一种隔离层溅镀方法技术

本发明专利技术公开了一种隔离层溅镀方法，包括以下步骤：打开上箱门，将基材放置在溅镀装置的基材安装机构上，启动抽真空装置，将溅镀仓内抽真空，打开电磁阀，惰性气体经过惰性气体存储罐、输送管和喷头进入溅镀仓中，本发明专利技术中，驱动轴带动主动轮转动，用传动带带动从动轮转动，带动往复丝杆转动，活动块沿着往复丝杆做往复运动，滑杆沿着滑孔往复运动，带动支架和磁铁往复运动，利用磁铁改变溅镀仓内部的磁场环境，使得等离子体扩散的范围更广，等离子体将靶材的原子轰出，沉积在基材表面。沉积在基材表面。沉积在基材表面。

【技术实现步骤摘要】
一种隔离层溅镀方法


[0001]本专利技术涉及溅镀
，具体涉及一种隔离层溅镀方法。

技术介绍

[0002]溅镀是在真空环境下，通入适当的惰性气体作为媒介，靠惰性气体加速撞击靶材，使靶材表面原子被撞击出来，并在表面形成镀膜，以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额（Yield）产额越高溅射速度越快，以Cu，Au，Ag等最高，Ti，Mo，Ta，W等最低。一般在0.1
‑
10原子/离子。离子可以直流辉光放电产生，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。
[0003]中国专利公开了一种高效的溅镀装置（授权公告号 CN208440690U），该专利技术能够解决现有的溅镀装置的溅镀空间不可调节的问题，但是，溅镀装置工作时会产生较大的热量，不能有效的散热，溅镀仓内部的磁场环境范围较窄，导致等离子体扩散范围较窄，溅镀质量较差。因此，本领域技术人员提供了一种隔离层溅镀方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种隔离层溅镀方法，包括以下步骤：步骤一：打开上箱门，将基材放置在溅镀装置的基材安装机构上，启动抽真空装置，将溅镀仓内抽真空，打开电磁阀，惰性气体经过惰性气体存储罐、输送管和喷头进入溅镀仓中；步骤二：启动循环泵抽取储液箱中的冷却液，从循环管路进入溅镀结构的空腔中，对溅镀机构进行冷却，冷却液在从循环管路进入冷凝器中进行冷却，进入储液箱中，形成循环冷却系统，对溅镀结构进行冷却，提高冷却效率；步骤三：通过加长螺栓与壳体固定，使得压板将靶材固定，压紧结构的设计，便于靶材的安装和更换；向上拉动夹板并转动，使得夹板贴紧基材上端面，从而压紧基材，便于基材的固定，支撑条设置成U型，便于惰性气体的流动，从而提高基材底面的溅镀质量；步骤四：启动电机带动驱动轴转动，带动基材安装机构和基材转动，使得基材充分接触惰性气体，提高基材的溅镀效率，驱动轴带动主动轮转动，用传动带带动从动轮转动，带动往复丝杆转动，活动块沿着往复丝杆做往复运动，滑杆沿着滑孔往复运动，带动支架和磁铁往复运动，利用磁铁改变溅镀仓内部的磁场环境，使得等离子体扩散的范围更广，等离子体将靶材的原子轰出，沉积在基材表面。
[0005]优选地，所述溅镀装置包括下箱体和上箱体，所述下箱体的前端设有下箱门，下箱体的箱壁上安装有排气管，排气管连接抽真空装置，抽真空装置连接进气管，进气管贯穿隔板，隔板位于下箱体和上箱体的连接处，下箱体位于抽真空装置的一侧设有循环冷却机构，
上箱体内部设有溅镀仓，用于抽真空，对基材溅镀使用，上箱体顶部设有惰性气体存储罐，惰性气体存储罐连接输送管，输送管上安装有电磁阀，输送管贯穿上箱体，且上箱体与输送管连接处设有密封绝缘衬垫，输送管位于溅镀仓内部的一端连接喷头，上箱体顶端内壁安装有溅镀机构，位于溅镀机构下方设有基材安装机构，基材安装机构连接磁场干扰机构。
[0006]优选的：所述下箱体的一侧箱壁设有多个透气孔，下箱体的另一侧箱壁设有散热扇。
