大规模压印的方法技术

本发明专利技术有关一种大规模压印的方法，包括：添加步骤，将可溶解性材料倒入样模内，以形成可溶解性模仁，其中可溶解性模仁具有凹凸结构；形成步骤，于可溶解性模仁相对于样模的一侧形成黏着层；取模步骤，将取模装置与黏着层接触，其中：取模装置包含架体结构、以及设置于架体结构上的支撑背板，取模装置是以支撑背板与黏着层接触；分离步骤，以取模装置连带可溶解性模仁相对于样模分离；接触步骤，将可溶解性模仁与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予高温与压力至可溶解性模仁，使高分子材料层具有对应凹凸结构的转印结构并固化；溶解步骤，以溶剂溶解可溶解性模仁，以取得转印对象。本发明专利技术可精准、稳定、持续地以模仁对高分子材料进行压印。料进行压印。料进行压印。

【技术实现步骤摘要】
大规模压印的方法


[0001]本专利技术关于一种压印方法，特别是指一种可连续进行压印，并于压印完成后利用溶剂去除模仁的压印方法。

技术介绍

[0002]以模具在基板上形成印刷图案的方法是为“压印”，其中压印的方法可依照其加工的方式分为“热压印法”、与“光压印法”，具体而言，热压印法包含：将膜具压印于温度达到玻璃转移温度以上的高分子树脂上；以及于高分子树脂冷却至玻璃转移温度下之后，将模具相对于高分子树脂分离，使高分子树脂上形成有与模具上的微结构相对应的转印结构。具体而言，热压印法可参照S.Chou et al.,Appl.Phys.Lett.67,3114(1995)中所述的内容，其是使用热塑性树脂作为加工材料；以及光压印法可参照J.Haisma et al.,J.Vac.Sci.Technol.B 14(6),4124(1996)中所述的内容，其是使用硬化组成物作为加工对象。
[0003]所谓“脱模(mold release)”是将模具与转印对象分离的过程。其中于压印的过程中，会将膜具与高分子材料间进行分离，因此模具的脱模性能对于脱膜过程、与压印质量的影响重大，对于后续模具的维护、或转印结构的完整度有着重大影响。具体而言，美国专利公告号US6,849,558B2与美国专利公开号US2006/0249886A1均提出一种可被溶剂溶解的模具。此种可溶解性模具为透过灌注可溶解性材料至样模内固化取得，之后利用预制件(preform)自样模取出模具。依Journal of Vacuum Science&Technology B 21,2961(2003)所述，预制件与可溶解性材料为相同材料，并于可溶解性材料完全固化前附着至可溶解性材料。一般而言，可溶解性材料的浓度与厚度均会影响固化时间，因此预制件于可溶解性材料固化至何种程度下始能附着考验着操作人员的专业与经验。依M.W.Lin et al.,J.
[0004]Micro/Nanolith.MEMS MOEMS 7(3),033005(2008)所述，其使硬化性组成物中含有含氟单体分子或非反应性的含氟化合物，以改良其脱模性。
[0005]所谓“分子转移光刻”是利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过
蚀刻
制程将光罩上的图形转移到所在基板上，其可以精确地控制形成图形的形状、大小，为半导体领域中的重要制程。依Nanotechnology 24(2013)085302(6pp)所述，模具虽同样为可溶解性模具，但由于采用滚轮方式使模具均匀地置于对象上，因而造成后续所得的微细结构间距扩张而变形。

