一种高纯靶材用钌粉的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高纯靶材用钌粉的制备方法，其步骤包括（1）电化学溶解：将纯度为99.9%的粗钌粉放到装有盐酸的电解槽内，向槽内的两个电极之间施加电压，使钌粉在盐酸溶液中发生电解反应得到氯钌酸溶液；（2）氢氧化钠沉淀：将步骤（1）所得溶液置于反应釜中，在搅拌条件下投入优级纯氢氧化钠进行反应，冷却至室温后过滤得到水合氧化钌沉淀，过滤并用超纯水洗涤并干燥；（3）氢气热还原：将步骤（2）所得钌的氧化物干燥后放入管式炉中通氢还原，获得高纯靶材用钌粉产品。本发明专利技术工艺流程简单，易于实施，钌粉的纯度大于99.999%，球形，粒径5～30μm。μm。μm。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯靶材用钌粉的制备方法


[0001]本专利技术属于粉末冶金
，具体涉及一种高纯靶材用钌粉的制备方法。

技术介绍

[0002]钌为硬质的白色金属，晶体为紧密六方体构型，很难进行机械加工，密度12.30g/cm
‑3，属轻铂族金属，熔点2427℃，沸点4119℃。钌的化学性质非常稳定，普通的酸甚至王水加热条件下均不能将其腐蚀，对氢氟酸也有抵御力；室温条件下，液态氯、液态溴及溶于醇的碘能轻微氧化钌的表层；钌对熔融状态下的金属如Li、K、Na、Pb、Cu、Ag和Au均有抵御力；与强碱氧化物或氢氧化物、硝酸盐或氯酸盐等盐类和氰化物在熔融的状态下发生反应。有氧气存在的条件下，当温度达到450℃以上时，钌能与氧气缓慢反应，产物为略有挥发性的二氧化钌。在300℃时，氟与钌可以生成RuF5，而在450℃时，钌则可以和氯发生作用生产RuCl3。靶材为高速荷能粒子轰击的目标材料，主要应用于电子信息行业，如信息存储、激光存储器、集成电路、电子控制器件、液晶显示屏等。通过磁控溅射钌靶技术生产计算机硬盘的磁记录层，存储容量高达1000Gbit/sq，是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯靶材用钌粉的制备方法，其特征在于包含以下工艺步骤：（1）电化学溶解：将粗钌粉放入装有盐酸的电解槽中，搅拌均匀后，在两个石墨电极上施加电压，钌发生电解反应生成氯钌酸，反应不完全时继续向电解槽内添加盐酸，直至钌粉溶解完全，反应结束后氯钌酸溶液过滤两次，防止未电解完全的固体进入溶液中；（2）氢氧化钠沉淀：将氯钌酸溶液置于双层玻璃反应釜中加热，在搅拌状态下，投入优级纯氢氧化钠，得到微米级球形水合氧化钌沉淀，过滤并用超纯水洗涤、干燥；（3）氢气热还原：将步骤（2）所得水合氧化钌干燥后放入管式炉中控制温度通氢还原，获得高纯球形钌粉产品。2.根据权利要求1所述的一种高纯...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴慧明，王俊，付子超，桂向楠，桂剑标，
申请(专利权)人：江西金海岛新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：