【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有保留强度的透明玻璃陶瓷制品及包含它的显示设备
[0001]优先权声明
[0002]本申请根据35U.S.C.
§
119主张于2021年4月1日提交的美国临时申请第63/169,376号及2021年11月24日提交的美国临时申请第63/282,720号的优先权权益。这些申请中的每一者的整体内容藉由引用而为了所有目的并入本文。
[0003]领域
[0004]本公开涉及用于保护光学制品及显示设备的透明制品,更具体为具有玻璃陶瓷基板的透明制品,玻璃陶瓷基板具有设置于其上的光学膜结构,光学膜结构呈现各种光学及机械性能属性,包括高硬度、适光透射率(photopic transmittance)、低透射颜色(transmitted color)、抗损伤性、高模量、高断裂韧性和/或保留强度(retained strength)。
[0005]背景
[0006]具有玻璃基板的覆盖制品通常用于保护电子产品及系统内的关键装置及部件(例如,移动装置、智能型手机、平板计算机、手持装置、车载显示器以及具有显示器、相机、光源和/或传感器的其他电子装置)。这些覆盖制品还可以用于建筑制品、运输制品(例如,用于汽车应用、火车、飞行器、航海器等的制品)、家电制品或需要一定透明度、耐刮擦性、耐磨性或其组合的任何制品。
[0007]使用覆盖玻璃制品的这些应用通常需要机械及环境耐久性、抗破损性、抗损伤性、耐刮擦性以及强大的光学性能特征的组合。举例而言,覆盖制品可能需要在可见光谱中呈现高透射率、低反射率和/或低透射颜色。在一些 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种透明制品,包含:玻璃陶瓷基板,其包含第一主表面和第二主表面,所述主表面彼此相对;以及光学膜结构,其限定外表面,该光学膜结构设置在该第一主表面上,其中该玻璃陶瓷基板包含至少40重量%的结晶度,其中该光学膜结构包含多个交替的高折射率(RI)层和低RI层以及耐刮擦层,其中该制品呈现大于80%的平均适光透射率,其中该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下呈现小于4的透射颜色√(a*2+b*2),其中该制品呈现藉由玻氏硬度测试在距离该光学膜结构的该外表面约100nm至约500nm的压痕深度范围内测量的大于10GPa的最大硬度,以及其中该玻璃陶瓷基板进一步包含大于85GPa的弹性模量以及大于0.8MPa
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√m的断裂韧性。2.如权利要求1所述的透明制品,其中该基板包含大于95GPa的弹性模量以及大于1.0MPa
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√m的断裂韧性。3.如权利要求1或权利要求2所述的透明制品,其中该制品呈现藉由玻氏硬度测试在距离该光学膜结构的该外表面约100nm至约500nm的压痕深度范围内测量的大于14GPa的最大硬度。4.如权利要求1
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3中任意一项所述的透明制品,其中该制品呈现大于90%的平均适光透射率,并且该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下进一步呈现小于2的透射颜色√(a*2+b*2)。5.如权利要求1
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4中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板包含至少75重量%的结晶度。6.如权利要求1
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5中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板包含二硅酸锂相。7.如权利要求6所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板进一步包含透锂长石相。8.如权利要求1
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7中任意一项所述的透明制品,其中每一高RI层和该耐刮擦层包含Si3N4、SiN
y
和SiO
x
N
y
中之一或更多者,每一低RI层包含SiO2和SiO
x
中之一或更多者,且其中每一高RI层进一步具有约5nm至约300nm的厚度,每一低RI层具有约5nm至约300nm的厚度,该耐刮擦层具有约200nm至约10000nm的厚度。9.如权利要求1
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8中任意一项所述的透明制品,其中该光学膜结构包含外结构和内结构,该耐刮擦层设置在该外结构与内结构之间。10.如权利要求1
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9中任意一项所述的透明制品,其中该制品呈现小于1%的透射雾度。11.如权利要求1
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10中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板经化学强化,并具有约200MPa至约400MPa的表面压缩应力以及约1μm至15μm的层压缩深度。12.如权利要求11所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板进一步呈现约80MPa至约200MPa的最大中心张力(CT)值,且其中该基板进一步具有约0.6mm或更小的厚度。13.一种透明制品,包含:玻璃陶瓷基板,其包含第一主表面和第二主表面,所述主表面彼此相对;以及光学膜结构,其限定外表面,所述光学膜结构设置在该第一主表面上,其中该玻璃陶瓷基板包含至少40重量%的结晶度,
其中该光学膜结构包含多个交替的高折射率(RI)层和低RI层以及耐刮擦层,其中该制品呈现大于80%的平均适光透射率,其中该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下呈现小于4的透射颜色√(a*2+b*2),以及其中通过维氏压痕损伤测试方法利用1000g负载进行测试,该制品呈现横向裂纹区域,该横向裂纹区域具有小于160微米的平均最大线性尺寸或小于25000μm2的横向裂纹面积。14.如权利要求13所述的透明制品,其中通过在光学膜结构的外表面上利用锥形钻石压痕器的斜坡负载刮痕测试方法测试,该制品呈现针对横向裂纹形成的约340mN或更大的负载阈值。15.如权利要求13或14所述的透明制品,其中该制品呈现大于90%的平均适光透射率,并且该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下进一步呈现小于2的透射颜色√(a*2+b*2)。16.如权利要求13