[0007]优选的：所述循环冷却机构包括冷凝器，冷凝器的一端通过循环管路连接溅镀机构，溅镀机构内设有供冷却液循环的空腔，循环管路贯穿隔板，隔板和循环管路的连接处设有密封绝缘衬垫，冷凝器的另一端连接储液箱，储液箱通过循环管路连接循环泵，循环泵通过循环管路连接溅镀机构。
[0008]优选的：所述溅镀机构包括壳体，壳体内设有供冷却液循环的空腔，壳体下端通过压紧结构安装有靶材，壳体底端设有三个通孔，位于中部的通孔内置阳性电极，位于两侧的两个通孔内置阴性电极。
[0009]优选的：所述压紧结构包括压板，压板安装有贯穿的加长螺栓，壳体对应加长螺栓开设有螺纹孔。
[0010]优选的：所述基材安装机构包括支撑板，支撑板上端面设有多个支撑条，支撑条设置成U型。
[0011]优选的：所述支撑板的四角处安装有贯穿且滑动连接的活动杆，活动杆上端固定连接夹板，活动杆位于支撑板下方处套装有弹簧，基材放置在支撑板上的支撑条上。
[0012]优选的：所述磁场干扰机构包括与支撑板固定连接的驱动轴，驱动轴通过密封轴承转动连接溅镀仓，驱动轴位于溅镀仓外侧的一端连接电机，电机通过电机支架固定连接上箱体。
[0013]优选的：所述驱动轴固定连接主动轮，主动轮位于溅镀仓的外侧，主动轮通过传动带连接从动轮，从动轮连接往复丝杆，且往复丝杆通过轴承转动连接溅镀仓，往复丝杆位于溅镀仓内部处连接活动块，往复丝杆外侧设有丝杆外壳，且丝杆外壳固定连接溅镀仓底端，丝杆外壳的长度小于溅镀仓的长度，活动块的两端固定连接滑杆，丝杆外壳的两侧对应滑杆开设有滑孔，滑杆的末端固定连接支架，支架上安装有磁铁。
[0014]本专利技术的技术效果和优点：1、本专利技术中，启动抽真空装置，将溅镀仓内抽真空，打开电磁阀，惰性气体经过惰性气体存储罐、输送管和喷头进入溅镀仓中，溅镀仓中充满惰性气体，惰性气体在溅镀机构和磁场干扰机构的作用下，加速撞击溅镀机构上的靶材，将靶材表面原子撞击出来，并在基材表面形成镀膜，磁场干扰机构中的磁铁移动，使得磁场分布更加均匀，从而使得镀膜的厚度更加均匀。
[0015]2、本专利技术中，循环泵抽取储液箱中的冷却液，从循环管路进入溅镀结构的空腔中，对溅镀机构进行冷却，冷却液在从循环管路进入冷凝器中进行冷却，进入储液箱中，形成循环冷却系统，对溅镀结构进行冷却，提高冷却效率。
[0016]3、本专利技术中，通过加长螺栓与壳体固定，使得压板将靶材固定，压紧结构的设计，便于靶材的安装和更换。
[0017]4、本专利技术中，利用基材安装机构压紧基材，便于基材的固定，支撑条设置成U型，便
于惰性气体的流动，从而提高基材底面的溅镀质量。
[0018]5、本专利技术中，启动电机带动驱动轴转动，带动基材安装机构和基材转动，使得基材充分接触惰性气体，提高基材的溅镀效率。
[0019]6、本专利技术中，驱动轴带动主动轮转动，用传动带带动从动轮转动，带动往复丝杆转动，活动块沿着往复丝杆做往复运动，滑杆沿着滑孔往复运动，带动支架和磁铁往复运动，利用磁铁改变溅镀仓内部的磁场环境，使得等离子体扩散的范围更广，等离子体将靶材的原子轰出，沉积在基材表面。
附图说明
[0020]图1是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中结构示意图；图2是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中下箱体和上箱体的内部结构示意图；图3是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中循环冷却机构的结构示意图；图4是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中溅镀机构的结构示意图；图5是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中基材安装机构结构示意图；图6是