一种立式真空蒸镀机制造技术

本发明专利技术提供一种立式真空蒸镀机，属于真空蒸镀技术领域，包括真空室、蒸镀端和顶盖，顶盖设置在蒸镀端上，顶盖与真空室上端相卡接，所述真空室内底壁中心设置有基片架，真空室内设置有挡片，蒸镀端设于换向单元上端，换向单元下端设置有内清单元，内清单元与蒸镀端相对设置且二者均位于真空室的正上方，换向单元设置在升降单元上。本发明专利技术通过侧清理件、上清理件相配合的连贯清理作业，达到清洁真空室内壁、基片架表面附着的残余蒸镀料的目的，避免残余蒸镀料在后续基片真空蒸镀期间于真空环境下蒸发，而直接影响基片表面镀膜层的纯度和结合力，保证基片架、真空室内壁在下一次真空蒸镀作业前保持洁净状态。作业前保持洁净状态。作业前保持洁净状态。

【技术实现步骤摘要】
一种立式真空蒸镀机


[0001]本专利技术涉及真空蒸镀
，具体为一种立式真空蒸镀机。

技术介绍

[0002]真空蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。将基片放入真空室内，以电阻、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量的粒子。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，此过程反复进行，最终形成连续薄膜。
[0003]被反射的气态粒子蒸镀料会附着在真空室内壁以及放置基片的基片架表面，这部分残余蒸镀料易在后续基片的真空蒸镀期间于真空室中蒸发，而这会直接影响后续基片表面膜层的纯度和结合力。此外，因基片架安装在真空室内底壁中心，其将真空室内底壁部分遮挡，被反射的气态粒子蒸镀料不仅可能会附着在真空室内侧壁、基片架上端表面，还会附着于基片架下端、真空室内底壁，但基片架下端、真空室内底壁的清洁作业相比真空室内侧壁、基片架上端表面的清洁作业的操作难度大，整体清洁作业的不便开展，易使得最终清洁的效果较低。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供的立式真空蒸镀机，以解决相关技术中气态蒸镀料残余多处且清洁作业开展度较低、清洁效果低的问题。
[0005]本专利技术提供了一种立式真空蒸镀机，包括真空室、蒸镀端和顶盖，顶盖设置在蒸镀端上，顶盖与真空室上端相卡接，所述真空室内底壁中心设置有基片架，真空室内设置有挡片，挡片竖直截面为中心带通孔的凸形，基片架上端与通孔上端固定连接，挡片将基片架上端侧壁与真空室内壁之间的区域封闭，以对基片架下端进行保护隔离，蒸镀端设于换向单元上端，换向单元下端设置有内清单元，内清单元与蒸镀端相对设置且二者均位于真空室的正上方，换向单元设置在升降单元上。
[0006]所述内清单元包括用于清洁真空室内壁的侧清理件、用于清洁基片架的上清理件，所述侧清理件包括两个L形板，L形板竖直段之间连接有圆环框，圆环框外环面设置有清理棉；通过升降单元使内清单元下移；所述上清理件包括上置电机，上置电机输出轴端安装有连接件，连接件远离上置电机输出轴的一端转动安装有水平辊，水平辊的外环面安装有清理块，水平辊的一侧设置有安装板，安装板与连接件下端固定连接，安装板上设置有与挡片外表面相贴合的L形的清理海绵。
[0007]在一种可能实施的方式中，所述圆环框外环面开设有凹槽，凹槽内套设有外环扣，圆环框的内环面上下滑动连接有内环扣，清理棉一端与内环扣连接、另一端卡固于外环扣与圆环框外环面之间，内环扣与圆环框内环面之间插接有L形的限位块，限位块用于限制内
环扣上下滑动。
[0008]在一种可能实施的方式中，所述换向单元包括换向轴，上置电机和L形板安装于同一个抱环上，抱环套装在换向轴上，蒸镀端远离顶盖的一端套装在换向轴上，换向轴与换向电机输出轴相连。
[0009]在一种可能实施的方式中，所述升降单元包括两个移动端，换向电机安装在两个移动端之间，换向轴与移动端转动连接，移动端远离换向电机的一端与置地轨道杆连接。
[0010]在一种可能实施的方式中，所述连接件由衔接板、弹簧伸缩杆、U形板组成，衔接板、弹簧伸缩杆、U形板从上往下依次连接，衔接板和上置电机输出轴连接，水平辊转动安装在U形板的竖直段之间。
[0011]在一种可能实施的方式中，所述清理块沿水平辊外环面周向均匀排布，所述水平辊两端均螺纹连接有环帽，两环帽相对的面为粗糙面，粗糙面环帽与连接件侧端接触；所述清理块由清洁毛刷和块状的清洁棉组成，且清洁棉和清洁毛刷交错排布。
[0012]本专利技术的有益效果：1、根据本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机，通过侧清理件、上清理件相配合的连贯清理作业，达到清洁真空室内壁、基片架表面附着的残余蒸镀料的目的，避免残余蒸镀料在后续基片真空蒸镀期间于真空环境下蒸发，而直接影响基片表面镀膜层的纯度和结合力，保证基片架、真空室内壁在下一次真空蒸镀作业前保持洁净状态。
[0013]2、根据本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机，先利用挡片将基片架上端侧壁与真空室内壁之间的区域封闭，以对基片架下端进行保护隔离，以此避免真空蒸镀基片期间，蒸镀料溅至基片架下端及真空室底壁而不易开展清理作业，其为侧清理件和上清理件的清理作业打下开展基础，利于提高二者的清洁效果。