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15中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板包含至少75重量%的结晶度。17.如权利要求13
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16中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板包含二硅酸锂相。18.如权利要求17所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板进一步包含透锂长石相。19.如权利要求13
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18中任意一项所述的透明制品,其中每一高RI层和该耐刮擦层包含Si3N4、SiN
y
和SiO
x
N
y
中之一或更多者,每一低RI层包含SiO2和SiO
x
中之一或更多者,且其中每一高RI层进一步具有约5nm至约300nm的厚度,每一低RI层具有约5nm至约300nm的厚度,该耐刮擦层具有约200nm至约10000nm的厚度。20.如权利要求13
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19中任意一项所述的透明制品,其中该光学膜结构包含外结构和内结构,该耐刮擦层设置在该外结构与内结构之间。21.如权利要求13
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20中任意一项所述的透明制品,其中该制品呈现小于1%的透射雾度。22.如权利要求13
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21中任意一项所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板经化学强化,并具有约200MPa至约400MPa的表面压缩应力以及约1μm至15μm的层压缩深度。23.如权利要求22所述的透明制品,其中该玻璃陶瓷基板进一步呈现约80MPa至约200MPa的最大中心张力(CT)值,且其中该基板进一步具有约0.6mm或更小的厚度。24.一种透明制品,包含:玻璃陶瓷基板,其具有约1.52或更大的折射率并包含第一主表面和第二主表面,所述主表面彼此相对;以及光学膜结构,其限定外表面,该光学膜结构设置在该第一主表面上,其中该玻璃陶瓷基板包含至少40重量%的结晶度,其中该光学膜结构包含多个交替的高折射率(RI)层和低RI层以及耐刮擦层,其中该制品呈现大于80%的平均适光透射率,其中该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下呈现小于4的透射颜色√(a*2+b*2),其中该光学膜结构包含外结构与内结构,耐刮擦层设置在外结构与内结构之间,
其中该光学膜结构的内结构经配置以基本上匹配该玻璃陶瓷基板与该耐刮擦层之间的光学阻抗,以及其中该玻璃陶瓷基板还包含大于85GPa的弹性模量以及大于0.8MPa
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√m的断裂韧性。25.如权利要求24所述的透明制品,其中该制品呈现藉由玻氏硬度测试在距离该光学膜结构的该外表面约100nm至约500nm的压痕深度范围内测量的大于14GPa的最大硬度。26.如权利要求24或25所述的透明制品,其中通过维氏损伤测试方法利用1000g负载进行测试,该制品呈现横向裂纹区域,该横向裂纹区域具有小于160微米的平均最大线性尺寸或小于25000μm2的横向裂纹面积。27.如权利要求24
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26中任意一项所述的透明制品,其中该制品呈现大于90%的平均适光透射率,并且该制品利用D65照明体在0度至10度的入射角下进一步呈现小于2的透射颜色√(a*2+b*2)。28.如权利要求24
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27中任意一项所述的透明制品,其中每一高RI层和该耐刮擦层包含Si3N4、SiN
y
和SiO
x
N
y
中之一或更多者,每一低RI层包含SiO2和SiO
x
中之一或更多者。29.如权利要求24
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28中任意一项所述的透明制品,其中每一高RI层具有约5nm至约300nm的厚度,每一低RI层具有约5nm至约300nm的厚度,该耐刮擦层具有约200nm至约10000nm的厚度。30.如权利要求24
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29中任意一项所述的透明制品,其中该光学膜结构的内结构中的低RI层的体积小于约59%,该光学膜结构的内结构中的高RI层的体积大于约41%。31.如权利要求24
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30中任意一项所述的透明制品,其中该制品呈现小于1%的透射雾度。32.一种显示设备,其包含权利要求1
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12中任意一项所述的透明制品,其中该透明制品作为该显示设备的保护盖板。33.一种显示设备,其包含权利要求13
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23中任意一项所述的透明制品,其中该透明制品作为该显示设备的保护盖板。34.一种显示设备,其包含权利要求24
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31中任意一项所述的透明制品,其中该透明制品作为该显示设备的保护盖板。35.一种透明制品,包含:玻璃陶瓷基板,其包含第一主表面和第二主表面,所述主表面彼此相对;以及光学膜结构,其包含内表面和外表面,该光学膜结构的该内表面设置在该第一主表面上,其中该玻璃陶瓷基板包含至少40重量%的结晶度,其中该光学膜结构包含多个交替的高折射率(RI)层和低RI层以及耐刮擦层,其中该制品呈现大于80%的平均适光透射率,其中该制品呈现藉由玻氏硬度测试在距离该光学膜结构的该外表面约100nm至约500nm的压痕深度范围内测量的大于10GPa的最大硬度,其中该玻璃陶瓷基板包含大于85GPa的弹性模量以及大于0.8MPa
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√m的断裂韧性,以及其中该光学膜结构进一步呈现大于或等于700MPa的残余压缩应力以及大于或等于140GPa的弹性模量。
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【专利技术属性】
技术研发人员:J,
申请(专利权)人:康宁精密材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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