一种提高光刻胶附着力的金属网格制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高光刻胶附着力的金属网格，包括无效光刻胶区域，无效光刻胶区域内设有外围铜区域，外围铜区域内设有边缘走线区域；边缘走线区域的内部通过搭接区域与面内金属网格区域相连，外围铜区域包括第一外围铜区域和第二外围铜部，两个第一外围铜区域设置在边缘走线区域的横向两侧；两个第二外围铜部对称设置在边缘走线区域的纵向两侧，第二外围铜部包括外围铜引线区域以及第二外围铜区域；第一外围铜区域以及第二外围铜区域呈网格状，本实用新型专利技术由于第一外围网格铜区域和第二外围网格铜区域呈网格状后具有分散作用，膜撕膜时产生的粘性非常低，就不会带起边缘走线区域、搭接区域、面内金属网格区域的光刻胶，避免金属网格失效。免金属网格失效。免金属网格失效。

【技术实现步骤摘要】
一种提高光刻胶附着力的金属网格


[0001]本技术涉及一种金属网格，尤其涉及一种提高光刻胶附着力的金属网格。

技术介绍

[0002]在Metal Mesh(金属网格)柔性触摸sensor制备过程中，需要经过光刻胶涂布、烘烤、曝光、显影、蚀刻、去胶、黑化等制程，在这些制程工艺中常需要使用制程保护膜，以此防止Metal Mesh面内网格和边缘走线刮伤、脱落、断线等问题。
[0003]显影后Metal Mesh的结构示意图如图1
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2所示，Metal Mesh由无效光刻胶区域1、外围铜区域2、边缘走线区域3、搭接区域5、面内金属网格区域4组成，所述无效光刻胶区域1、边缘走线区域3、搭接区域5和面内金属网格区域4的上下表面均具有光刻胶101。
[0004]当将保护膜贴附在显影后Metal Mesh正面和背面时，保护膜的胶层从左到右依次接触到无效光刻胶区域1、外围铜区域2、边缘走线区域3、搭接区域5、面内金属网格区域4、搭接区域5、边缘走线区域3、外围铜区域2和无效光刻胶区域1；其中，保护膜贴附无效光刻胶区域1表面的光刻胶的粘性最大，大约13～20g/25mm，因为此处的保护膜与光刻胶的接触面积最大，从而导致粘性最大；贴附在外围铜区域2的Cu导电层102表面的粘性次之，大约3～10g/25mm；贴附在边缘走线区域3、搭接区域5和面内金属网格区域4的表面光刻胶的粘性最小，大约0～0.5g/25mm，此处的保护膜与光刻胶的接触面积最小，从而导致粘性最大。
[0005]当撕除显影后Metal Mesh的正面保护膜和背面保护膜时，撕膜方向是从左侧的无效光刻胶区域1和外围铜区域2处开始撕膜，这样就相当于保护膜贴附界面的粘性从高粘性突然降低到低粘性，边缘走线区域3、搭接区域5和面内金属网格区域4的表面光刻胶101可能会被带起，并且搭接区域5的光刻胶最容易发生脱落，光刻胶脱落区域的Metal Mesh经过蚀刻后会被蚀刻液蚀刻掉，导致Metal Mesh出现断线现象，从而使得Metal Mesh功能失效。

