本发明专利技术涉及磁瓦清洗技术领域，特别涉及一种磁瓦超声波清洗装置及工艺，设置的装料单元，通过环形挂网上的搭接组件，可一次性放置多个磁瓦，搭接组件结构简单，便于取放磁瓦，提高了对磁瓦的清洗效率，且周向分层分散放置着的磁瓦在清洗时互不影响，避免了磁瓦堆叠重合造成的清洗不彻底的问题；设置的清洗单元，通过在特殊结构的配合清洗池的外端周向来交错设置超声波换能器，能够保证在配合清洗池内的液体中，超声波振动产生的气泡较为均匀，保证不同位置的磁瓦及同一磁瓦的不同面的清洁程度一致，配合清洗池内的液体进行全面的扰动，可以带动液体气泡进行全面、剧烈地振动，到达更为理想的清洁效果。更为理想的清洁效果。更为理想的清洁效果。
【技术实现步骤摘要】
一种磁瓦超声波清洗装置及工艺
[0001]本专利技术涉及磁瓦清洗
，具体为一种磁瓦超声波清洗装置及工艺。
技术介绍
[0002]磁瓦是一种磁性材料，由氧化铁或其他磁性材料制成。磁瓦具有强大的磁力，主要作用是产生磁场和吸引物体，在各种电子设备、机械装置和工业应用中起到重要作用。
[0003]磁瓦在使用一定的段时间过后，需要进行清洗，主要是为了去除磁瓦表面的污垢和杂质，恢复磁瓦的磁性能，提高其可靠性和效率，同时保持卫生和美观。
[0004]对磁瓦进行清洁的方式有多种，常用方式是利用超声波清洗装置来清洗磁瓦，而超声波清洗装置在清洗磁瓦时主要存在以下问题：1、在利用超声波清洗装置清洗磁瓦时，是直接将待清洗的磁瓦放置到超声波清洗装置的水池中进行超声波清洗，若需清洗的磁瓦较多，磁瓦会在水池底部堆积，磁瓦之间重叠压合的部位很难清洗地彻底，同时直接
[0005]在水池中取放磁瓦十分不便，影响磁瓦清洗效率。
[0006]2、超声波换能器一般集中设置在清洗池的底部，在对磁瓦进行超声波清洗时，底部因超声波振动产生的气泡的振动激烈程度较其上层液体大，导致不同位置的磁瓦及同一磁瓦的不同面的清洁程度不一致。
[0007]所以，为了解决磁瓦堆叠导致重合部分清洗不彻底、取放磁瓦不便及超声波产生气泡部位不均匀导致磁瓦清洁程度不一致的问题，本专利技术提供了一种磁瓦超声波清洗装置及工艺。
技术实现思路
[0008]本专利技术提供一种磁瓦超声波清洗装置及工艺，以解决相关技术中的磁瓦堆叠导致重合部分清洗不彻底、取放磁瓦不便及超声波产生气泡部位不均匀导致磁瓦清洁程度不一致的问题。
[0009]本专利技术提供了一种磁瓦超声波清洗装置，包括：清洗单元与装料单元，所述清洗单元左端固定安装有装料单元。
[0010]所述清洗单元包括安装箱体，安装箱体内部设置有配合清洗池，配合清洗池外端周向均匀交错设置有超声波换能器，安装箱体内底端且位于配合清洗池中部固定安装有放置台，放置台上端固定安装有电动机，电动机输出轴上端固定安装有定位凸起件。
[0011]所述装料单元包括升降组件，安装箱体左端固定安装有升降组件，升降组件上固定安装有定位连接件，定位连接件上转动连接有安装连接件，安装连接件下端与定位凸起件插接配合，安装连接件下端周向固定安装有环形挂网，环形挂网上周向均匀设置有搭接组件，搭接组件的两侧设置有侧边防脱组件。
[0012]在其中一个实施例中，所述升降组件包括控制机体，安装箱体左端固定安装有控制机体，控制机体上以滑动配合的方式连接有滑动连接件，控制机体上且位于滑动连接件下侧固定安装有液压件，液压件通过伸缩杆与滑动连接件固定连接，滑动连接件右端固定
安装有伸出板件，伸出板件下端右侧固定安装有定位连接件。
[0013]在其中一个实施例中，所述侧边防脱组件包括固定圆杆，环形挂网上且位于搭接组件两侧对称固定安装有固定圆杆，固定圆杆上均固定连接有固定网板，固定圆杆均上转动连接有可转动网板，且可转动网板位于靠近搭接组件一侧，固定网板与可转动网板之间通过多个弹簧相连接。
[0014]在其中一个实施例中，所述安装连接件包括转动卡接件，定位连接件上转动连接有转动卡接件，转动卡接件下端固定安装有圆形安装板，圆形安装板与转动卡接件之间通过周向均匀设置的稳定加强筋固定连接，转动卡接件与圆形安装板下端均与定位凸起件插接配合。
[0015]在其中一个实施例中，所述配合清洗池前端上侧固定安装有贯穿安装箱体的进液管，进液管中设置有阀门一，配合清洗池底端后侧固定安装有贯穿安装箱体的出液管，出液管中设置有阀门二。
[0016]在其中一个实施例中，所述搭接组件由纵向均匀设置的装载件所组成，每个装载件由两个L形搭接件所组成。
[0017]此外，本专利技术还提供了一种磁瓦超声波清洗工艺，包括以下步骤：
[0018]S1、放置磁瓦：将待清洗的一批磁瓦一一安放到装料单元上，通过装料单元进行分层放置。
[0019]S2、一次清洗：通过装料单元将装载好的磁瓦送入清洗单元中，向清洗单元中加入中性清洗液，对随着装料单元转动的磁瓦进行超声波清洗。
[0020]S3、二次清洗：一次清洗结束排出污液后，再向清洗单元中通入清水进行二次清洗，保证磁瓦的洁净。
