激光系统的控制方法、激光系统和电子器件的制造方法技术方案

激光系统统包含：振荡级激光器，其输出第1激光；以及放大级激光器，其对第1激光进行放大，输出第2激光。激光系统的控制方法包含以下步骤：判定放大级激光器的放大特性变化的条件；在判定为满足条件的情况下，取得第1激光的脉冲能量与第2激光的参数之间的关系；以及根据取得的关系设定第1激光的目标脉冲能量。据取得的关系设定第1激光的目标脉冲能量。据取得的关系设定第1激光的目标脉冲能量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光系统的控制方法、激光系统和电子器件的制造方法


[0001]本公开涉及激光系统的控制方法、激光系统和电子器件的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
[0003]KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率会降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrowing Module：LNM)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种控制方法，其是激光系统的控制方法，所述激光系统包含：振荡级激光器，其输出第1激光；以及放大级激光器，其对所述第1激光进行放大，输出第2激光，其中，所述控制方法包含以下步骤：判定所述放大级激光器的放大特性变化的条件；在判定为满足所述条件的情况下，取得所述第1激光的脉冲能量与所述第2激光的参数之间的关系；以及根据所述关系设定所述第1激光的目标脉冲能量。2.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述条件包含上次设定了所述第1激光的目标脉冲能量后的振荡脉冲数和经过时间中的任意一方达到各自的设定值。3.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述放大级激光器为气体激光装置，所述条件包含所述放大级激光器中的气压和所述气压的变化中的任意一方在各自的设定范围外。4.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述放大级激光器为放电激励式的气体激光装置，所述条件包含所述放大级激光器中的施加电压和所述施加电压的变化中的任意一方在各自的设定范围外。5.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述条件包含对所述第2激光的目标脉冲能量进行变更。6.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述激光系统构成为与曝光装置连接，将所述第2激光输出到所述曝光装置，在判定为满足所述条件的情况下，停止向所述曝光装置输出所述第2激光，计测所述第1激光的脉冲能量和所述第2激光的参数，由此取得所述关系。7.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述第1激光的目标脉冲能量被设定为所述第2激光的特性在容许范围内的、所述第1激光的脉冲能量的最小值。8.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述参数为所述第2激光的脉冲能量。9.根据权利要求8所述的控制方法，其中，所述第1激光的目标脉冲能量被设定为所述第2激光的脉冲能量的变化相对于所述第1激光的脉冲能量的变化的比例为第1规定值以下的、所述第1激光的脉冲能量的最小值。10.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述参数为所述第2激光的脉冲能量偏差。11.根据权利要求10所述的控制方法，其中，所述第1激光的目标脉冲能量被设定为所述第2激光的脉冲能量偏差的变化相对于所述第1激光的脉冲能量的变化的比例的绝对值为第2规定值以下的、所述第1激光的脉冲能量的最小值。
12.根据权利要求1所述的控制方法，其中，所述参数为与所述第2激光中包含的自然放射放大光的比例有关的参数。13.根据权利要求12所述的控制方法，其中，与所述比例有关的参数为使所述第2激光入射到法布里
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珀罗干涉仪而被计测出的干涉条纹的对比度。14.根据权利要求13所述的控制方法，其中，根据所述干涉条纹中的光强度的最大值Imax和最小值Imin，通过(Imax
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Imin)/(Imax+Imin)来计算所述对比度。15.根据权利要求13所述的控制方法，其中，所述第1激光的目标脉冲能量被设定为所述对比...

【专利技术属性】
技术研发人员：浅山武志，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：