拒液剂、固化性组合物、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、含氟涂膜的制造方法及含氟涂膜技术

本发明专利技术提供一种可制作分隔壁的拒液剂，该分隔壁即便进行氧等离子体处理或UV臭氧处理，拒液性也不易降低。本发明专利技术的拒液剂(A)的特征在于：其包含具有聚合单元(a1)与除上述聚合单元(a1)以外的1种或2种以上的聚合单元(a2)的聚合物，所述聚合单元(a1)由具有至少1个氢原子被氟原子取代的任选包含醚性氧的烷基的烃组成，且上述聚合单元(a1)及上述聚合单元(a2)中所包含的烯属不饱和双键数为3以上。中所包含的烯属不饱和双键数为3以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】拒液剂、固化性组合物、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、含氟涂膜的制造方法及含氟涂膜


[0001]本专利技术涉及拒液剂、固化性组合物、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、含氟涂膜的制造方法及含氟涂膜。

技术介绍

[0002]制造有机EL显示器、微型LED显示器、量子点显示器等显示元件时，作为具有发光等功能的有机层的形成方法，已知喷墨法。喷墨法有数种方法，具体而言可列举出：将自喷嘴滴加至形成于基板上的具有凹凸的图案膜的凹部的油墨固化的方法；或在以亲液部(被油墨润湿的部位)及拒液部(排斥油墨的部位)的形式预先形成于基板上的图案膜上滴加油墨液滴，使油墨仅附着于亲液部的方法等。
[0003]特别是在前者所列举的使自喷嘴滴加至图案膜的凹部的油墨固化的方法中，为了制作此种具有凹凸的图案膜，主要可采用2种方法。一种为通过将已涂布于基板上的感光性抗蚀膜的表面曝光为图案状从而形成曝光部与未曝光部，利用显影液溶解并去除任一部位的光刻法，另一种为使用印刷技术的压印法。通常在形成具有凹凸的图案膜之后，对基板整个面进行UV臭氧处理或氧等离子体处理。通过该UV臭氧处理或氧等离子体处理，尤其可去除图案膜的凹部的残存有机物，减少所滴加的油墨的润湿不均，由此可防止显示元件的缺陷。
[0004]所形成的具有凹凸的图案膜的凸部被称为隔堤(bank)(分隔壁)，向图案膜的凹部滴加油墨时，隔堤作为不使油墨彼此混合的屏障而发挥作用。为了提高该作为屏障的效果，要求图案膜凹部露出基板表面，该基板表面对油墨为亲液性，且隔堤上表面对油墨为拒液性。
>[0005]作为用于形成此种分隔壁的树脂，使用含氟树脂。通过使用含氟树脂而形成的分隔壁的拒液性提升。
[0006]作为包含含氟树脂的抗蚀剂组合物，专利文献1公开有一种抗蚀剂组合物，其特征在于，所述抗蚀剂组合物包含：具有由式1所表示的单体形成的单体单元且氟原子含有率为7～35质量％的含氟树脂(A)；及对波长100～600nm的光有反应的感光性成分，该抗蚀剂组合物的所述含氟树脂(A)相对于总固体成分的比例为0.1～30质量％，所述感光性成分包含光致酸产生剂(B)、具有羧基和/或酚性羟基的碱可溶性树脂(C)及酸交联剂(D)，所述酸交联剂(D)为具有2个以上的可通过酸的作用而与羧基或酚性羟基反应的基团的化合物。CH2＝C(R1)COOXR
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…
式1式1中，R1表示氢原子、甲基或三氟甲基，X表示碳原子数为1～6的二价的不含氟原子的有机基团，R
f
表示碳原子数为4～6的全氟烷基。
[0007]作为含有包含氟原子的聚合单元的拒墨剂，专利文献2公开有一种拒墨剂，其特征在于，其由具有至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数为20以下的烷基(其中，所述烷基包含具有醚性氧的基团)的聚合单元(b1)及具有烯属双键的聚合单元(b2)的聚合物组成，
氟含量为5～25质量％，数均分子量为500以上且小于10,000。
[0008]作为包含含氟树脂的抗蚀剂组合物，专利文献3公开有一种抗蚀剂组合物，其特征在于，所述抗蚀剂组合物包含具有由式1所表示的单体形成的单体单元、具有烯属双键且氟原子含有率为7～35质量％的含氟树脂(A)及对波长100～600nm的光有反应的感光性成分，该抗蚀剂组合物的所述含氟树脂(A)相对于总固体成分的比例为0.1～30质量％，所述感光性成分包含光自由基引发剂(E)、及于1分子内具有酸性基团及2个以上的烯属双键的碱可溶性树脂(F)。CH2＝C(R1)COOXR
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式1式1中，R1表示氢原子、甲基或三氟甲基，X表示碳原子数为1～6的二价的不含氟原子的有机基团，R
f
表示碳原子数为4～6的全氟烷基。
[0009]作为包含具有氟原子的拒墨剂的负型感光性树脂组合物，专利文献4公开有一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，所述负型感光性树脂组合物包含具有光固性的碱可溶性树脂或碱可溶性单体(A)、光自由基聚合引发剂(B)、光致酸产生剂(C)、酸固化剂(D)及具有氟原子的拒墨剂(E)，所述拒墨剂(E)中的所述氟原子的含有率为1～40质量％，所述拒墨剂(E)具有烯属双键。现有技术文献专利文献
[0010]专利文献1：日本专利第4474991号专利文献2：日本专利第4488098号专利文献3：日本专利第4905563号专利文献4：日本专利第6536578号

