相机模组、测厚模组和控制模组；上料模组用于将产品相对于掩膜支撑模组的调平、传输、定位和调高；定位相机模组安装于所述曝光光学模组上，用于对下方产品的定位；测厚模组对上料模组上的产品进行厚度检测；曝光方法包括空载调平、上料、测厚、视觉定位、产品平面对正、高度调整、曝光等步骤。本申请的方案结构简单、易于实施、便于维护，成本低、精度高，可在电池片的图形化领域推广应用。广应用。广应用。

【技术实现步骤摘要】
一种非接触式曝光设备及曝光方法


[0001]本专利技术属于光伏行业中电池镀铜的图形化领域，具体涉及一种非接触式曝光设备及曝光方法。

技术介绍

[0002]目前光伏行业中，随着P型电池逼近效率极限，N型电池将逐渐展开对P型的替代。2022年来公布的扩产规划中明确为N型的占比56％，随着N型电池扩产落地，浆料端成本占比将抬升，同时有限的银矿产量无法支撑光伏用银需求的快速增长，推动行业持续进行低银化和去银化探索。
[0003]电镀铜作为去银化终级技术不只是“降本”技术，更是“提效”技术。HJT电池由于膜层原因采用低温工艺，只能采用低温银浆，而低温银浆为纯银和有机物的混合物，导电性能较差，因此耗用银浆较多；银包铜浆料今年底明年初有望迈入量产，但是仍然无法彻底解决银耗问题；而电镀铜工艺制备的纯铜电极电阻显著小于含有机杂质的低温银浆，高宽比更大，遮光更少，线宽有望降至20m以下，“去银化”的同时也可实现更高的转换效率。
[0004]图形化环节是电镀铜技术的核心突破点，可通过掩膜光刻或激光方式实现。掩膜光刻主要是在涂覆感光材料的基材表面，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种非接触式曝光设备，其特征在于：所述非接触式曝光设备包括安装于底架(1000)上的掩膜支撑模组(100)、上料模组(200)、曝光光学模组(300)、定位相机模组(400)、测厚模组(500)和控制模组；其中，所述掩膜支撑模组(100)用于支撑和定位掩膜版；所述上料模组(200)用于将待曝光的产品相对于掩膜支撑模组(100)的调平、传输、定位和调高；所述曝光光学模组(300)用于向所述掩膜支撑模组(100)提供曝光光源；定位相机模组(400)安装于所述曝光光学模组(300)上，用于对下方产品的定位；所述测厚模组(500)用于对上料模组(200)上的产品进行厚度检测；所述控制模组与上料模组(200)、曝光光学模组(300)、定位相机模组(400)和测厚模组(500)电讯连接，用于设备的控制。2.根据权利要求1所述的非接触式曝光设备，其特征在于：所述掩膜支撑模组(100)固定至所述底架(1000)上，并在掩膜支撑模组(100)下方形成料位加工室；所述上料模组(200)在物料传输的X向上设有上料位和加工位，在上料位用于放置产品，加工位位于掩膜支撑模组(100)下方的加工室处用于产品的定位和调高。3.根据权利要求2所述的非接触式曝光设备，其特征在于：所述曝光光学模组(300)设置在所述掩膜支撑模组(100)的一侧，用于提供平行出射的曝光光源。4.根据权利要求1所述的非接触式曝光设备，其特征在于：所述定位相机模组(400)安装于所述曝光光学模组(300)的前端，定位相机模组(400)沿着X向或X向及Z向移动，与曝光光学模组(300)的配合实现对产品的视觉定位。5.根据权利要求1所述的非接触式曝光设备，其特征在于：所述非接触式曝光设备的控制模组包括控制器和控制按钮组(600)，用于控制上料模组...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨鹏，薛峰，邢吉文，谢淑俊，陈曦，曹葵康，
申请(专利权)人：苏州天准科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：