表面处理剂制造技术

本发明专利技术提供一种表面处理剂，该表面处理剂含有含氟代聚醚基的硅烷化合物、含氟代聚醚基的化合物和溶剂，相对于上述含氟代聚醚基的硅烷化合物、上述含氟代聚醚基的化合物和上述溶剂的合计量，上述含氟代聚醚基的硅烷化合物的含量为0.02～50.0质量％，上述含氟代聚醚基的化合物的含量为0.1～95.0质量％，上述溶剂的含量为1～99.88质量％，上述含氟代聚醚基的硅烷化合物为式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物，上述含氟代聚醚基的化合物的沸点为105～210℃。R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂


[0001]本专利技术涉及表面处理剂和具有由该表面处理剂形成的层的物品。

技术介绍

[0002]已知将某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2014－218639号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]专利文献1所记载的含氟硅烷化合物能够形成具有优异功能的表面处理层，但仍寻求具有更高的磨损耐久性的表面处理层。
[0008]本专利技术的目的在于提供一种具有磨损耐久性更高的表面处理层的物品。
[0009]用于解决技术问题的技术手段
[0010]本专利技术包括以下方式。
[0011][1]一种表面处理剂，其含有含氟代聚醚基的硅烷化合物、含氟代聚醚基的化合物和溶剂，
[0012]相对于上述含氟代聚醚基的硅烷化合物、上述含氟代聚醚基的化合物和上述溶剂的合计量，上述含氟代聚醚基的硅烷化合物的含量为0.02～50.0质量％，上述含氟代聚醚基的化合物的含量为0.1～95.0质量％，上述溶剂的含量为1～99.88质量％，
[0013]上述含氟代聚醚基的硅烷化合物为式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物，
[0014]R
F1α
‑
X
A
‑
R
Siβ
ꢀꢀꢀ
(1)
[0015]R
Siγ
X
A
‑
R
F2
‑
X
A
‑
R
Siγ
ꢀꢀꢀ
(2)
[0016][式中，
[0017]R
F1
在每次出现时分别独立地为Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
；
[0018]R
F2
为
‑
Rf
2p
‑
R
F
‑
O
q
‑
；
[0019]Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑
16
烷基；
[0020]Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑6亚烷基；
[0021]R
F
在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基；
[0022]p为0或1；
[0023]q在每次出现时分别独立地为0或1；
[0024]R
Si
在每次出现时分别独立地为以下式(S1)、(S2)、(S3)或(S4)所示的基团，
[0025][0026]‑
SiR
a1k1
R
b111
R
c1m1
ꢀꢀꢀ
(S2)
[0027]‑
CR
d1k2
R
e112
R
f1m2
ꢀꢀꢀ
(S3)
[0028]‑
NR
g1
R
h1
ꢀꢀꢀ
(S4)
[0029](式中，
[0030]R
11
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；
[0031]R
12
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团；
[0032]n1在每个(SiR
11n1
R
123
‑
n1
)单元中分别独立地为0～3的整数；
[0033]X
11
在每次出现时分别独立地为单键或2价有机基团；
[0034]R
13
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团；
[0035]R
14
在每次出现时分别独立地为氢原子、卤原子或－X
11
－SiR
11n1
R
123－n1
；
[0036]R
15
在每次出现时分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基；
[0037]t在每次出现时分别独立地为2以上的整数；
[0038]R
a1
在每次出现时分别独立地为－Z1－SiR
21p1
R
22q1
R
23r1
；
[0039]Z1在每次出现时分别独立地为氧原子或2价有机基团；
[0040]R
21
在每次出现时分别独立地为－Z1′
－SiR
21
′
p1
′
R
22
′
q1
′
R
23
′
r1
′
；
[0041]R
22
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；
[0042]R
23
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团；
[0043]p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0044]q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0045]r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0046]p1、q1和r1的合计在每个(SiR
21p1
R
22q1
R
23r1
)单元中为3；
[0047]Z1′
在每次出现时分别独立地为氧原子或2价有机基团；
[0048]R
21
′
在每次出现时分别独立地为－Z1″
－SiR
22
″
q1
″
R
23
″
r1
″
；
[0049]R
22
′
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团；
[0050]R
23
′
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团；
[0051]p1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0052]q1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0053]r1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
[0054]p1
′
、q1
′
和r1
′
的合计在每个(SiR
21
′...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种表面处理剂，其特征在于：含有含氟代聚醚基的硅烷化合物、含氟代聚醚基的化合物和溶剂，相对于所述含氟代聚醚基的硅烷化合物、所述含氟代聚醚基的化合物和所述溶剂的合计量，所述含氟代聚醚基的硅烷化合物的含量为0.02～50.0质量％，所述含氟代聚醚基的化合物的含量为0.1～95.0质量％，所述溶剂的含量为1～99.88质量％，所述含氟代聚醚基的硅烷化合物为式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物，R
F1α
‑
X
A
‑
R
