显示装置以及制造其的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示装置和制造显示装置的方法。显示装置，包括：显示面板，包括基础衬底和设置在基础衬底上的多个像素；光阻挡缓冲层，设置在显示面板下方，其中，光阻挡缓冲层直接接触基础衬底；以及金属层，设置在光阻挡缓冲层下方，其中，金属层直接接触光阻挡缓冲层。金属层直接接触光阻挡缓冲层。金属层直接接触光阻挡缓冲层。

【技术实现步骤摘要】
显示装置以及制造其的方法


[0001]本专利技术的实现大体上涉及显示装置和制造显示装置的方法。

技术介绍

[0002]显示装置可以包括显示图像的显示面板和设置在显示面板下方的多个功能层。例如，多个功能层可以包括用于保护显示面板免受震动或冲击的缓冲层、用于阻挡外部光的光阻挡层、用于阻挡电磁波的电磁波屏蔽层、用于耗散从显示面板发出的热量的散热层等。
[0003]通常，在制造显示装置的方法中，在分别制造显示面板和多个功能层之后，可以将多个功能层附接到显示面板。例如，显示面板和多个功能层可以通过粘合剂层彼此粘附。在此情况下，由于显示面板和多个功能层之间有杂质嵌入，因此显示装置的显示效率可能降低，并且显示装置的制造工艺的效率可能降低。

