处理盒和电子照相设备制造技术

本发明专利技术涉及处理盒和电子照相设备。该处理盒是可拆卸地安装至电子照相设备的主体上的处理盒，该处理盒包括：电子照相感光构件；调色剂；以及显影构件，其中电子照相感光构件包括表面层，所述表面层是包含以下化合物的组合物的聚合膜：选自由单官能(甲基)丙烯酸系单体和单官能(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种单官能(甲基)丙烯酸系化合物，以及选自由三官能以上的(甲基)丙烯酸系单体和三官能以上的(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种三官能以上的(甲基)丙烯酸系化合物，其中调色剂包含调色剂颗粒和作为外部添加剂的水滑石颗粒，并且其中在STEM

【技术实现步骤摘要】
处理盒和电子照相设备


[0001]本专利技术涉及一种各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

技术介绍

[0002]在最近的电子照相设备中，随着寿命的延长和速度的提高，已经要求小型化和成本降低。然而，在电子照相过程中，寿命的延长和速度的提高容易引起各种不利影响。当为了抵消这些不利影响而添加构件和控制单元时，电子照相设备的尺寸增大，并且其成本也容易增加。因此，为了实现寿命的延长和速度的提高，以及小型化和成本的降低，已经进行了各种尝试来处理各种不利影响。
[0003]作为上述不利影响之一，存在驱动安装在电子照相设备上的电子照相感光构件(以下有时称为“感光构件”)所需的功率由于重复使用而增加的问题。当功率增加大时，从一开始就需要具有相应大输出的驱动装置，因此电子照相设备的尺寸和成本增加。驱动功率与感光构件的驱动扭矩成比例，因此要求最近的感光构件在重复使用时抑制驱动扭矩的增加。
[0004]在日本专利申请特开No.2016
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156977中，描述了一种图像形成方法，该方法涉及随着由重复使用引起的感光构件的充电历史次数的增加而增加无机润滑剂向感光构件表面的供应量。当在感光构件的表面上形成由交联型固化性树脂制成的保护层以赋予高耐久性从而应对长寿命时，通过充电的感光构件的表面的劣化速度的程度变得大于表面磨损速度的程度，并且由于粘附放电产物而增加驱动扭矩。为了抑制驱动转矩的增加，将润滑剂供给到感光构件的表面以形成润滑剂的涂膜，从而能够减小驱动转矩。
[0005]在日本专利申请特开No.2006
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250989中，记载了一种图像形成设备，该图像形成设备包括感光构件和安装在感光构件内部的加热器，在感光构件中，在表面上形成通过固化具有电荷输送性结构的单官能(甲基)丙烯酸系聚合性化合物和不具有电荷输送性结构的三官能以上的(甲基)丙烯酸系单体而获得的保护层。当单官能单体和三官能以上的单体固化时，使三维网络结构发展以增加交联浓度，从而提供具有高硬度、高弹性和高平滑度的保护层。此外，当通过使用加热器降低感光构件表面的湿度时，可以抑制由保护层的磨耗量少引起的表面上的水分吸附量的增加，并且可以解决图像缺失(有时称为“图像模糊”)的问题。
[0006]在日本专利申请特开No.2011
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158790中，记载了图像形成设备，该图像形成设备包括其中表面保护层包含氟的感光构件、检测感光构件表面的摩擦阻力的检测单元、以及根据检测结果改变用于抛光感光构件表面的条件的抛光单元和控制单元。当氟被引入到保护层中时，感光构件的表面的疏水性增强，并且可以抑制图像缺失而不需要设置加热器。此外，即使当放电产物粘附到感光构件的表面和感光构件的氧化劣化由于重复使用而进行，导致水分吸附到氟不能单独抑制吸附的程度时，或者当氟不均匀地包含在保护层的厚度方向上时，图像缺失也可以被检测单元、抛光单元和控制单元可靠地抑制。另外，为了检测摩擦阻力，可以通过测量驱动马达的电流值来测量感光构件的驱动扭矩。
[0007]在日本专利申请特开No.2003
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66637中，记载了图像形成方法，其涉及将含有水滑石化合物的显影剂供给到感光构件表面。当显影剂中具有阴离子交换性的水滑石化合物表现出酸接受效果时，可以有效地去除排放产物，而无需新引入抑制气氛中吸附水分的复杂装置。另外，公开了表面层的一定程度的磨耗可以抑制劣化表面的更新和放电产物对表面的粘附的进展。
[0008]在日本专利申请特开No.2012
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27091中，记载了一种图像形成设备，该图像形成设备包括感光构件和显影单元，该感光构件包括通过固化使具有一个官能团的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物和具有三个以上的官能团的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物而获得的保护层，和该显影单元包括与调色剂一起用作无机润滑剂的诸如水滑石化合物的二维层结构。另外，保护层可以包含氟树脂粉末或金属氟化物作为填料。由于上述组合，即使在重复使用时，也稳定地实现了诸如耐磨耗性、耐刮擦性和清洁性能的改善、图像缺失的抑制和成膜的抑制等效果。
[0009]在日本专利申请特开No.2008
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129481中，记载了用于形成包含水滑石、氟系聚合物纳米颗粒和丙烯酸系树脂的图像的半导体构件。当半导体构件用作充电单元或转印单元中的至少任何一种时，可以抑制纸粉和调色剂粘附到半导体构件的表面。此外，当抑制从半导体构件的渗出时，可以防止感光构件的污染，并且可以在不损害导电性的情况下实现环境变化的抑制和图像品质劣化的消除。此外，可以改善滑动性，并且可以改善耐磨耗性和耐久性。
[0010]在日本专利申请特开No.H03
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152588中，记载了一种电子照相设备，其中由氟化石墨和水滑石化合物形成的涂层至少存在于橡胶状弹性体清洁刮板的远端边缘部。即使当设备长时间在高温环境下安装时，水滑石通过离子交换吸附由氟化石墨产生的氟阴离子，因此可以降低清洁刮板和感光构件之间的摩擦阻力，以改善清洁性能，而不会对图像产生任何不利影响。

