用于介质处理设备的盖状态感测机构制造技术

介质处理设备包括：壳体；盖，盖能够在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板(MLB)，主逻辑板支撑控制器，并且具有从MLB周边处的开口端延伸至MLB中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿MLB；在狭槽的第一侧附接至MLB的接收器，以及在狭槽的第二侧附接至MLB的发射器，用于发射能够由接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至壳体的突片，从而当盖处于打开位置和关闭位置中的第一位置时，突片阻挡狭槽并防止接收器检测辐射，并且当盖处于打开位置和关闭位置中的另一位置时，突片离开狭槽并允许接收器检测辐射。测辐射。测辐射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于介质处理设备的盖状态感测机构

技术介绍

[0001]诸如标签打印机的介质处理设备可以包括盖，例如，可以打开盖以进入设备内部、安装介质供应等。此类设备可以包括用于检测盖何时打开的传感器，例如以便中断介质处理，直到盖关闭。然而，这种传感器可能会增加设备的成本和复杂性。
附图说明
[0002]附图连同下面的详细描述一起被并入说明书中并且形成说明书的一部分，并且用于进一步说明包括所要求保护的专利技术的构思的实施例，并且用于解释这些实施例的各种原理和优点，在附图的所有单独视图中，相同的附图标记指代相同或功能上类似的元件。
[0003]图1是介质处理设备的等距视图。
[0004]图2是盖打开的图1的介质处理设备的等距视图。
[0005]图3是图1的介质处理设备的某些内部部件的等距视图。
[0006]图4是图1的介质处理设备的主逻辑板(MLB)和盖状态感测机构图。
[0007]图5A、图5B和图5C是图1的介质处理设备的闩锁感测机构的侧视图。
[0008]本领域技术人员将理解，附图中的元件是为了简单和清楚而示出的，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种介质处理设备，其特征在于，包括：壳体；盖，所述盖能够相对于所述壳体在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板，所述主逻辑板支撑控制器，并且具有从所述主逻辑板周边处的开口端延伸至所述主逻辑板中的狭槽，所述狭槽从上表面到下表面横穿所述主逻辑板；传感器组件，包括：(i)在所述狭槽的第一侧上附接至所述主逻辑板的接收器，以及(ii)在所述狭槽的第二侧上附接至所述主逻辑板的发射器，所述发射器被配置为发射能够由所述接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至所述壳体的突片，(i)当所述盖处于所述打开位置和所述关闭位置中的第一位置时，所述突片阻挡所述狭槽并防止所述接收器检测所述辐射，并且(ii)当所述盖处于所述打开位置和所述关闭位置中的另一位置时，所述突片离开所述狭槽并允许所述接收器检测所述辐射。2.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述发射器和所述接收器位于所述主逻辑板的所述上表面和下表面中的同一个表面上。3.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述发射器包括发光二极管。4.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述接收器包括光电晶体管。5.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述位置中的所述第一位置是关闭位置。6.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述主逻辑板承载控制器；并且其中，所述接收器经由至少一个电路迹线连接至所述控制器。7.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述狭槽是从所述主逻辑板的边缘延伸至所述主逻辑...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖焕华，袁云波，王忠桂，
申请(专利权)人：斑马技术公司，
类型：发明
国别省市：