消光结构、消光装置及模具制造方法及图纸

本申请提供了一种消光结构、消光装置及模具，消光结构包括工作面及设置于工作面上的纹理单元，单个或多个纹理单元周期性间隔设置，相邻两个纹理单元的间隔周期T为80

【技术实现步骤摘要】
消光结构、消光装置及模具


[0001]本技术涉及光学系统杂散光线抑制
，尤其涉及一种消光结构、消光装置及模具。

技术介绍

[0002]光学产品在使用中需要降低散射杂散光对正常光线的影响，以减少眩光和鬼像等成像不清晰的负面影响。
[0003]现有技术中通常对光学产品的表面涂抹消光漆、进行阳极氧化或镀膜处理，以降低总积分反射率。但现有的消光技术均需进行二次处理，不仅成本高，而且可靠性较差，容易失效。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请提供了一种消光结构、消光装置及模具，用于解决现有技术中的光学产品消光技术成本高、可靠性差的问题。
[0005]第一方面，提供一种消光结构，消光结构包括工作面及设置于工作面上的纹理单元，单个或多个所述纹理单元周期性间隔设置，相邻两个所述纹理单元的间隔周期T为80
‑
900μm，所述纹理单元相对于所述工作面凸起的高度H为20
‑
180μm。
[0006]结合第一方面，在一种可能的设计中，相邻两个所述纹理单元的间隔周期T为200
‑
500μm。
[0007]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元相对于所述工作面凸起的高度H为50
‑
120μm。
[0008]结合第一方面，在一种可能的设计中，相邻两个所述纹理单元的间距W为40
‑
620μm。
[0009]结合第一方面，在一种可能的设计中，相邻两个所述纹理单元的间距W为50
‑
200μm。
[0010]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元的表面设置有深度为2
‑
15μm的凹坑和/或高度为2
‑
15μm的凸起。
[0011]结合第一方面，在一种可能的设计中，多个所述纹理单元凸出于所述工作面的表面积之和为R1，所述工作面的面积为R2，1.15≤R1/R2≤3。
[0012]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述R1/R2满足：1.3≤R1/R2≤1.8。
[0013]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元的侧面相对于所述工作面倾斜以形成第一倾斜角，所述第一倾斜角为30
°‑
85
°
。
[0014]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述第一倾斜角为50
°‑
75
°
。
[0015]结合第一方面，在一种可能的设计中，相邻两个所述纹理单元之间形成“S”形的纹理间隙，所述纹理间隙的宽度为20
‑
150μm，其中，当所述纹理单元的侧壁倾斜时，所述纹理间隙的宽度指的是所述纹理间隙底部的宽度。
[0016]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元远离所述工作面的一面设置有凹槽。
[0017]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元包括互呈一定夹角设置的第一条状部及第二条状部。
[0018]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述消光结构包括多排所述纹理单元，相邻两排所述纹理单元的夹角朝向相反。
[0019]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述消光结构还包括凸起部，所述凸起部设置于相邻两排所述纹理单元之间。
[0020]结合第一方面，在一种可能的设计中，所述纹理单元为四棱台结构或四棱锥结构，所述四棱台结构或四棱锥结构的大端与所述工作面连接。
[0021]第二方面，提供一种消光装置，所述消光装置设置有上述任一项所述的消光结构。
[0022]第三方面，提供一种模具，所述模具的型腔面设置有上述任一项所述的消光结构。
[0023]本申请提供的消光结构、消光装置及模具能在制件表面形成微结构，该结构能使得照射进纹理单元间隙内的光线在纹理单元之间多次反射、折射，进而降低光线的强度。相比于现有技术，本申请中的方案成本低、稳定性好且不易失效。
[0024]本申请实施例的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请实施例而了解。本申请实施例的目的和其他优点在说明书以及附图所特别指出的结构来实现和获得。
【附图说明】
[0025]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0026]图1本申请实施例提供的消光结构的结构示意图；
[0027]图2本申请另一实施例提供的消光结构的结构示意图；
[0028]图3为本申请实施例一提供的消光结构的结构示意图；
[0029]图4为本申请实施例二提供的消光结构的结构示意图；
[0030]图5为本申请实施例三提供的消光结构的结构示意图；
[0031]图6为本申请实施例四提供的消光结构的结构示意图；
[0032]图7为本申请实施例五提供的消光结构的结构示意图；
[0033]图8为本申请实施例六提供的消光结构的结构示意图。
[0034]附图标记：
[0035]100
‑
消光结构；
[0036]1‑
纹理单元；
[0037]11
‑
纹理间隙；
[0038]12
‑
凹槽；
[0039]13
‑
第一条状部；
[0040]14
‑
第二条状部；
[0041]15
‑
尖端部；
[0042]16
‑
凸起部；
[0043]2‑
工作面。
[0044]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
【具体实施方式】
[0045]为了更好的理解本申请的技术方案，下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。
[0046]应当明确，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。
[0047]在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其它含义。
[0048]应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0049]需要注意的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种消光结构，其特征在于，包括：工作面及设置于工作面上的纹理单元，单个或多个所述纹理单元周期性间隔设置，相邻两个所述纹理单元的间隔周期T为80
‑
900μm，所述纹理单元相对于所述工作面的凸起的高度H为20
‑
180μm。2.根据权利要求1所述的消光结构，其特征在于，所述消光结构包括以下特征(1)
‑
(2)中的至少一个：(1)相邻两个所述纹理单元的间隔周期T为200
‑
500μm；(2)所述纹理单元相对于所述工作面凸起的高度H为50
‑
120μm。3.根据权利要求1所述的消光结构，其特征在于，相邻两个所述纹理单元的间距W为40
‑
620μm。4.根据权利要求3所述的消光结构，其特征在于，相邻两个所述纹理单元的间距W为50
‑
200μm。5.根据权利要求1所述的消光结构，其特征在于，所述纹理单元的表面设置有深度为2
‑
15μm的凹坑和/或高度为2
‑
15μm的凸起。6.根据权利要求1所述的消光结构，其特征在于，多个所述纹理单元凸出于所述工作面的表面积之和为R1，所述工作面的面积为R2，1.15≤R1/R2≤3。7.根据权利要求6所述的消光结构，其特征在于，所述R1/R2满足：1.3≤R1/R2≤1.8。8.根据权利要求1所述的消光结构，其特征在于，所述纹理单元的侧面相对...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊利，蔡烨程，孙难见，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：新型
国别省市：