皮肤用覆膜形成组合物制造技术

本发明专利技术提供一种耐擦拭性优异的皮肤用覆膜形成组合物。本发明专利技术相关的皮肤用覆膜形成组合物，含有下述成分(A)及(B)：(A)硅酮类覆膜形成剂；(B)平均纤维直径为0.1μm以上且7μm以下的纤维，且其相对于覆膜形成组合物的总体为0.05质量％以上且2质量％以下；成分(B)与成分(A)的质量比(B)/(A)为0.05以上且1以下。(A)的质量比(B)/(A)为0.05以上且1以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】皮肤用覆膜形成组合物


[0001]本专利技术涉及能够在皮肤表面上形成良好化妆覆膜的皮肤用覆膜形成组合物。

技术介绍

[0002]已知化妆品中含有纤维的技术，该技术在睫毛膏等中被广泛采用。另外，报告有一种组合物，其目的在于修饰皮肤等角蛋白物质，其在生理学上可容许的介质中含有纤维、以及含羧酸酯基与聚二甲基硅氧烷基的共聚物(专利文献1)。另外，报告有：为了降低含刺激性成分的化妆品的刺激性，而在化妆品中调配纤维的技术(专利文献2)；为了掩饰(camouflage)皮肤缺点，处理皮肤老化的征兆，而含有纤维与抗老化活性剂的化妆品(专利文献3)。另外，有报告指出：为了能获得均匀分散性与分散的长期稳定性优异的调配溶液、乳液、凝胶状物，而调配短纤维的直径为1～500nm、且该单纤维比率的合计Pa达60％以上的纤维分散体(专利文献4)。另外，报告有：含有将直径约2μm的超极细合成纤维切断为5～50μm长度的短纤维的化妆品(专利文献5)。
[0003][专利文献1]日本专利特开2002
‑
193746号公报
[0004][专利文献2]日本专利特开2002
‑
293718号公报
[0005][专利文献3]日本专利特开2002
‑
293731号公报
[0006][专利文献4]日本专利特开2005
‑
320506号公报
[0007][专利文献5]日本专利特开2001
‑
64153号公报