Siβ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)R
Siγ
‑
X
A
‑
R
F2
‑
X
A
‑
R
Siγ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)式(1)或式(2)中，R
F1
在每次出现时分别独立地为Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
；R
F2
为
‑
Rf
2p
‑
R
F
‑
O
q
‑
；Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑
16
烷基；Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑6亚烷基；R
F
在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基；p为0或1；q在每次出现时分别独立地为0或1；R
Si
在每次出现时分别独立地为以下述式(S1)、(S2)、(S3)或(S4)所示的基团，
‑
SiR
a1k1
R
b111
R
c1m1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(S2)
‑
CR
d1k2
R
e112
R
f1m2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(S3)
‑
NR
g1
R
h1
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(S4)式(S1)、(S2)、(S3)或(S4)中，R
11
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
12
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，n1在每个(SiR
11n1
R
123
‑
n1
)单元中分别独立地为0～3的整数，X
11
在每次出现时分别独立地为单键或2价有机基团，R
13
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，R
14
在每次出现时分别独立地为氢原子、卤原子或
‑
X
11
‑
SiR
11n1
R
123
‑
n1
，R
15
在每次出现时分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基，t在每次出现时分别独立地为2以上的整数，R
a1
在每次出现时分别独立地为
‑
Z1‑
SiR
21p1
R
22q1
R
23r1
，Z1在每次出现时分别独立地为氧原子或2价有机基团，R
21
在每次出现时分别独立地为
‑
Z1′
‑
SiR
21
′
p1
′
R
22
′
q1
′
R
23
′
r1
′
，R
22
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
23
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，
q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，p1、q1和r1的合计在每个(SiR
21p1
R
22q1
R
23r1
)单元中为3，Z1′
在每次出现时分别独立地为氧原子或2价有机基团，R
21
′
在每次出现时分别独立地为
‑
Z1″
‑
SiR
22
″
q1
″
R
23
″
r1
″
，R
22
′
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
23
′
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，p1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r1
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，p1
′
、q1
′
和r1
′
的合计在每个(SiR
21
′
p1
′
R
22
′
q1
′
R
23
′
r1
′
)单元中为3，Z1″
在每次出现时分别独立地为氧原子或2价有机基团，R
22
″
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
23
″
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，q1
″
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r1
″
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q1
″
和r1
″
的合计在每个(SiR
22
″
q1
″
R
23
″
r1
″
)单元中为3，R
b1
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
c1
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，k1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，l1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，m1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，k1、l1和m1的合计在每个(SiR
a1k1
R
b1l1
R
c1m1
)单元中为3，R
d1
在每次出现时分别独立地为－Z2－CR
31p2
R
32q2
R
33r2
，Z2在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团，R
31
在每次出现时分别独立地为－Z2′
－CR
32
′
q2
′
R
33
′
r2
′
，R
32
在每次出现时分别独立地为－Z3－SiR
34n2
R
353－n2
，R
33
在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，p2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，p2、q2和r2的合计在每个(CR
31p2
R
32q2
R
33r2
)单元中为3，Z2′
在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团，R
32
′
在每次出现时分别独立地为－Z3－SiR
34n2
R
353－n2
，R
33
′
在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，q2
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r2
′
在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q2
′
和r2
′

【专利技术属性】
技术研发人员：茂原健介，野村孝史，前平健，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：