技术实现思路

本专利技术要解决的技术问题
[0011]如上所述，使用专利文献1～4中记载的抗蚀剂组合物等制作隔堤(分隔壁)时，在形成图案膜后进行UV臭氧处理或氧等离子体处理。通过该处理，可去除图案膜上所残留的残存有机物，可减少所滴加的油墨的润湿不均，但另一方面，隔堤(分隔壁)的拒液性也会降低。其后，隔堤(分隔壁)受到加热处理，隔堤(分隔壁)的拒液性因该加热处理而有一定程度的恢复。然而，即便进行了加热处理，隔堤(分隔壁)的拒液性也不可谓充分。
[0012]本专利技术的技术问题在于提供一种可制作分隔壁的拒液剂，所述分隔壁即便进行氧等离子体处理或UV臭氧处理，拒液性也不易降低。解决技术问题的技术手段
[0013]本申请的专利技术人鉴于上述问题进行了深入研究。结果发现，通过使用包含具有特定结构的聚合物的拒液剂来形成分隔壁，即便进行UV臭氧处理或氧等离子体处理，分隔壁的拒液性也不易降低，从而完成了本专利技术。
[0014]即，本专利技术如下所述。
[0015]本专利技术的拒液剂(A)的特征在于，其包含具有聚合单元(a1)与除上述聚合单元(a1)以外的1种或2种以上的聚合单元(a2)的聚合物，所述聚合单元(a1)由具有至少1个氢原子被氟原子取代的可包含醚性氧的烷基的烃组成，且上述聚合单元(a1)及上述聚合单元
(a2)中所包含的烯属不饱和双键数为3以上。
[0016]本专利技术的拒液剂(A)的特征在于，其包含具有聚合单元(a1)与聚合单元(a21
’
)的聚合物，所述聚合单元(a1)由具有至少1个氢原子被氟原子取代的可包含醚性氧的烷基的烃组成，所述聚合单元(a21
’
)具有2个以上的烯属不饱和双键。
[0017]本专利技术的拒液剂(A)中，优选上述聚合物中的氟原子含量为10～55质量％。
[0018]本专利技术的拒液剂(A)中，优选上述烯属不饱和双键源自丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
[0019]本专利技术的拒液剂(A)中，优选上述聚合物具有下述式(1)所表示的结构。
[0020][化学式1]式(1)中，M表示具有2个以上烯属不饱和双键的结构。R1表示具有取代基或不具有取代基的二价有机连接基团。*表示结合键。
[0021]本专利技术的拒液剂(A)中，优选上述聚合物具有下述式(2)所表示的结构。
[0022][化学式2]式(2)中，M表示具有2个以上烯属不饱和双键的结构。R1表示具有取代基或不具有取代基的二价有机连接基团。*表示结合键。
[0023]本专利技术的拒液剂(A)中，优选上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种拒液剂(A)，其特征在于，其包含具有聚合单元(a1)与除所述聚合单元(a1)以外的1种或2种以上的聚合单元(a2)的聚合物，所述聚合单元(a1)由具有至少1个氢原子被氟原子取代的任选包含醚性氧的烷基的烃组成，且所述聚合单元(a1)及所述聚合单元(a2)中所包含的烯属不饱和双键数为3以上。2.一种拒液剂(A)，其特征在于，其包含具有聚合单元(a1)与聚合单元(a21
’
)的聚合物，所述聚合单元(a1)由具有至少1个氢原子被氟原子取代的任选包含醚性氧的烷基的烃组成，所述聚合单元(a21
’
)具有2个以上的烯属不饱和双键。3.根据权利要求1或2所述的拒液剂(A)，其中，所述聚合物中的氟原子含量为10～55质量％。4.根据权利要求1～3中任一项所述的拒液剂(A)，其中，所述烯属不饱和双键源自丙烯酰基或甲基丙烯酰基。5.根据权利要求1～4中任一项所述的拒液剂(A)，其中，所述聚合物具有下述式(1)所表示的结构，[化学式1]式(1)中，M表示具有2个以上的烯属不饱和双键的结构；R1表示具有取代基或不具有取代基的二价有机连接基团；*表示结合键。6.根据权利要求1～4中任一项所述的拒液剂(A)，其中，所述聚合物具有下述式(2)所表示的结构，[化学式2]式(2)中，M表示具有2个以上的烯属不饱和双键的结构；R1表示具有取代基或不具有取代基的二价有机连接基团；*表示结合键。7.根据权利要求1～4中任一项所述的拒液剂(A)，其中，所述聚合物具有下述式(3)所表示的结构，[化学式3]式(3)中，M表示具有2个以上的烯属不饱和双键的结构，*表示结合键。8.一种固化性组合物，其特征在于，其含有权利要求1～7中任一项所述的拒液剂(A)、包含碱可溶性...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂井田悠太，服部启太，古屋勇希，兼子让，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：