一种测量光栅及其该测量光栅的测量控制方法技术

本发明专利技术公开了一种测量光栅及其该测量光栅的测量控制方法，包括：控制器分别连接光发射器和光接收器；所述图像处理器采集待测对象的图像，并对图像进行处理获得图像信息，将图像信息传输至控制器，所述控制器根据图像信息设定光发射器发射的发射光阵列的参数；所述控制器将发射光阵列的参数下发至所有光发射器，所述光发射器根据发射光阵列的参数向待测对象发射具有光栅特性的发射光阵列，所述光接收器接收发射光阵列反射的反射光阵列，将反射光阵列传输至处理器，所述处理器对所述反射光阵列进行处理，获得待测对象的测量结果。根据不同的待测对象形成不同的参数，提升测量的准确性，且成本低，方案容易实现。方案容易实现。方案容易实现。

【技术实现步骤摘要】
一种测量光栅及其该测量光栅的测量控制方法


[0001]本专利技术涉及测量光栅
，具体涉及一种测量光栅及其该测量光栅的测量控制方法。

技术介绍

[0002]测量光栅是一种感应其接收的光强度变化的电子器件，包含光学系统、放大器和开关量输出装置。所有光电传感器都使用调制光以排除周围光源可能的影响，工作时，光电传感器发射光线，当被检测物体经过时，根据检测模式的不同，物体或吸收光线或将光线反射到光电传感器的收光器，从而导致收光器接收的光线强度产生变化，其变化值触发开关信号输出，实现检测功能。
[0003]具体的，测量光栅包括分离且相对放置的发射器和收光器两部分，但其外形尺寸较大，为长管状。测量光栅发射器产生的检测光线并非如普通传感器般只有一束，而是沿长度方向定间距生成光线阵列，配合控制器及其软件，实现监控和测量物体外形尺寸的功能。
[0004]但是，现有的测量光栅一般采用单一的固定的模式进行测量，并不能根据待测对象的结构不同进行适应性调整，因此，亟需一种可以解决上述问题的技术方案。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种测量光栅及其该测量光栅的测量控制方法，以解决现有技术中存在的上述问题。
[0006]本专利技术提供一种测量光栅，包括：图像处理器、多个光发射器、多个光接收器、控制器和处理器，所述控制器分别连接光发射器和光接收器；
[0007]所述图像处理器采集待测对象的图像，并对图像进行处理获得图像信息，将图像信息传输至控制器，所述控制器根据图像信息设定光发射器发射的发射光阵列的参数；所述控制器将发射光阵列的参数下发至所有光发射器，所述光发射器根据发射光阵列的参数向待测对象发射具有光栅特性的发射光阵列，所述光接收器接收发射光阵列反射的反射光阵列，将反射光阵列传输至处理器，所述处理器对所述反射光阵列进行处理，获得待测对象的测量结果。
[0008]优选的，所述控制器包括：光发射时间设置模块和光发射阵列模式设定模块；
[0009]所述光发射时间设置模块通过对多个光发射器的发射时间进行设定，对发射时间的设定采用光发射器的位置确定，确定时间参数和位置参数；
[0010]所述光发射阵列模式设定模块用于设定发射光阵列模式，发射光阵列模式包括多种平面结构的发射光阵列；每种平面结构的发射光阵列所采用的光发射器不同，发射器发射光线的时间不同。
[0011]优选的，还包括光发射器微调设备，所述光发射器微调设备连接所述光发射器，用于对光发射器的位置进行微调；
[0012]所述光发射器根据控制器下发的位置参数适应性调整发射位置，控制器对每一次
的位置参数以及对应的光发射器的标号进行对应标记，每一光发射器的标号对应不同时间点调整的位置参数。
[0013]优选的，还包括光接收器微调设备，用于调整参考信号对应的光接收器的位置，所述的光接收器有两个，一个光接收器固定安置，接收到的信号当作自适应对消算法中的待处理信号；另一个光接收器和光接收器微调设备连接在一起，光接收器微调设备能微调光接收器的位置，接收到的信号当作自适应对消算法中的参考信号；两个光接收器接收到信号后，一并将这两路接收信号传入信号转换模块进行前置放大和数模转换，转换完成后，将信号交给信号控制处理模块进行处理。
[0014]优选的，微调设置模块，用于设置好信号产生参数，信号发生模块产生好要发送的信号，设置好光发射器微调设备需要微调的次数N，然后开始进行某次测量；所述信号产生参数包括信号产生的频率、幅度；
[0015]调整位置模块，位置控制单元产生该次的位置控制参数，把参数传给驱动单元，驱动单元控制机械移动单元以位置控制参数对应的路线移动一次，参考信号对应的光接收器进行移动一次；调整一次后，发送调整完成指令给信号控制处理模块，信号控制处理模块接收到调整完成指令后，准备发送信号；
[0016]所述处理器包括：
[0017]信号转换模块，信号转换模块对两个接收光接器收到的信号进行前置放大和数模转换，转换完成后，将信号交给信号控制处理模块进行处理；
