真空泵、旋转体、罩部及旋转体的制造方法技术

在有关本发明专利技术的真空泵(100)中，具备：旋转体(103)，具有旋转轴(113)和旋转叶片(102)，所述旋转叶片(102)具有供该旋转轴(113)的顶部贯通的贯通孔(220)，使顶部将该贯通孔(220)贯通而固定；以及罩部(500)，以将旋转轴(113)的顶部和贯通孔(220)覆盖的方式被固定在旋转体(103)；罩部(500)具备旋转体(103)的平衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。通过设置罩部(500)，能够避免轴杆的顶部与腐蚀性气体的接触，能够防止从轴杆的起尘；由于罩部(500)具备旋转体的平衡修正功能，所以能够将旋转体(103)的不平衡修正。旋转体(103)的不平衡修正。旋转体(103)的不平衡修正。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵、旋转体、罩部及旋转体的制造方法


[0001]本专利技术涉及真空泵、旋转体、罩部及旋转体的制造方法。
[0002]详细地讲，涉及通过将旋转体的轴杆的顶部用固定于旋转体的罩部覆盖，而在进行旋转体的平衡修正的同时对于排出气体具有耐腐蚀性的真空泵、旋转体、罩部及旋转体的制造方法。

技术介绍

[0003]真空泵具备被固定在旋转轴(轴杆)的旋转叶片和固定叶片，使旋转轴高速旋转，借助高速旋转的旋转叶片与固定叶片的相互作用，进行被要求高真空的工艺腔室内的空气的真空排气。在被排出的气体中，例如也存在氯、硫化氟系的腐蚀性气体，如果这些腐蚀性气体与例如轴杆接触，则有可能从轴杆表面发生起尘。
[0004]例如，作为旋转叶片与旋转轴(轴杆)的紧固构造，有轴杆(转子轴)的顶部从旋转叶片及用来取平衡的垫圈突出那样的构造。
[0005]相对于此，如专利文献1所记载那样，通过在转子8(旋转叶片)的内外周面借助非电解镀层形成防腐蚀皮膜、或者涂敷耐腐蚀性的粘接剂或涂料来防止腐蚀。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2003
‑
148389号
[0009]在专利文献1中，公开了一种真空泵，其通过对涡轮分子泵的旋转体进行耐腐蚀处理，能够在相对于腐蚀性气体进行保护的同时持续长期间取得旋转体的平衡。

