本实用新型专利技术公开了一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，包括水流量计、雾化器、第一进水管路、第一进水阀门、第一蒸气管路、第二蒸气管路、第一截止阀门、第二截止阀门、水雾容器和水蒸气检测单元；水流量计的出口通过第一进水管路与雾化器的进水端连接，对进入雾化器的纯水流量进行检测；第一进水阀门安装在第一进水管路上；雾化器通过第一蒸气管路与气室连接，第一截止阀门安装在第一蒸气管路上；雾化器通过第二蒸气管路与水雾容器连接，第二截止阀门安装在第二蒸气管路上；水蒸气检测单元安装在水雾容器内，对水雾容器内的水蒸气参数进行检测。本实用新型专利技术能够确保晶圆表面的PR胶去除工艺质量，有效提高晶圆生产成功率。有效提高晶圆生产成功率。有效提高晶圆生产成功率。
【技术实现步骤摘要】
具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统、ICP刻蚀机
[0001]本技术属于ICP刻蚀
，具体涉及一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统。
技术介绍
[0002]在干法刻蚀设备领域，对于去除晶圆(Wafer)表面的PR胶成分需要晶圆(Wafer)在ICP刻蚀后进清洗腔室去除PR胶，PR胶成分主要是C/H化合物，现有设备是水蒸气解离成HO/H/O等离子与C/H化合物发生化学反应达到去除PR胶的目的，所以水的占有的比例和成分对清洗工艺就尤为重要，目前一些行业内设备上没有侦测纯水被雾化成水蒸气效率的硬件侦测调整系统及相关的软件界面。这样在工艺以及正常处理过程中雾化器功能变异无法判断，这存在有影响产品质量的风险。目前行业内主要是使用雾化器在水流量计前端的管路结构和雾化器在水流量计后面如图1的结构，雾化器2在水流量计1后端时，进入雾化器2前端的水流量是可以通过水流量计1控制，此时水的流量是可控制的和可监测的，但是进入雾化器2之后的水蒸气雾化量是通过雾化器2的实际雾化能力产生的，此时雾化的水蒸气再经过管道和充填器行径进入腔室3。如果雾化器2雾化效率/效果不好，水蒸气的含量不能满足工艺需求，这将会使到晶圆(Wafer)受到影响，同时工艺性能大打折扣。所以需要在这种结构后端增加一种监测雾化器雾化能力的监测系统，以防止这种类似问题的产生以影响正常的半导体工艺制程。
技术实现思路
[0003]解决的技术问题：本技术提出一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，能够对进入气室的水蒸气的参数进行监测，确保晶圆表面的PR胶去除工艺质量，有效提高晶圆生产成功率。
[0004]技术方案：
[0005]一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，所述纯水雾化系统包括水流量计、雾化器、第一进水管路、第一进水阀门、第一蒸气管路、第二蒸气管路、第一截止阀门、第二截止阀门、水雾容器和水蒸气检测单元：
[0006]所述水流量计的出口通过第一进水管路与雾化器的进水端连接，对进入雾化器的纯水流量进行检测；所述第一进水阀门安装在第一进水管路上；
[0007]所述雾化器通过第一蒸气管路与气室连接，第一截止阀门安装在第一蒸气管路上；所述雾化器通过第二蒸气管路与水雾容器连接，第二截止阀门安装在第二蒸气管路上；
[0008]所述水蒸气检测单元安装在水雾容器内，对水雾容器内的水蒸气参数进行检测。
[0009]进一步地，所述纯水雾化系统包括显示器；
[0010]所述水流量计和水蒸气检测单元的数据端均与显示器连接，将进入雾化器的纯水流量值与水雾容器内的水蒸气参数发送至显示器进行显示。
[0011]进一步地，所述水蒸气检测单元采用气压传感器或者蒸汽压力传感器，用于对水
雾容器内的水蒸汽的压力进行检测。
[0012]进一步地，所述水蒸气检测单元采用水蒸气传感器，用于对水雾容器内的水蒸汽的体积密度进行检测。
[0013]进一步地，所述水雾容器的外部包裹有加热单元，用于对水雾容器进行加热。
[0014]进一步地，所述水雾容器的外侧安装有温度传感器。
[0015]进一步地，所述水流量计的前端设置有水流量控制器。
[0016]进一步地，所述纯水雾化系统包括第二进水管路和第二进水阀门；
[0017]所述第二进水管路连接在水流量计的出水端和雾化器的进水端之间；所述第二进水阀门安装在第二进水管路上。
[0018]进一步地，所述第二进水管路的直径小于第一进水管路的直径。
[0019]进一步地，所述第二进水阀门采用节流阀。
[0020]进一步地，所述水雾容器上设置有进气口，进气口通过进气管与氮气冲洗装置连接。
[0021]进一步地，所述水雾容器上设置有氮气出口，氮气出口通过阀门与气室连接。
[0022]进一步地，所述氮气出口依次通过辅助管路、公共管路与气室连接；所述第二蒸气管路远离雾化器的端部与雾辅助管路远离水雾容器的端部相互连接。
[0023]进一步地，所述水雾容器上设置有氮气出口，氮气出口通过阀门与外部空气连接。
[0024]本技术还提及一种ICP刻蚀机，所述ICP刻蚀机包括如前所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统。
