光学玻璃制造技术

本发明专利技术提供一种低分散且折射率极高、具有优良的玻璃稳定性、着色少的光学玻璃。一种光学玻璃，是氧化物玻璃，其特征在于，当以阳离子％表示时，包括：Ｓｉ↑［４＋］：０～３０％，Ｂ↑［３＋］：１０～５５％，Ｌｉ↑［＋］、Ｎａ↑［＋］以及Ｋ↑［＋］的总量小于５％，Ｍｇ↑［２＋］、Ｃａ↑［２＋］以及Ｓｒ↑［２＋］的总量小于５％，Ｂａ↑［２＋］：０～８％，Ｚｎ↑［２＋］：０．１～１５％，Ｌａ↑［３＋］：１０～５０％，Ｇｄ↑［３＋］：０～２０％，Ｙ↑［３＋］：０～１５％，Ｙｂ↑［３＋］：０～１０％，Ｚｒ↑［４＋］：０～２０％，Ｔｉ↑［４＋］：０．１～２２％，Ｎｂ↑［５＋］：０～２０％，Ｔａ↑［５＋］：０～８％，Ｗ↑［６＋］：０～５％，Ｇｅ↑［４＋］：０～８％，Ｂｉ↑［３＋］：０～１０％，Ａｌ↑［３＋］：０～１０％，其中，Ｓｉ↑［４＋］含量与Ｂ↑［３＋］含量的阳离子比Ｓｉ↑［４＋］／Ｂ↑［３＋］小于１．０，换算成氧化物后Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和Ｔａ↓［２］Ｏ↓［５］的总含量小于１４质量％，折射率ｎｄ为１．９２～２．２，阿贝数νｄ为２５～４５。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有高折射率低分散特性的光学玻璃、由所述光学玻璃形 成的模压成形用玻璃块和光学元件及其制造方法、以及光学元件坯料的制 造方法。
技术介绍
由高折射率低分散玻璃形成的透镜通过与由超低分散玻璃形成的透镜 进行组合，而能够修正色差，并且使光学系统小型化。因此，作为构成摄 像光学系统或投影仪等投射光学系统的光学元件，占有非常重要的位置。专利文献1公开了这样的高折射率低分散玻璃。专利文献1:日本专利文献特开昭55—60039号公报。
技术实现思路
但是，高折射率低分散玻璃的高折射率赋予成分的量相对变多，并且 玻璃网络形成成分的量相对减少，因此存在玻璃稳定性下降、容易在制造 过程中失透等问题。另外， 一旦增加高折射率赋予成分，则也存在玻璃的着色变得显著的 问题。本专利技术的目的在于提供一种低分散、且折射率极高、具有优良的玻璃 稳定性、着色少的光学玻璃，并且提供一种由所述光学玻璃形成的模压成 形用玻璃块和光学元件坯料以及提供一种光学元件坯料和光学元件的各个 制造方法。为了达到上述目的，本专利技术人反复进行专心研究，发现具有特定的玻 璃组成、折射率以及阿贝数的光学玻璃能够达到上述目的，基于该见解直 到完成本专利技术。艮口，本专利技术提供以下手段(1) 一种光学玻璃，是氧化物玻璃，其特征在于，当以阳离子％表 示时，包括Si4+: 0 30%，B3+: 10 55%，Li+、 Na+以及K+的总量小于5%，Mg2+、 Ca"以及S,的总量小于5%，Ba2+: 0 8%，Zn2+: 0.1 15%，La3+: 10 50%，Gd3+: 0 20%,Y3+: 0 15%，Yb3+: 0 10%，Zr4+: 0 20%，Ti4+: 0.1 22%，Nb5+: 0 20%，Ta5+: 0 8%，W6+: 0 5%，Ge4+: 0 8%，Bi3+: 0 10%，Al3+: 0 10%，其中，S产含量与B^含量的阳离子比S产/B^小于1.0，换算成氧化物 后柳205和Ta205的总含量小于14质量％，折射率nd为1.92 2.2，阿贝数vd为25 45。(2) 如上述(1)项所述的光学玻璃，其中，玻璃转移温度Tg大于 等于630°C。(3) 如上述(1)项或(2)项所述的光学玻璃，其中，着色度A70 小于470nm。(4) 如上述(1)项至(3)项中任一项所述的光学玻璃，其中，部分分散比Pg、 F和阿贝数vd满足下述(1)式的关系，Pg、 F《一0.0017X vd+0扁 …(1)。(5) —种模压成形用玻璃块，其特征在于，由上述(1)项至(4) 项中任一项所述的光学玻璃形成。(6) —种光学元件，其特征在于，由上述(1)项至(4)项中任一 项所述的光学玻璃形成。(7) —种光学元件坯料的制造方法，所述光学元件坯料通过磨削、 研磨而被做成光学元件，该制造方法的特征在于，对上述(5)项所述的模压成形用玻璃块进行加热、软化，并进行模 压成形。(8) —种光学元件坯料的制造方法，所述光学元件坯料通过磨削、 研磨而被做成光学元件，该制造方法的特征在于，将玻璃原料进行熔融，对所得到的熔融玻璃进行模压成形，制造出由 上述(1)项至(4)项中任一项所述的光学玻璃形成的光学元件坯料。(9) 一种光学元件的制造方法，其特征在于，对上述(7)项或 (8)项所述的光学元件坯料进行磨削、研磨。专利技术的效果本专利技术可以提供一种折射率nd大于等于1.92、阿贝数vd大于等于 25这样的低分散、且折射率极高、具有优良的玻璃稳定性、着色较少的光 学玻璃，并且提供一种由所述光学玻璃形成的模压成形用玻璃块和光学元 件坯料以及提供一种光学元件坯料和光学元件的各个制造方法。