技术实现思路

[0004]实施方式提供了显示图像的可折叠显示装置。
[0005]根据实施方式的显示装置包括：显示面板，包括基础衬底和设置在基础衬底上的多个像素；光阻挡缓冲层，设置在显示面板下方，其中，光阻挡缓冲层直接接触基础衬底；以及金属层，设置在光阻挡缓冲层下方，其中，金属层直接接触光阻挡缓冲层。
[0006]在实施方式中，光阻挡缓冲层可以包括聚氨酯丙烯酸酯、硅树脂和环氧树脂中的至少一种以及光阻挡颜料。
[0007]在实施方式中，光阻挡颜料可以包括碳。
[0008]在实施方式中，光阻挡缓冲层的厚度可以等于或大于约50微米并且等于或小于约250微米。
[0009]在实施方式中，光阻挡缓冲层的光吸收率可以是约99.9％或更高。
>[0010]在实施方式中，金属层可以包括铜。
[0011]在实施方式中，金属层的厚度可以等于或大于约10微米并且等于或小于约50微米。
[0012]在实施方式中，光阻挡缓冲层可以包括：光阻挡层，设置在显示面板下方，其中，光阻挡层直接接触基础衬底；以及缓冲层，设置在光阻挡层下方，其中，缓冲层直接接触光阻挡层和金属层中的每一个。
[0013]在实施方式中，光阻挡层的厚度可以等于或大于约10微米并且等于或大于约30微米。
[0014]根据实施方式的制造显示装置的方法包括：形成包括基础衬底和设置在基础衬底上的多个像素的显示面板；通过在基础衬底的下表面上施加包括弹性聚合物和光阻挡颜料的树脂来形成光阻挡缓冲层；以及通过在光阻挡缓冲层的下表面上涂覆金属颗粒来形成金属层。
[0015]在实施方式中，形成光阻挡缓冲层还可以包括通过施加等于或大于约50摄氏度并
且等于或小于约80摄氏度的热量来固化树脂。
[0016]在实施方式中，形成光阻挡缓冲层还可以包括：通过用紫外(UV)光照射树脂并且然后自然干燥树脂来固化树脂。
[0017]在实施方式中，树脂还可以包括固化剂。
[0018]在实施方式中，形成金属层可以包括朝向光阻挡缓冲层的下表面喷射包括金属颗粒的等离子体气体。
[0019]在实施方式中，形成金属层可以包括：在光阻挡缓冲层的下表面上施加包括金属颗粒和溶剂的墨；通过向墨施加等于或大于约40摄氏度并且等于或小于约80摄氏度的热量来蒸发溶剂；以及通过用光照射墨来烧结金属颗粒。
[0020]根据另一实施方式的制造显示装置的方法，包括：形成包括基础衬底和设置在基础衬底上的多个像素的显示面板；通过在基础衬底的下表面上施加包括光阻挡颜料的第一树脂来形成光阻挡层；通过在光阻挡层的下表面上施加包括弹性聚合物的第二树脂来形成缓冲层；以及通过在缓冲层的下表面上涂覆金属颗粒来形成金属层。
[0021]在实施方式中，形成光阻挡层还可以包括通过用UV光照射第一树脂来固化第一树脂。
[0022]在实施方式中，光阻挡层的厚度可以等于或大于约10微米并且等于或小于约30微米。
[0023]在实施方式中，形成金属层可以包括朝向缓冲层的下表面喷射包括金属颗粒的等离子体气体。
[0024]在实施方式中，形成金属层可以包括：在缓冲层的下表面上施加包括金属颗粒和溶剂的墨；通过向墨施加等于或大于约40摄氏度并且等于或小于约80摄氏度的热量来蒸发溶剂；以及通过用光照射墨来烧结金属颗粒。
[0025]根据实施方式的显示装置可以包括直接接触基础衬底的光阻挡缓冲层、以及直接接触光阻挡缓冲层的金属层。在此情况下，基础衬底和光阻挡缓冲层之间以及光阻挡缓冲层和金属层之间不存在粘合剂层。因此，可以不出现由于杂质引起的显示装置的缺陷。
[0026]根据实施方式的制造显示装置的方法可以包括：形成包括基础衬底的显示面板；通过在基础衬底的下表面上施加包括弹性聚合物和光阻挡颜料的树脂来形成光阻挡缓冲层；以及通过在光阻挡缓冲层的下表面上涂覆金属颗粒来形成金属层。因此，与将单独制造的光阻挡缓冲层附接到显示面板或者将单独制造的金属层附接到光阻挡缓冲层的工艺相比，可以有效地提高显示装置的制造工艺的效率。
[0027]根据另一实施方式的制造显示装置的方法可以包括：形成包括基础衬底的显示面板；通过在基础衬底的下表面上施加包括光阻挡颜料的第一树脂来形成光阻挡层；通过在光阻挡层的下表面上施加包括弹性聚合物的第二树脂来形成缓冲层；以及通过在缓冲层的下表面上涂覆金属颗粒来形成金属层。因此，与将单独制造的光阻挡层附接到显示面板、将单独制造的缓冲层附接到光阻挡层或者将单独制造的金属层附接到缓冲层的工艺相比，可以有效地提高显示装置的制造工艺的效率。
附图说明
[0028]附图与描述一起说明本专利技术的实施方式，其中，包括附图以提供对本专利技术的进一
步理解，并且附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分。
[0029]图1是示出根据实施方式的显示装置的剖视图。
[0030]图2、图3、图4、图5、图6和图7是示出制造图1的显示装置的方法的图。
[0031]图8是示出根据另一实施方式的显示装置的剖视图。
[0032]图9、图10和图11是示出制造图8的显示装置的方法的图。
具体实施方式
[0033]将理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、部件、区域、层和/或部分，但是这些元件、部件、区域、层和/或部分不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一元件、部件、区域、层或部分区分开。因此，在不背离本文中的教导的情况下，下面讨论的“第一元件”、“第一部件”、“第一区域”、“第一层”或“第一部分”可以被称为第二元件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。
[0034]本文中所使用的术语仅用于描述特定实施方式的目的，并且不旨在进行限制。除非上下文另外清楚地指示，否则如本文中所使用的，“一”、“一个”、“该”和“至少一个”不表示数量的限制，并且旨在包括单数和复数两者。例如，除非上下文另外清楚地指示，否则“一个元件”具有与“至少一个元件”相同的含义。“至少一个”不应被解释为限制“一”或“一个”。“或”意指“和/或”。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或多个的任意和所有组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，包括：显示面板，包括基础衬底和设置在所述基础衬底上的多个像素；光阻挡缓冲层，设置在所述显示面板下方，其中，所述光阻挡缓冲层直接接触所述基础衬底；以及金属层，设置在所述光阻挡缓冲层下方，其中，所述金属层直接接触所述光阻挡缓冲层。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述光阻挡缓冲层包括聚氨酯丙烯酸酯、硅树脂和环氧树脂中的至少一种以及光阻挡颜料，其中，所述光阻挡颜料包括碳。3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述光阻挡缓冲层的厚度等于或大于50微米并且等于或小于250微米。4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述金属层的厚度等于或大于10微米并且等于或小于50微米。5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述光阻挡缓冲层包括：光阻挡层，设置在所述显示面板下方，其中，所述光阻挡层直接接触所述基础衬底；以及缓冲层，设置在所述光阻挡层下方，其中，所述缓冲层直接接触所述光阻挡层和所述金属层中的每一个，其中，所述光阻挡层的厚度等于或大于10微米并且等于或小于30微米。6.一种制造显示装置的方法，包括：形成包括基础衬底和设置在所述基础衬底上的多个像素的显示面板；通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：金永道，朴峻亨，刘俊优，李昌懋，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：