一种四氯化锗储料罐清洗装置制造方法及图纸

技术编号:38846627 阅读:29 留言:0更新日期:2023-09-17 09:57
本实用新型专利技术涉及一种四氯化锗储料罐清洗装置,包括安装座、压紧组件和清洗组件,安装座形成有清洗区,清洗区用于供储料罐的罐口放置;压紧组件沿竖直方向活动设于安装座,且位于清洗区的上方,压紧组件用于与储料罐的罐底抵接,以将储料罐压紧于清洗区,使得储料罐的罐口与清洗区密封配合;清洗组件包括清洗管和泵水组件,清洗管沿竖直方向延伸设置,清洗管设于清洗区的中部,清洗管设有沿其轴向延伸的流道,清洗管的侧壁还设有多个连通流道的清洗孔,多个清洗孔沿清洗管的周向和轴向间隔布设,泵水组件与流道的下端连通,用于向流道内泵水。本实用新型专利技术能够持续对储料罐内部进行冲洗,提高清洗效率。提高清洗效率。提高清洗效率。

【技术实现步骤摘要】
一种四氯化锗储料罐清洗装置


[0001]本技术涉及四氯化锗生产
,尤其涉及一种四氯化锗储料罐清洗装置。

技术介绍

[0002]四氯化锗作为制造光纤预制棒纤芯的掺杂剂,可以提高纤芯的折射率,实现光纤传输的全反射、无损耗并提高传输距离,锗在光纤的生产中具有不可替代性。光纤用四氯化锗与普通的四氯化锗相比,要求其纯度高于99.999999%,砷等有害杂质元素不能被检出,碳氢、氢氧、氢氯等基团的红外吸收峰透过率要高于98%以上,四氯化锗生产后要用储存罐进行保存,光纤用四氯化锗由于其纯度高,腐蚀性强,不能与空气接触,灌装等过程要求不能带人污染,充氮密闭保存等。因此其所用的包装材料要求耐腐蚀,稳定性好,在灌装前还必须对储存罐进行彻底清洗,以防止储存罐内的杂质对四氯化锗造成二次污染。
[0003]专利CN216540072U一种光纤四氯化锗生产用的储存罐的清洗装置,其包括支撑台以及固定连接于支撑台底部四个拐角处的支撑腿,支撑台的内部两侧均开设有滑槽,支撑台的顶部两侧均开设有限位槽,支撑台的顶部设置有放置箱,放置箱底部的四个拐角处均固定连接有滑杆,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种四氯化锗储料罐清洗装置,其特征在于,其包括:安装座,所述安装座形成有清洗区,所述清洗区用于供储料罐的罐口放置;压紧组件,沿竖直方向活动设于所述安装座,且位于所述清洗区的上方,所述压紧组件用于与储料罐的罐底抵接,以将储料罐压紧于所述清洗区,使得储料罐的罐口与清洗区密封配合;清洗组件,包括清洗管和泵水组件,所述清洗管沿竖直方向延伸设置,所述清洗管设于所述清洗区的中部,所述清洗管设有沿其轴向延伸的流道,所述清洗管的侧壁还设有多个连通所述流道的清洗孔,多个所述清洗孔沿所述清洗管的周向和轴向间隔布设,所述泵水组件与所述流道的下端连通,用于向所述流道内泵水。2.根据权利要求1所述的四氯化锗储料罐清洗装置,其特征在于,所述清洗孔在朝向远离所述流道的方向上逐渐向上倾斜设置。3.根据权利要求2所述的四氯化锗储料罐清洗装置,其特征在于,所述清洗管包括第一连接管和第二连接管,所述第二连接管沿竖直方向滑动安装于所述第二连接管的管腔内,以使得所述第二连接管在竖直方向上可伸缩设置,其中,所述第一连接管和所述第二连接管的管腔共同构成所述流道。4.根据权利要求1所述的四氯化锗储料罐清洗装置,其特征在于,所述四氯化锗储料罐清洗装置还包括密封圈,所述密封圈设于所述清洗区,所述密封圈用于与储料罐的罐口抵接。5.根据权利要求4所述的四氯化锗储料罐清洗装置,其特征在于,所述安装座设有上侧开口的安装槽,所述安装槽呈环状设置,且位于所述清洗区;所述四氯化锗储料罐清洗装置还包...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙凡柳绪林夏玲
申请(专利权)人:武汉云晶飞光纤材料有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1