[0025]有益效杲：
[0026]本技术提出一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，能够对进入气室的水蒸气的参数进行监测，确保晶圆表面的PR胶去除工艺质量，有效提高晶圆生产成功率。
附图说明
[0027]图1为现有技术中的雾化器管路结构示意图；
[0028]图2为本技术实施例的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统结构图。
具体实施方式
[0029]下面的实施例可使本专业技术人员更全面地理解本技术，但不以任何方式限制本技术。
[0030]图2为本技术实施例的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统结构图。参见图2，所述纯水雾化系统包括水流量计1、雾化器2、第一进水管路、第一进水阀门V1、第一蒸气管路、第二蒸气管路、第一截止阀门V2、第二截止阀门V4、水雾容器4和水蒸气检测单元；所述水流量计1的出口通过第一进水管路与雾化器2的进水端连接，对进入雾化器2的纯水流量进行检测；所述第一进水阀门安装在第一进水管路上；所述雾化器2通过第一蒸气管路与气室3连接，第一截止阀门V2安装在第一蒸气管路上；所述雾化器2通过第二蒸气管路与水雾容器4连接，第二截止阀门V4安装在第二蒸气管路上：所述水蒸气检测单元安装在水雾容器4内，对水雾容器4内的水蒸气参数进行检测。
[0031]正常工艺阶段，纯水经过水流量计1给予流量控制后，水流进入雾化器2雾化后产
生水蒸气通过第一截止阀门V2打开(此时第二截止阀门V4关闭)，进入Applicator与腔室参与Processing。
[0032]雾化效率测试校准阶段，纯水经过水流量计1给予特定数值流量控制后进入后端管路，设定值固定流量的水进入雾化器，经过雾化器2单位时间内雾化后，进入雾化器2后端管路，此时第一截止阀门V2关闭状态，第二截止阀门V4打开状态，水蒸气通过管路进入水雾容器4并被收集储存，单位时间内水雾容器会收集水蒸气，并采用水蒸气检测单元测量得到水雾容器内的水蒸气参数，用户通过观察此时的水蒸气参数对纯水的雾化效率进行预估，判断是否能够满足晶圆生产工艺需求。
[0033]作为其中的一种优选例，所述纯水雾化系统包括显示器；所述水流量计1和水蒸气检测单元的数据端均与显示器连接，将进入雾化器2的纯水流量值与水雾容器内的水蒸气参数发送至显示器进行显示，既便于用户更加准确地判断纯水雾化效率，也有利于正常工艺阶段的纯水水量监测。
[0034]在本实施例中，所述水蒸气检测单元只要能够对进入水雾容器4的水蒸气的其中一种能够表征水蒸气量的参数进行检测即可。例如，所述水蒸气检测单元采用气压传感器或者蒸汽压力传感器，用于对水雾容器4内的水蒸汽的压力进行检测。又例如，所述水蒸气检测单元采用水蒸气传感器本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述纯水雾化系统包括水流量计、雾化器、第一进水管路、第一进水阀门、第一蒸气管路、第二蒸气管路、第一截止阀门、第二截止阀门、水雾容器和水蒸气检测单元；所述水流量计的出口通过第一进水管路与雾化器的进水端连接，对进入雾化器的纯水流量进行检测；所述第一进水阀门安装在第一进水管路上；所述雾化器通过第一蒸气管路与气室连接，第一截止阀门安装在第一蒸气管路上；所述雾化器通过第二蒸气管路与水雾容器连接，第二截止阀门安装在第二蒸气管路上；所述水蒸气检测单元安装在水雾容器内，对水雾容器内的水蒸气参数进行检测。2.根据权利要求1所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述纯水雾化系统包括显示器；所述水流量计和水蒸气检测单元的数据端均与显示器连接，将进入雾化器的纯水流量值与水雾容器内的水蒸气参数发送至显示器进行显示。3.根据权利要求1所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述水蒸气检测单元采用气压传感器或者蒸汽压力传感器，用于对水雾容器内的水蒸汽的压力进行检测。4.根据权利要求1所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述水蒸气检测单元采用水蒸气传感器，用于对水雾容器内的水蒸汽的体积密度进行检测。5.根据权利要求1所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述水雾容器的外部包裹有加热单元，用于对水雾容器进行加热。6.根据权利要求5所述的具有雾化效率监测功能的纯水雾化系统，其特征在于，所述水雾容器的外侧安装有温度传感器。7.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：庄佳伟，卢浩，陈兆超，朱小庆，许开东，
申请(专利权)人：江苏鲁汶仪器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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