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的技术问题
[0011]另外，在真空泵中，轴杆的顶部是与被从吸气口取入的腐蚀性气体最先接触的部位，最容易受到腐蚀性气体的影响，需要采取某种对策。特别是，如果由于该轴杆的顶部与腐蚀性气体接触而起尘，则有可能从吸气口向工艺腔室倒流而给产品(晶片)的品质带来不良影响。
[0012]另一方面，如果对旋转轴的顶部实施耐腐蚀处理，则不可避免地会给由轴杆和固定在轴杆上的旋转叶片构成的旋转体的平衡带来影响。
[0013]本专利技术的目的是提供一种通过避免轴杆的顶部与腐蚀性气体的接触而防止从轴杆起尘、并且具备旋转体的平衡修正功能的真空泵、旋转体、罩部及旋转体的制造方法。
[0014]用来解决技术问题的手段
[0015]在技术方案1记载的本申请的专利技术中，提供一种真空泵，具备：旋转体，具备被可旋转地支承的旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供前述旋转轴的顶部贯通的贯通孔，使前述顶部将该贯通孔贯通而固定；以及罩部，以将前述旋转轴的顶部和前述贯通孔覆盖的方式固定在前述旋转体；其特征在于，前述罩部具备用来将前述旋转体的不平衡修正的平
衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。
[0016]在技术方案2记载的本申请的专利技术中，提供技术方案1记载的真空泵，其特征在于，前述罩部对于排出气体的耐腐蚀性通过实施耐腐蚀性的表面处理而达成。
[0017]在技术方案3记载的本申请的专利技术中，提供技术方案1或技术方案2记载的真空泵，其特征在于，前述罩部具备与用来将前述旋转体固定或支承的工具嵌合的部分。
[0018]在技术方案4记载的本申请的专利技术中，提供技术方案1至技术方案3中任一项记载的真空泵，其特征在于，前述平衡修正功能由配置在设于前述罩部的凹部的平衡修正重物进行，该平衡修正重物对于排出气体具有耐腐蚀性。
[0019]在技术方案5记载的本申请的专利技术中，提供技术方案4记载的真空泵，其特征在于，前述平衡修正重物被实施了对于排出气体具有耐腐蚀性的表面处理。
[0020]在技术方案6记载的本申请的专利技术中，提供一种旋转体，具备被可旋转地支承的旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供前述旋转轴的顶部贯通的贯通孔，使前述顶部将该贯通孔贯通而固定，其特征在于，还具备以将前述旋转轴的顶部和前述贯通孔覆盖的方式固定在前述旋转体的罩部；前述罩部具备用来将前述旋转体的不平衡修正的平衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。
[0021]在技术方案7记载的本申请的专利技术中，提供一种罩部，以将旋转体的旋转轴的顶部和贯通孔覆盖的方式固定在前述旋转体，所述旋转体具备被可旋转地支承的上述旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供前述旋转轴的顶部贯通的上述贯通孔，使前述顶部将该贯通孔贯通而固定，其特征在于，具备用来将前述旋转体的不平衡修正的平衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。
[0022]在技术方案8记载的本申请的专利技术中，提供一种旋转体的制造方法，所述旋转体具备被可旋转地支承的旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供前述旋转轴的顶部贯通的贯通孔，使前述顶部将该贯通孔贯通而固定，其特征在于，将对于排出气体具有耐腐蚀性的罩部以将前述旋转轴的顶部和前述贯通孔覆盖的方式固定在前述旋转体，在将前述罩部固定的状态下将前述旋转体的不平衡修正。
[0023]专利技术效果
[0024]根据本专利技术，通过用罩部将轴杆的顶部和设置在旋转叶片的供该轴杆贯通的贯通孔覆盖，能够防止腐蚀性气体与轴杆特别是轴杆的顶部接触，并且，通过罩部所具备的平衡修正功能，能够将旋转体的平衡修正。
附图说明
[0025]图1是表示有关本专利技术的实施方式的涡轮分子泵的概略结构例的图。
[0026]图2是表示在本专利技术的实施方式中使用的放大器电路的电路图的图。
[0027]图3是表示本专利技术的实施方式的电流指令值比检测值小的情况下的控制的时序图。
[0028]图4是表示本专利技术的实施方式的电流指令值比检测值大的情况下的控制的时序图。
[0029]图5是表示有关本专利技术的实施方式的真空泵的包括罩部的概略结构例的图。
[0030]图6是表示有关本专利技术的实施方式的旋转体的概略结构例的图。
[0031]图7是表示有关本专利技术的实施方式的罩部的概略结构例的图。
[0032]图8是图7所示的罩部的立体图。
[0033]图9是用来说明本实施方式的旋转体组装工序(电枢盘固定前)的图。
[0034]图10是用来说明本实施方式的旋转体组装工序(电枢盘固定后)的图。
[0035]图11是用来说明本实施方式的旋转体组装工序(轴杆紧固)的图。
具体实施方式
[0036](i)实施方式的概要
[0037]在有关本专利技术的实施方式的真空泵中，具备：旋转体，具备旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供该旋转轴的顶部贯通的贯通孔，使顶部将该贯通孔贯通而固定；以及罩部，以将旋转轴的顶部和贯通孔覆盖的方式被固定在旋转体；罩部具备用来将旋转体的不平衡修正的平衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。
[0038]在本实施方式中，通过设置罩部，能够避免轴杆的顶部(转子轴顶部)与腐蚀性气体的接触，能够防止从轴杆的起尘。此外，由于罩部具备旋转体的平衡修正功能，所以即使将罩部设置在轴杆的顶部，也能够将旋转体的不平衡修正。
[0039](ii)实施方式的详细情况
[0040]以下，参照图1至图11对本专利技术的优选的实施方式详细地进行说明。
[0041]另外，对于作为本实施方式的特本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空泵，具备：旋转体，具备被可旋转地支承的旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有供前述旋转轴的顶部贯通的贯通孔，使前述顶部将该贯通孔贯通而固定；以及罩部，以将前述旋转轴的顶部和前述贯通孔覆盖的方式固定在前述旋转体；其特征在于，前述罩部具备用来将前述旋转体的不平衡修正的平衡修正功能，并且对于排出气体具有耐腐蚀性。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，前述罩部对于排出气体的耐腐蚀性通过实施耐腐蚀性的表面处理而达成。3.如权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，前述罩部具备与用来将前述旋转体固定或支承的工具嵌合的部分。4.如权利要求1～3中任一项所述的真空泵，其特征在于，前述平衡修正功能由配置在设于前述罩部的凹部的平衡修正重物进行，该平衡修正重物对于排出气体具有耐腐蚀性。5.如权利要求4所述的真空泵，其特征在于，前述平衡修正重物被实施了对于排出气体具有耐腐蚀性的表面处理。6.一种旋转体，具备被可旋转地支承的旋转轴和旋转叶片，所述旋转叶片具有...

【专利技术属性】
技术研发人员：三轮田透，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：