技术实现思路

[0006]本技术目的是为了克服现有技术的不足而提供一种能保证在撕开位于金属网格正面和背面的保护膜时不会使得金属网格出现断线现象而失效的提高光刻胶附着力的金属网格。
[0007]为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种提高光刻胶附着力的金属网格，包括无效光刻胶区域，所述无效光刻胶区域内设有外围铜区域，所述外围铜区域内设有边缘走线区域，所述边缘走线区域的内部通过搭接区域与面内金属网格区域相连，所述外围铜区域包括：
[0008]第一外围铜区域，两个所述第一外围铜区域设置在所述边缘走线区域的横向两侧；
[0009]第二外围铜部，两个所述第二外围铜部对称设置在所述边缘走线区域的纵向两侧，其中，所述第二外围铜部包括外围铜引线区域以及第二外围铜区域；
[0010]其中，所述第一外围铜区域以及第二外围铜区域呈网格状。
[0011]进一步的，所述第一外围铜区域以及第二外围铜区域是通过Mesh线平行排列组成的阵列金属网格图案，Metal线宽的宽度为2um～10um，Metal线与Metal线组成的阵列金属网格的平行阵列的间距为10um～50um。
[0012]进一步的，所述第一外围铜区域以及第二外围铜区域是通过Mesh线交错排列组成的菱形金属网格图案，Metal线宽的宽度为2um～10um，Metal线与Metal线组成的菱形金属网格的四条边的间距为0.2mm～0.8mm
[0013]由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点：
[0014]1.在外围铜区域的横向方向两侧设计为第一外围铜区域，在外围铜区域的纵向方向的两侧分段设计为外围铜引线区域以及第二外围铜区域，这样当撕膜过程到达外围铜区域时，由于第一外围网格铜区域和第二外围网格铜区域呈网格状后具有分散作用，保护膜的胶体贴附网格的面积非常小，因此保护膜撕膜时产生的粘性非常低，这样就不会带起边缘走线区域、搭接区域、面内金属网格区域的光刻胶，从而有效避免了金属网格失效。
[0015]2.其中的外围铜引线区域保留外围铜的作用，用于大板电测。
附图说明
[0016]下面结合附图对本技术技术方案作进一步说明：
[0017]图1为现有技术中边缘走线区域和搭接区域略去上方的光刻胶后的金属网格的俯视图；
[0018]图2为图1中的A部放大图；
[0019]图3为现有技术中的金属网格的主视图；
[0020]图4为本技术实施例一中的结构示意图；
[0021]图5为本技术实施例一中第一外围铜区域以及第二外围铜区域呈菱形金属网格图案；
[0022]图6为本技术实施例一中第一外围铜区域以及第二外围铜区域呈阵列金属网格图案；
[0023]其中：无效光刻胶区域1、外围铜区域2、边缘走线区域3、面内金属网格区域4、搭接区域5、第一外围铜区域21、外围铜引线区域22、第二外围铜区域23、光刻胶101。
具体实施方式
[0024]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0025]参阅图1
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3，本技术所述的一种提高光刻胶附着力的金属网格，包括呈长方形框状的无效光刻胶区域1，所述无效光刻胶区域1内设有呈长方形框状的外围铜区域2，所述外围铜区域2内设有边缘走线区域3，所述边缘走线区域3的内部通过搭接区域5与面内金属网格区域4相连。
[0026]参阅图4
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5，所述外围铜区域2包括第一外围铜区域21和第二外围铜部；两个第一外围铜区域21设置在所述边缘走线区域3的横向两侧；两个第二外围铜部对称设置在边缘走线区域3的纵向两侧，所述第二外围铜部包括上下设置的外围铜引线区域22以及第二外围铜区域23。
[0027]本实施例中位于边缘走线区域3的纵向左侧为上下设置的外围铜引线区域22以及
第二外围铜区域23，边缘走线区域3的纵向右侧为上下设置的第二外围铜区域23以及外围铜引线区域22，并且，第一外围铜区域21和第二外围铜区域23均呈网格状。
[0028]另外，外围铜引线区域22主要作用是当作铜引线，用于大板电测，第一外围铜区域21和第二外围铜区域23由于其呈网格状，起的主要作用是降低保护膜贴附时的粘性。
[0029]本实施例中的第一外围铜区域21和第二外围铜区域23为通过Mesh线交错排列组成的菱形金属网格图案，Metal线宽的宽度为2um～10um，Metal线与Metal线组成的菱形金属网格的四条边的间距为0.2mm～0.8mm。
[0030]这样在撕膜过程中第一外围铜区域21和第二外围铜区域23由于不是整面的铜，而是由菱形金属网格图案构成的网格铜，当保护膜贴附在第一外围铜区域21和第二外围铜区域23时，由于网格的分散作用，保护膜接触铜的面积下降50倍～100倍，保护膜对第一外围铜区域21和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高光刻胶附着力的金属网格，包括无效光刻胶区域，所述无效光刻胶区域内设有外围铜区域，所述外围铜区域内设有边缘走线区域；所述边缘走线区域的内部通过搭接区域与面内金属网格区域相连，其特征在于，所述外围铜区域包括：第一外围铜区域，两个所述第一外围铜区域设置在所述边缘走线区域的横向两侧；第二外围铜部，两个所述第二外围铜部对称设置在所述边缘走线区域的纵向两侧，其中，所述第二外围铜部包括外围铜引线区域以及第二外围铜区域；其中，所述第一外围铜区域以及第二外围铜区域呈网格状。2.如权利要求1所述的提高光刻胶附着力的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李建军，
申请(专利权)人：牧东光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：