技术实现思路

[0011]专利技术要解决的问题
[0012]根据专利技术人所做的研究，在日本专利申请特开No.2016
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156977、日本专利申请特开No.2006
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250989、日本专利申请特开No.2011
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158790、日本专利申请特开No.2003
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66637、日本专利申请特开No.2012
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27091、日本专利申请特开No.2008
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129481和日本专利申请特开No.H03
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152588中描述的任何技术中，存在于感光构件上的用于降低驱动扭矩的物质的种类以及在重复使用时用于降低驱动扭矩的物质的量的变化没有被优化。因此，存在这样的目的，即在长寿命和高速重复使用时抑制驱动扭矩的增加，而不通过添加构件和控制单元来增加电子照相设备的尺寸和成本，并且不依赖于从低温低湿到高温高湿的各种温度湿度环境以及充电部、转印部等中的各种电位设置。
[0013]用于解决问题的方案
[0014]因此，本专利技术的目的是提供一种处理盒，其在长寿命和高速重复使用时抑制驱动扭矩的增加，而不通过添加构件和控制单元来增加电子照相设备的尺寸和成本，并且不依赖于从低温低湿到高温高湿的各种温度湿度环境以及充电部、转印部分中的各种电位设置。
[0015]通过下面描述的本专利技术实现了上述目的。也就是说，根据本专利技术的处理盒是可拆卸地安装至电子照相设备的主体上的处理盒，该处理盒包括：电子照相感光构件；调色剂；以及显影构件，其构造成向电子照相感光构件供给调色剂，其中电子照相感光构件包括表面层，所述表面层是包含以下化合物的组合物的聚合膜：选自由单官能(甲基)丙烯酸系单体和单官能(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种单官能(甲基)丙烯酸系化合物，以及选自由三官能以上的(甲基)丙烯酸系单体和三官能以上的(甲基)丙烯酸系本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理盒，其可拆卸地安装至电子照相设备的主体上，所述处理盒包括：电子照相感光构件；调色剂；以及构造成向所述电子照相感光构件供给所述调色剂的显影构件，其特征在于，所述电子照相感光构件包括表面层，所述表面层是包含以下化合物的组合物的聚合膜：选自由单官能(甲基)丙烯酸系单体和单官能(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种单官能(甲基)丙烯酸系化合物，以及选自由三官能以上的(甲基)丙烯酸系单体和三官能以上的(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种三官能以上的(甲基)丙烯酸系化合物，其中所述调色剂包含调色剂颗粒和作为外部添加剂的水滑石颗粒，以及其中在STEM
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EDS分析的滤波器拟合分析中，所述水滑石颗粒含有氟。2.根据权利要求1所述的处理盒，其中，当所述组合物中所述单官能(甲基)丙烯酸系化合物与所述三官能以上的(甲基)丙烯酸系化合物的含量比由以质量％计的“a”表示时，所述以质量％计的“a”为20质量％至500质量％。3.根据权利要求2所述的处理盒，其中所述表面层具有35％至50％的弹性变形率。4.根据权利要求1～3中任一项所述的处理盒，其中，当所述调色剂中的所述水滑石颗粒与所述调色剂的含量比由以质量％计的“b”表示时，所述以质量％计的“b”为0.010质量％至3.000质量％。5.根据权利要求1～3中任一项所述的处理盒，其中在STEM
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EDS分析的滤波器拟合分析中，所述水滑石颗粒含有镁和铝，以及其中在STEM
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EDS分析的滤波器拟合分析中，镁与铝的以原子数浓度比计的元素比Mg/Al为1.5～4.0。6.根据权利要求5所述的处理盒，其中在STEM
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EDS分析的滤波器拟合分析中，所述水滑石颗粒中的氟与铝的以原子数浓度比计的元素比F/Al为0.03～0.70。7.根据权利要求1～3中任一项所述的处理盒，其中在STEM
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EDS分析的线分析中，在所述水滑石颗粒的内部存在氟。8.根据权利要求1～3中任一项所述的处理盒，其中，当所述组合物中所述单官能...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡口要，中园智晴，下泽秀春，西田孟，奥田笃，桂大侍，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：