一种匀光片和光学装置制造方法及图纸

本申请公开一种匀光片和光学装置，其特征在于，包括：基底层；第一微透镜阵列层，所述第一微透镜阵列层设置在所述基底层的一侧表面，所述第一微透镜阵列层远离所述基底层的一侧表面为入射面；第二微透镜阵列层，所述第二微透镜阵列层设置在所述基底层的另一侧表面，所述第二微透镜阵列层远离所述基底层的一侧表面为出射面，所述第一微透镜阵列层以及所述第二微透镜阵列层分别包括多个微透镜，通过如此设计可以解决光经过匀光片后形成的光场边缘均匀度不好的技术问题。均匀度不好的技术问题。均匀度不好的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种匀光片和光学装置


[0001]本申请涉及衍射光学的
，具体地涉及一种匀光片和光学装置。

技术介绍

[0002]目前，随着TOF测距、人脸识别、汽车雷达、抬头显示等领域的兴起，匀光片被广泛应用各个行业。在TOF领域中，VCSEL入射到匀光片，经匀光片表面的微型结构，使得出射光具有一定发散角并且光束均匀；在抬头显示领域中，光束入射到匀光片的结构表面，折射后再斜照射到接受面，但光束在匀光片的边缘是有一定角度倾斜入射，扩散后的光场分布不完全均匀。但是现有技术中所采用的匀光片普遍为单面微透镜的设计，光源发射的光束在入射匀光片的边缘时是倾斜入射的，具有一定的入射角，经过匀光片扩散后所形成的光场是不对称分布的，和匀光片中心光束所形成的光场不同。使得中心光场光斑在接收面正中央，并且均匀度很好，左光场光斑不在接收面正中央，并且均匀度不好，容易出现左边偏亮、右边偏暗或者右边偏亮、左边偏暗的不均匀情况。如何解决光经过匀光片后形成的光场边缘均匀度不好的问题是亟需解决的技术问题。
[0003]本
技术介绍
描述的内容仅为了便于了解本领域的相关技术，不视作对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀光片，其特征在于，包括：基底层；第一微透镜阵列层，所述第一微透镜阵列层设置在所述基底层的一侧表面，所述第一微透镜阵列层远离所述基底层的一侧表面为入射面；第二微透镜阵列层，所述第二微透镜阵列层设置在所述基底层的另一侧表面，所述第二微透镜阵列层远离所述基底层的一侧表面为出射面，所述第一微透镜阵列层以及所述第二微透镜阵列层分别包括多个微透镜。2.根据权利要求1所述的匀光片，其特征在于，所述基底层厚度大于等于100um且小于等于1000um，所述基底层材料折射率处于1.4～1.8之间。3.根据权利要求1所述的匀光片，其特征在于，所述微透镜的尺寸大小相同或不同。4.根据权利要求1所述的匀光片，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷述宇，
申请(专利权)人：宁波飞芯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：