技术实现思路

[0006]本专利技术所欲解决的问题在于：提供一种压印方法，可以模仁连续进行压印，以取得大规模的转印对象。
[0007]为解决上述的问题，本专利技术提供一种大规模压印的方法，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形
成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一支撑背板与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二支撑背板与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予第一高温至该高分子材料层；以及施予压力至该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及将该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及将该第二支撑背板与该第二胶带分离，并施予第二高温至该高分子材料层，使该高分子材料层固化，其中该第一高温与该第二高温不同；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一支撑背板分离、以及该第二支撑背板分离，以取得转印对象。
[0008]本专利技术另提供一种大规模压印的方法，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一支撑背板与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二支撑背板与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予第一高温至该高分子材料层；以及施予压力至该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及将该第一支撑背板与该第一黏着层分离；以及将该第二支撑背板与该第二黏着层分离，并施予第二高温至该高分子材料层，使该
高分子材料层固化，其中该第一高温与该第二高温不同；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一黏着层、以及该第二黏着层分离，以取得转印对象。
[0009]本专利技术另提供一种大规模压印的方法，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大规模压印的方法，其特征在于，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；一取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一支撑背板与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二支撑背板与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予第一高温至该高分子材料层；以及施予压力至该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及将该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及将该第二支撑背板与该第二胶带分离，并施予第二高温至该高分子材料层，使该高分子材料层固化，其中该第一高温与该第二高温不同；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一支撑背板分离、以及该第二支撑背板分离，以取得转印对象。2.一种大规模压印的方法，其特征在于，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包
含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一支撑背板与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二支撑背板与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予第一高温至该高分子材料层；以及施予压力至该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及将该第一支撑背板与该第一黏着层分离；以及将该第二支撑背板与该第二黏着层分离，并施予第二高温至该高分子材料层，使该高分子材料层固化，其中该第一高温与该第二高温不同；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一黏着层、以及该第二黏着层分离，以取得转印对象。3.一种大规模压印的方法，其特征在于，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一胶带相对于该第一支撑背板的一侧与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二胶带相对于该第二支撑背板的一侧与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取
模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：施予第一高温至该高分子材料层；以及施予压力至该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及将该第一胶带与该第一黏着层分离；以及将该第二胶带与该第二黏着层分离，并施予第二高温至该高分子材料层，使该高分子材料层固化，其中该第一高温与该第二高温不同；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一黏着层、以及该第二黏着层分离，以取得转印对象。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，更包含：剥离步骤，是于该压印步骤后、与该溶解步骤前，将该第一黏着层自该第一可溶解性模仁的表层剥离；以及将该第二黏着层自该第二可溶解性模仁的表层剥离。5.一种大规模压印的方法，其特征在于，包括：添加步骤，是添加可溶解性材料于第一样模以及第二样模内，并固化该可溶解性材料，以于该第一样模中形成第一可溶解性模仁，其中该第一可溶解性模仁具有第一凹凸结构；以及于该第二样模中形成第二可溶解性模仁，其中该第二可溶解性模仁具有第二凹凸结构；形成步骤，于该第一可溶解性模仁相对于该第一样模的一侧形成第一黏着层；以及于该第二可溶解性模仁相对于该第二样模的一侧形成第二黏着层；取模步骤，包含：附着第一取模装置于该第一黏着层相对于该第一样模的一侧，其中该第一取模装置包含：第一架体结构；第一胶带，其是设置于该第一架体结构；以及第一支撑背板，其是设置于该第一胶带，其中该第一取模装置是以该第一支撑背板与该第一黏着层接触；以及附着第二取模装置于该第二黏着层相对于该第二样模的一侧，其中该第二取模装置包含：第二架体结构；第二胶带，其是设置于该第二架体结构；以及第二支撑背板，其是设置于该第二胶带，其中该第二取模装置是以该第二支撑背板与该第二黏着层接触；分离步骤，包含：将该第一取模装置相对于该第一样模分离，其中该第一可溶解性模仁是随着该第一取模装置相对于该第一样模分离；以及将该第二取模装置相对于该第二样模分离，其中该第二可溶解性模仁是随着该第二取模装置相对于该第二样模分离；接触步骤，包含：将该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁相互间隔地与高分子材料层接触；压印步骤，包含：
施予压力至该第一可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第一凹凸结构的第一转印结构；以及该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有对应该第二凹凸结构的第二转印结构；以及以UV光照射该高分子材料层，使该高分料层固化，并使该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及使该第二支撑背板与该第二胶带分离；以及溶解步骤，是提供溶剂溶解该第一可溶解性模仁、与该第二可溶解性模仁，使该固化后的高分子材料层与该第一支撑背板分离、以及该第二支撑背板分离，以取得转印对象。6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，该高分子材料层是形成于基材层上，并且该接触步骤包含：首先：是将该第一可溶解性模仁加热至温度T，其中0<T<T
g
，并使该第一可溶解性模仁与该高分子材料层接触；再来：将该第二可溶解性模仁加热至该温度T，并使该第二可溶解性模仁与该高分子材料层接触；该接触步骤或包含：首先：是将该基材层加热至温度T，其中0<T<T
g
，并使该第一可溶解性模仁与该高分子材料层接触；再来：将该第二可溶解性模仁与该高分子材料层接触；以及该接触步骤或包含：首先：是将该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的部分加热至温度T，其中0<T<T
g
，并使该第一可溶解性模仁与该高分子材料层接触；再来：将该基材层与该第二可溶解性模仁相对应的部分加热至该温度T，并使该第二可溶解性模仁与该高分子材料层接触。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该高分子材料层是形成于基材层上，并且该压印步骤包含：施予该第一高温与该压力至该第一可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第一转印结构；于形成该第一转印结构后，施予该第一高温与该压力至该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第二转印结构；于形成该第二转印结构后，将该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及将该第二支撑背板与该第二胶带分离；以及施予该第二高温至该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁；至该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的位置、以及该基材层与该第二可溶解性模仁相对应的位置；或至该基材层，以使该高分子材料层固化；该压印步骤或包含：施予该第一高温至该基材层；施予该压力至该第一可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第一转印结构；于形成完该第一转印结构后，施予该压力至将该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第二转印结构；将该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及将该第二支撑背板与该第二胶带分离；以及施予该第二高温至该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁；至该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的位置、以及该基材层与该第二可溶解性模仁相对应的位置；或至该
基材层，以使该高分子材料层固化；该压印步骤或包含：施予该第一高温至该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的位置；以及该压力至该第一可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第一转印结构；于形成完该第一转印结构后，施予该第一高温至该基材层与该第二可溶解性模仁相对应的位置；以及该压力至该第二可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第二转印结构；将该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及将该第二支撑背板与该第二胶带分离；以及施予该第二高温至该第一可溶解性模仁与该第二可溶解性模仁；至该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的位置、以及该基材层与该第二可溶解性模仁相对应的位置；或至该基材层，以使该高分子材料层固化；该压印步骤或包含：施予该第一高温与该压力至该第一可溶解性模仁，使该高分子材料层具有该第一转印结构，并使该第一支撑背板与该第一胶带分离；以及施予该第二高温至该第一可溶解性模仁；至该基材层与该第一可溶解性模仁相对应的位置；或至该基材层，以使该高分子材料层与该第一可溶解性模仁相对...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡嵩玟，
申请(专利权)人：永嘉光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：