[0021]S4、取出干燥：二次清洗完毕后，通过装料单元将磁瓦从清洗单元中移出，随后取出磁瓦，对磁瓦进行集中干燥处理。
[0022]综上所述，本专利技术包括以下至少一种有益技术效果：
[0023]1、本专利技术提供一种磁瓦超声波清洗装置及工艺，设置的装料单元，通过环形挂网上的搭接组件，可一次性放置多个磁瓦，搭接组件结构简单，便于取放磁瓦，提高了对磁瓦的清洗效率，且周向分层分散放置着的磁瓦在清洗时互不影响，避免了磁瓦堆叠重合造成的清洗不彻底的问题；设置的清洗单元，通过在特殊结构的配合清洗池的外端周向来交错设置超声波换能器，能够保证在配合清洗池内的液体中，超声波振动产生的气泡较为均匀，保证不同位置的磁瓦及同一磁瓦的不同面的清洁程度一致，配合清洗池内的液体进行全面的扰动，可以带动液体气泡进行全面、剧烈地振动，来破坏污物与磁瓦表面的吸附作用，引起污物层的疲劳破坏而被剥离磁瓦表面，到达更为理想的清洁效果。
[0024]2、本专利技术设置的侧边防脱组件，磁瓦在随环形挂网转动过程中，在向一侧滑移触碰到可转动网板后，会在弹簧的弹力作用下使得磁瓦向反向滑移，两侧可转动网板之间的相互配合，使得磁瓦不会从搭接组件两侧滑脱。
[0025]3、本专利技术设置的清洗单元与装料单元，通过电动机带动环形挂网进行连续且缓慢地匀速转动，来对液体进行扰动，辅助液体气泡的产生，实现对磁瓦表面彻底地清污处理。
[0026]除了上面所描述的本专利技术实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外，本申请实施例提供的基于一种磁瓦超声
波清洗装置及工艺所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将在具体实施方式中作出进一步的详细说明。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0028]图1为本专利技术的立体结构示意图。
[0029]图2为本专利技术的清洗单元的立体结构示意图。
[0030]图3为本专利技术的装料单元的立体结构示意图。
[0031]图4为本专利技术的主视平面结构示意图。
[0032]图5为本专利技术的图4的A
‑
A向剖视图。
[0033]图6为本专利技术的横向竖直半剖结构示意图。
[0034]图7为本专利技术的图6的B
‑
B向剖视图。
[0035]附图标记：...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁瓦超声波清洗装置，其特征在于：包括：清洗单元(1)与装料单元(2)，所述清洗单元(1)左端固定安装有装料单元(2)；其中：所述清洗单元(1)包括安装箱体(11)，安装箱体(11)内部设置有配合清洗池(12)，配合清洗池(12)外端周向均匀交错设置有超声波换能器(13)，安装箱体(11)内底端且位于配合清洗池(12)中部固定安装有放置台(14)，放置台(14)上端固定安装有电动机(15)，电动机(15)输出轴上端固定安装有定位凸起件(16)；所述装料单元(2)包括升降组件(21)，安装箱体(11)左端固定安装有升降组件(21)，升降组件(21)上固定安装有定位连接件(22)，定位连接件(22)上转动连接有安装连接件(23)，安装连接件(23)下端与定位凸起件(16)插接配合，安装连接件(23)下端周向固定安装有环形挂网(24)，环形挂网(24)上周向均匀设置有搭接组件(25)，搭接组件(25)的两侧设置有侧边防脱组件(26)。2.根据权利要求1所述的一种磁瓦超声波清洗装置，其特征在于：所述升降组件(21)包括控制机体(211)，安装箱体(11)左端固定安装有控制机体(211)，控制机体(211)上以滑动配合的方式连接有滑动连接件(212)，控制机体(211)上且位于滑动连接件(212)下侧固定安装有液压件(213)，液压件(213)通过伸缩杆与滑动连接件(212)固定连接，滑动连接件(212)右端固定安装有伸出板件(214)，伸出板件(214)下端右侧固定安装有定位连接件(22)。3.根据权利要求1所述的一种磁瓦超声波清洗装置，其特征在于：所述侧边防脱组件(26)包括固定圆杆(261)，环形挂网(24)上且位于搭接组件(25)两侧对称固定安装有固定圆杆(261)，固定圆杆(261)上均固定连接有固定网板(262)，固定圆杆(261)均上转动连接有...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾干才，涂锐，张春霖，钟小红，李冬梅，曾令宝，
申请(专利权)人：广东金雁磁电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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