根据上述光学元件以及由上述模压成形用玻璃块或光学元件坯料制造 的光学元件、例如透镜，通过与高折射率高分散玻璃制透镜进行组合，也 能够提供小型的色差修正用的光学系统。并且，根据本专利技术的光学玻璃优选的方式，也能够提供与具备上述光 学特性且阿贝数vd相同的玻璃相比部分分散比Pg、 F小、适于高次的色 修正的光学玻璃。通过有效利用这些性质，并与由高折射率高分散光学玻 璃形成的光学元件进行组合，也能够提供适于高次的色差修正的光学元 件。20首先，对本专利技术的光学玻璃进行说明。本专利技术的光学玻璃是氧化物玻璃，其特征在于，当以阳离子％表示 时，包括Si4+: 0 30%，B3+: 10 55%，Li+、 Na+以及K+的总量小于5M，Mg2+、 Ca"以及S,的总量小于5%，Ba2+: 0 8%，Zn2+: 0.1 15%，La3+: 10 50%，Gd3+: 0 20%，Y3+: 0 15%，Yb3+: 0 10%，Zr4+: 0 20%，Ti4+: 0.1 22%，Nb5+: 0 20%，Ta5+: 0 8%，W6、 0 5%，Ge4+: 0 8%，Bi3+: 0 10%，Al3+: 0 10%，其中，S产的含量与B^的含量的阳离子比S产/B^小于1.0，换算成氧 化物，Nb20s和Ta20s的总含量小于14质量％，折射率nd为1.92 2.2， 阿贝数vd为25 45。(组成范围的限定理由)对上述组成范围的限定理由进行说明，只要没有特殊记载，各成分的含量、总含量以阳离子％表示。S产是网目形成阳离子，并且是维持玻璃稳定性、维持适于熔融玻璃的成形的粘度以及改善化学耐久性而有效的成分，如果其量超过30%，则难以实现期望的折射率，并且液相温度或玻璃转移温度会上升。并且，会 产生难以实现期望的阿贝数、玻璃的熔融性恶化、耐失透性恶化等问题。因此，使S产的含量为0 30%。 Si"的含量优选的上限为25%，更优选的 上限为23%，进一步优选的上限为20%，再进一步优选的上限为18%，更 进一步优选的上限为15%，再更进一步优选的上限为12%。从得到含有上 述S产的效果方面出发，S产的含量优选的下限为1%，更优选的下限为 3%，进一步优选的下限为4%，再进一步优选的下限为5%，更进一步优 选的下限为6%。B^是网目形成阳离子，是对于维持玻璃的熔融性、降低液相温度、提 高玻璃稳定性以及低分散化而有效的必需成分。如果其量小于10%，则玻 璃稳定性下降，并且无法得到上述效果，如果其量超过55%，则难以满足 期望的折射率，并且化学耐久性会恶化。因此，使83+的含量为10 55%。 BS+的含量优选的上限为50%，再优选的上限为48%，更优选的上限 为45%，进一步优选的上限为43%，再进一步优选的上限为40%，更进一 步优选的上限为35%，再更进一步优选的上限为32%，尤其优选的上限为 30%， BS+的含量优选的下限为13%,更优选的下限为15%，进一步优选的 下限为18%，再进一步优选的下限为20%,更进一步优选的下限为21%， 再更进一步优选的下限为22%。另外，从维持低分散性、且降低液相温度、改善耐失透性和改善熔融 性、维持适于成形的粘性方面出发，S产的含量与B^的含量的阳离子比 S产/B"小于l。阳离子比S产/B"优选的上限为0.5。阳离子比S产/BS+优选 的下限为0.03。Li+、 Na+以及K+是具有改善熔融性、降低玻璃转移温度的作用的任意 成分。如果Li+、 Na+以及K+的总含量大于等于5%，则难以实现期望的折 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学玻璃，是氧化物玻璃，其特征在于，当以阳离子％表示时，包括：　Ｓｉ↑［４＋］：　０～３０％，　Ｂ↑［３＋］：　１０～５５％，　Ｌｉ↑［＋］、Ｎａ↑［＋］以及Ｋ＋的总量小于５％，　Ｍｇ↑［２＋］、Ｃａ↑［２＋］以及Ｓｒ↑［２＋］ 的总量小于５％，　Ｂａ↑［２＋］：　０～８％，　Ｚｎ↑［２＋］：　０．１～１５％，　Ｌａ↑［３＋］：　１０～５０％，　Ｇｄ↑［３＋］：　０～２０％，　Ｙ↑［３＋］：　０～１５％，　Ｙｂ↑［３＋］：　０～１０％，　Ｚｒ↑［４＋］ ：　０～２０％，　Ｔｉ↑［４＋］：　０．１～２２％，　Ｎｂ↑［５＋］：　０～２０％，　Ｔａ↑［５＋］：　０～８％，　Ｗ↑［６＋］：　０～５％，　Ｇｅ↑［４＋］：　０～８％，　Ｂｉ↑［３＋］：　０～１０％，　Ａｌ↑［３＋］：　０ ～１０％，　其中，Ｓｉ↑［４＋］含量与Ｂ↑［３＋］含量的阳离子比Ｓｉ↑［４＋］／Ｂ↑［３＋］小于１．０，换算成氧化物后Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和Ｔａ↓［２］Ｏ↓［５］的总含量小于１４质量％，　折射率ｎｄ为１．９２～２．２，阿贝数ｖ ｄ为２５～４５。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：根岸智明，邹学禄，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]