技术实现思路

[0008]本专利技术相关的皮肤用覆膜形成组合物，含有下述成分(A)及(B)：
[0009](A)硅酮类覆膜形成剂；
[0010](B)平均纤维直径为0.1μm以上且7μm以下的纤维，且其相对于覆膜形成组合物的总体为0.05质量％以上且2质量％以下；
[0011]成分(B)与成分(A)的质量比(B)/(A)为0.05以上且1以下。
[0012]另外，本专利技术涉及一种在皮肤表面上的覆膜的制造方法，其中，包括：将上述皮肤用覆膜形成组合物应用于皮肤的步骤。
[0013]另外，本专利技术还涉及一种含有上述皮肤用覆膜形成组合物的覆膜。
附图说明
[0014]图1是表示形成成分(B)纤维时所使用的静电喷雾装置的结构的概略图。
具体实施方式
[0015]专利文献1～3中所使用的纤维直径为0.9dtex(＝10.7μm)，较粗，无法由纤维形成网络，导致化妆覆膜会有耐久性的问题。另外，专利文献4中所使用的纤维的纤维长较长，长宽比极大，因而无法形成耐久性高的覆膜。另外，专利文献5中所记载的化妆品也无法在皮
肤上形成稳定的覆膜。
[0016]另外，根据本专利技术者的研究发现，由专利文献1～5所记载化妆品获得的覆膜对物理性摩擦较弱，会有耐擦拭性的技术问题。
[0017]所以，本专利技术提供一种能在皮肤上形成稳定的覆膜、且所获得的覆膜的耐擦拭性优异的皮肤用覆膜形成组合物。
[0018]因此，本专利技术者为了解决上述技术问题进行了各种研究，结果发现：通过将具有规定的纤维直径的极细短纤维与硅酮类覆膜形成剂以规定的比例调配，能够获得一种皮肤用覆膜形成组合物，其能够在皮肤上形成稳定的覆膜，且所获得的覆膜的耐擦拭性有明显的提高，在将其用作化妆覆膜时也能够提高由化妆覆膜引起的遮盖力。
[0019]如果使用本专利技术的皮肤用覆膜形成组合物，能够在皮肤上形成稳定的覆膜，且所获得的覆膜的耐擦拭性得到明显的提高，在将其用作化妆覆膜时，也能够提高由化妆覆膜引起的遮盖力，能够实现发色性优异的鲜艳色泽。
[0020]本专利技术的皮肤用覆膜形成组合物，含有下述成分(A)及(B)：
[0021](A)硅酮类覆膜形成剂；
[0022](B)平均纤维直径为0.1μm以上且7μm以下的纤维，并且其相对于覆膜形成组合物的总体为0.05质量％以上且2质量％以下；
[0023]成分(B)与成分(A)的质量比(B)/(A)为0.05以上且1以下。
[0024]成分(A)的硅酮类覆膜形成剂是指具有硅酮结构，且涂抹于皮肤时能够在皮肤上形成覆膜的成分。具体而言，硅酮类覆膜形成剂分散或溶解于覆膜形成组合物中。另外，硅酮类覆膜形成剂优选为分散或溶解于油成分中。
[0025]本专利技术中的所谓“硅酮结构”是指下述通式(I)所示的结构。
[0026][0027]通式(I)中，R1各自独立地表示碳原子数为1以上且12以下的烃基；p是1以上的整数。从涂抹于皮肤时能在皮肤上形成耐擦拭性高的覆膜的观点(以下，也称为“形成耐擦拭性优异的覆膜的观点”)、及通用性的观点考虑，R1优选为碳原子数为1以上且12以下的烷基、或碳原子数为6以上且12以下的芳基，更优选为碳原子数为1以上且12以下的烷基或苯基，更优选为碳原子数为1以上且3以下的烷基，进一步更优选为甲基。
[0028]成分(A)的硅酮类覆膜形成剂优选为在结构的一部分中具有硅酮结构的聚合物，不仅含有D单元(R
12
SiO
2/2
)结构，也可以含有M单元(R
13
SiO
1/2
)结构、T单元(R1SiO
3/2
)结构、Q单元(SiO
4/2
)结构。
[0029]当在结构的一部分中具有硅酮结构的聚合物的情况下，该硅酮结构可以是在聚合物中的主链或侧链的任一处存在，优选为存在于侧链。
[0030]当硅酮结构存在于聚合物的主链的情况下，对于其键合形态并没有特别的限制，例如：硅酮结构可以存在于聚合物主链的末端，也可以是硅酮结构在聚合物主链中以嵌段方式或无规方式键合的共聚物。
[0031]另外，也可以是被具有硅酮结构的化合物进行了接枝改性的聚合物。
[0032]作为成分(A)的具体例，可以使用选自硅酮改性普鲁兰多糖、含硅酮结构的硅酸化合物、及硅酮树枝状聚合物中的1种或2种以上。
[0033]作为硅酮改性普鲁兰多糖，可举出例如在侧链具有硅酮结构的普鲁兰多糖，具体而言，从形成耐擦拭性优异的覆膜的观点、及通用性的观点考虑，优选为普鲁兰多糖中的OH基的氢原子的至少一部分被下述通式(1)所示的基团取代的硅酮改性普鲁兰多糖。
[0034]‑
Z1‑
SiX
a
R
23
‑
a
ꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0035]式中，Z1是单键或二价有机基团。R2各自独立地表示碳原子数为1以上且12以下的烷基；X是下述式(i)所示的基团。a是1以上且3以下的整数。
[0036][0037]式中，R1与上述相同，c是1以上且5以下的整数。
[0038]从形成耐擦拭性优异的覆膜的观点、及通用性的观点考虑，X优选为三甲基硅烷氧基，a优选为3。
[0039]通式(1)中，从形成耐擦拭性优异的覆膜的观点、及通用性的观点考虑，Z1优选为二价有机基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种皮肤用覆膜形成组合物，其中，含有下述成分(A)及(B)：(A)硅酮类覆膜形成剂；(B)平均纤维直径为0.1μm以上且7μm以下的纤维，且其相对于覆膜形成组合物的总体为0.05质量％以上且2质量％以下；成分(B)与成分(A)的质量比(B)/(A)为0.05以上且1以下。2.如权利要求1所述的皮肤用覆膜形成组合物，其中，成分(B)为含有水不溶性聚合物的纤维。3.如权利要求1或2所述的皮肤用覆膜形成组合物，其中，成分(B)的长宽比即平均纤维长度/平均纤维直径为10以上且300以下。4.如权利要求1～3中的任一项所述的皮肤用覆膜形成组合物，其中，成分(A)含量相对于覆膜形成组合物的总体为0.01质量％以上且10质量％以下。5.如权利要求1～4中的任一项所述的皮肤用覆膜形成组合物，其中，进一步含有成分(C)，(C)选自水及非挥发性的在20℃...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤元章，石田华绪梨，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：