[0014]3、根据本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机，侧清理件中的清理棉、上清理件中的清理块和清理海绵在工作一段时间后均可进行更换，清理棉分为多个清理区域，清理块设置有多个，通过更换清理棉的清理区域、更换清理块和清理海绵来避免三者表面积累残余蒸镀料而使自身的清洁效果降低。
附图说明
[0015]图1是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的立体结构示意图。
[0016]图2是本专利技术图1的俯视结构示意图。
[0017]图3是本专利技术图2中A
‑
A向剖视图。
[0018]图4是本专利技术图2中B
‑
B向剖视图。
[0019]图5是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的升降单元、侧清理件和上清理件的结构示意图。
[0020]图6是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的挡片、基片架的结构示意图。
[0021]图7是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的换向单元、内清单元的结构示意图。
[0022]图8是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的上清理件、安装板和清理海绵的结构示意图。
[0023]图9是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的侧清理件、基片架、真空室的剖
视结构示意图。
[0024]图10是本专利技术实施例提供的一种立式真空蒸镀机的上清理件和侧清理件的局部结构剖视示意图。
[0025]图11是本专利技术图10中X区域的放大图。
[0026]图中：1、真空室；2、蒸镀端；3、顶盖；4、基片架；5、换向单元；6、内清单元；7、升降单元；8、挡片；51、换向轴；52、换向电机；61、侧清理件；62、上清理件；611、L形板；612、圆环框；613、清理棉；614、凹槽；615、外环扣；616、内环扣；617、限位块；621、上置电机；622、连接件；623、水平辊；624、清理块；625、安装板；626、清理海绵；627、环帽；631、衔接板；632、弹簧伸缩杆；633、U形板；71、移动端；72、置地轨道杆。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于下面所描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施方式的限制。
[0028]请参阅图1、图2、图3和图6，一种立式真空蒸镀机，包括真空室本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立式真空蒸镀机，包括真空室(1)、蒸镀端(2)和顶盖(3)，顶盖(3)设置在蒸镀端(2)上，顶盖(3)与真空室(1)上端相卡接，所述真空室(1)内底壁中心设置有基片架(4)，其特征在于：蒸镀端(2)设于换向单元(5)上端，换向单元(5)下端设置有内清单元(6)，换向单元(5)设置在升降单元(7)上；所述内清单元(6)包括用于清洁真空室(1)内壁的侧清理件(61)、用于清洁基片架(4)的上清理件(62)，所述侧清理件(61)包括两个L形板(611)，L形板(611)竖直段之间连接有圆环框(612)，圆环框(612)外环面设置有清理棉(613)；通过升降单元(7)使内清单元(6)下移；所述上清理件(62)包括上置电机(621)，上置电机(621)输出轴端安装有连接件(622)，连接件(622)远离上置电机(621)输出轴的一端转动安装有水平辊(623)，水平辊(623)的外环面安装有清理块(624)；位于真空室(1)内的挡片(8)，其竖直截面为中心带通孔的凸形，基片架(4)上端与通孔上端固定连接，挡片(8)将基片架(4)上端侧壁与真空室(1)内壁之间的区域封闭，水平辊(623)的一侧设置有安装板(625)，安装板(625)与连接件(622)下端固定连接，安装板(625)上设置有与挡片(8)外表面相贴合的L形的清理海绵(626)；通过升降单元(7)使内清单元(6)下移至真空室(1)内，期间，利用侧清理件(61)清理真空室(1)内壁，待清理海绵(626)贴合挡片(8)后，上清理件(62)与清理海绵(626)同步工作，上清理件(62)对基片架(4)进行清理，清理海绵(626)对挡片(8)进行清理。2.根据权利要求1所述的一种立式真空蒸镀机，其特征在于：所述圆环框(612)外环面开设有凹槽(614)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李同裕，
申请(专利权)人：扬州吉山津田光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：