基质检测装置以及检测电子雾化装置的基质的检测装置制造方法及图纸

本申请公开了一种基质检测装置，其包括检测腔室、入口、出口、第一偏光片、第二偏光片、光发射单元、光检测单元和计算单元。检测腔室具有相背的第一侧和第二侧。入口连通检测腔室，出口连通检测腔室。第一偏光片允许沿第一方向振动的光通过。第二偏光片相对第一偏光片设置并在二者之间限定检测腔室，且允许沿第二方向振动的光通过。光发射单元设置于第一侧，用于对准所述第一偏光片发射入射光线，入射光线经由第一偏光片后入射至检测腔室为第一光线。光检测单元设置于第二侧，用于检测自检测腔室经由第二偏光片出射的第二光线。计算单元用于和光检测单元连接，并计算第二光线的强度。通过上述方式，能够提高基质检测装置的检测效率。能够提高基质检测装置的检测效率。能够提高基质检测装置的检测效率。

【技术实现步骤摘要】
基质检测装置以及检测电子雾化装置的基质的检测装置


[0001]本申请涉及检测装置
，特别是涉及一种基质检测装置。

技术介绍

[0002]目前，相关技术中，检测用于电子雾化器的基质是否含有旋光物质(例如，尼古丁)需要运用专用试纸，其操作繁琐，反应速度慢，且不可循环利用，只能应用于实验室中检测，不适用于电子雾化器生产制造过程中的频繁检验。

技术实现思路

[0003]本申请主要解决的技术问题是提供一种基质检测装置，能够提高基质检测装置的检测效率。
[0004]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种基质检测装置。基质检测装置包括检测腔室、入口、出口、第一偏光片、第二偏光片、光发射单元、光检测单元和计算单元。检测腔室用于容纳待测基质，具有相背的第一侧和第二侧。入口连通检测腔室，用于将待测基质输入检测腔室。出口连通检测腔室，用于将待测基质自检测腔室排出。第一偏光片允许沿第一方向振动的光通过。第二偏光片相对第一偏光片设置并在二者之间限定检测腔室，且允许沿第二方向振动的光通过。光发射单元设置于第一侧，用于对准第一偏光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基质检测装置，其特征在于，包括：检测腔室，用于容纳待测基质，具有相背的第一侧和第二侧；入口，连通所述检测腔室，用于将待测基质输入所述检测腔室；出口，连通所述检测腔室，用于将待测基质自所述检测腔室排出；第一偏光片，允许沿第一方向振动的光通过；第二偏光片，相对所述第一偏光片设置并在二者之间限定所述检测腔室，且允许沿第二方向振动的光通过；光发射单元，设置于所述第一侧，用于对准所述第一偏光片发射入射光线，所述入射光线经由所述第一偏光片后入射至所述检测腔室为第一光线；光检测单元，设置于所述第二侧，用于检测自所述检测腔室经由所述第二偏光片出射的第二光线；计算单元，用于和所述光检测单元连接，并计算所述第二光线的强度。2.如权利要求1所述的基质检测装置，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向形成角度范围为0度至90度。3.如权利要求2所述的基质检测装置，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向的角度为90度。4.如权利要求1所述的基质检测装置，其特征在于，所述第二偏光片与所述第一偏光片平行设置。5.如权利要求4所述的基质检测装置，其特征在于，所述第一偏光片至所述第二偏光片的距离为10mm
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200mm。6.如权利要求1所述的基质检测装置，其特征在于，所述第一偏光片和所述第二偏光片沿所述检测腔室的长度方向延伸。...

【专利技术属性】
技术研发人员：江昌林，徐中立，李永海，
申请(专利权)人：中山市合沃电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：