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中磁场干扰机构的结构示意图；图7是本申请实施例提供的隔离层溅镀方法中图6中A处的结构放大示意图；图中：1、下箱体，101、下箱门，102、透气孔，103、排气管，104、散热扇，2、上箱体，201、上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种隔离层溅镀方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：打开上箱门（201），将基材放置在溅镀装置的基材安装机构（12）上，启动抽真空装置（8），将溅镀仓（10）内抽真空，打开电磁阀（5），惰性气体经过惰性气体存储罐（3）、输送管（4）和喷头（6）进入溅镀仓（10）中；步骤二：启动循环泵（903）抽取储液箱（902）中的冷却液，从循环管路（904）进入溅镀结构（11）的空腔中，对溅镀机构（11）进行冷却，冷却液在从循环管路（904）进入冷凝器（901）中进行冷却，进入储液箱（902）中，形成循环冷却系统，对溅镀结构（11）进行冷却，提高冷却效率；步骤三：通过加长螺栓（117）与壳体（1）固定，使得压板（116）将靶材（112）固定，压紧结构的设计，便于靶材（112）的安装和更换；向上拉动夹板（123）并转动，使得夹板（123）贴紧基材上端面，从而压紧基材，便于基材的固定，支撑条（122）设置成U型，便于惰性气体的流动，从而提高基材底面的溅镀质量；步骤四：启动电机（132）带动驱动轴（131）转动，带动基材安装机构（12）和基材转动，使得基材充分接触惰性气体，提高基材的溅镀效率，驱动轴（131）带动主动轮（134）转动，用传动带（135）带动从动轮（136）转动，带动往复丝杆（137）转动，活动块（138）沿着往复丝杆（137）做往复运动，滑杆（1311）沿着滑孔（1310）往复运动，带动支架（1312）和磁铁（1313）往复运动，利用磁铁（1313）改变溅镀仓（10）内部的磁场环境，使得等离子体扩散的范围更广，等离子体将靶材的原子轰出，沉积在基材表面。2.根据权利要求1所述的一种隔离层溅镀方法，其特征在于，所述步骤一中溅镀仓（10）中充满惰性气体，惰性气体在溅镀机构（11）和磁场干扰机构（13）的作用下，加速撞击溅镀机构（11）上的靶材（112），将靶材（112）表面原子撞击出来，并在基材表面形成镀膜，磁场干扰机构（13）中的磁铁（1213）移动，使得磁场分布更加均匀，从而使得镀膜的厚度更加均匀。3.根据权利要求1所述的一种隔离层溅镀方法，其特征在于，所述溅镀装置包括下箱体（1）和上箱体（2），所述下箱体（1）的前端设有下箱门（101），下箱体（1）的箱壁上安装有排气管（103），排气管（103）连接抽真空装置（8），抽真空装置（8）连接进气管（801），进气管（801）贯穿隔板（7），隔板（7）位于下箱体（1）和上箱体（2）的连接处，下箱体（1）位于抽真空装置（8）的一侧设有循环冷却机构（9），上箱体（2）内部设有溅镀仓（10），用于抽真空，对基材溅镀使用，上箱体（2）顶部设有惰性气体存储罐（3），惰性气体存储罐（3）连接输送管（4），输送管（4）上安装有电磁阀（5），输送管（4）贯穿上箱体（2），且上箱体（2）与输送管（4）连接处设有密封绝缘衬垫，输送管（4）位于溅镀仓（10）内部的一端连接喷头（6），上箱体（2）顶端内壁安装有溅镀机构（11），位于溅镀机构（11）下方设有基材安装机构（12），基材安装机构（12）连接磁场干扰...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁国德，
申请(专利权)人：广东德立科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：