[0018]自适应对消滤波处理模块，信号控制处理模块对信号转换模块转换好的待处理信号和参考信号进行自适应对消滤波处理，结果是得到均方误差期望，最佳滤波器系数和滤除直达波后的反射信号，得出上述结果后，信号控制处理模块产生信号处理完成指令，并发送微调指令给控制器。
[0019]本专利技术提供一种测量光栅的测量控制方法，包括：
[0020]S100，图像处理器采集待测对象的图像，并对图像进行处理获得图像信息，将图像信息传输至控制器；
[0021]S200，所述控制器根据图像信息设定光发射器发射的发射光阵列的参数；所述控制器将发射光阵列的参数下发至所有光发射器；
[0022]S300，所述光发射器根据发射光阵列的参数向待测对象发射具有光栅特性的发射光阵列，所述光接收器接收发射光阵列反射的反射光阵列，将反射光阵列传输至处理器；
[0023]S400，所述处理器对所述反射光阵列进行处理，获得待测对象的测量结果。
[0024]优选的，所述S200中，所述控制器根据图像信息设定光发射器发射的发射光阵列的参数，包括：
[0025]S201，光发射时间设置模块通过对多个光发射器的发射时间进行设定，对发射时间的设定采用光发射器的位置确定，确定时间参数和位置参数；
[0026]S202，光发射阵列模式设定模块用于设定发射光阵列模式，发射光阵列模式包括多种平面结构的发射光阵列；每种平面结构的发射光阵列所采用的光发射器不同，发射器发射光线的时间不同。
[0027]优选的，所述S201包括：
[0028]S2011，设置光发射器微调设备，所述光发射器微调设备连接所述光发射器，用于
对光发射器的位置进行微调；
[0029]S2012，所述光发射器根据控制器下发的位置参数适应性调整发射位置，控制器对每一次的位置参数以及对应的光发射器的标号进行对应标记，每一光发射器的标号对应不同时间点调整的位置参数。
[0030]优选的，所述S2011包括：
[0031]S2011
‑
1，设置光接收器微调设备，用于调整参考信号对应的光接收器的位置，所述的光接收器有两个，一个光接收器固定安置，接收到的信号当作自适应对消算法中的待处理信号；
[0032]S2011
‑
2，另一个光接收器和光接收器微调设备连接在一起，光接收器微调设备能微调光接收器的位置，接收到的信号当作自适应对消算法中的参考信号；
[0033]S2011
‑
3，两个光接收器接收到信号后，一并将这两路接收信号传入信号转换模块进行前置放大和数模转换，转换完成后，将信号交给信号控制处理模块进行处理。
[0034]优选的，该方法还包括：
[0035]S500，设置好信号产生参数，信号发生模块产生好要发送的信号，设置好光发射器微调设备需要微调的次数N，然后开始进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量光栅，其特征在于，包括：图像处理器、多个光发射器、多个光接收器、控制器和处理器，所述控制器分别连接光发射器和光接收器；所述图像处理器采集待测对象的图像，并对图像进行处理获得图像信息，将图像信息传输至控制器，所述控制器根据图像信息设定光发射器发射的发射光阵列的参数；所述控制器将发射光阵列的参数下发至所有光发射器，所述光发射器根据发射光阵列的参数向待测对象发射具有光栅特性的发射光阵列，所述光接收器接收发射光阵列反射的反射光阵列，将反射光阵列传输至处理器，所述处理器对所述反射光阵列进行处理，获得待测对象的测量结果。2.根据权利要求1所述的测量光栅，其特征在于，所述控制器包括：光发射时间设置模块和光发射阵列模式设定模块；所述光发射时间设置模块通过对多个光发射器的发射时间进行设定，对发射时间的设定采用光发射器的位置确定，确定时间参数和位置参数；所述光发射阵列模式设定模块用于设定发射光阵列模式，发射光阵列模式包括多种平面结构的发射光阵列；每种平面结构的发射光阵列所采用的光发射器不同，发射器发射光线的时间不同。3.根据权利要求2所述的测量光栅，其特征在于，还包括光发射器微调设备，所述光发射器微调设备连接所述光发射器，用于对光发射器的位置进行微调；所述光发射器根据控制器下发的位置参数适应性调整发射位置，控制器对每一次的位置参数以及对应的光发射器的标号进行对应标记，每一光发射器的标号对应不同时间点调整的位置参数。4.根据权利要求3所述的测量光栅，其特征在于，还包括光接收器微调设备，用于调整参考信号对应的光接收器的位置，所述的光接收器有两个，一个光接收器固定安置，接收到的信号当作自适应对消算法中的待处理信号；另一个光接收器和光接收器微调设备连接在一起，光接收器微调设备能微调光接收器的位置，接收到的信号当作自适应对消算法中的参考信号；两个光接收器接收到信号后，一并将这两路接收信号传入信号转换模块进行前置放大和数模转换，转换完成后，将信号交给信号控制处理模块进行处理。5.根据权利要求4所述的测量光栅，其特征在于，所述控制器包括：微调设置模块，用于设置好信号产生参数，信号发生模块产生好要发送的信号，设置好光发射器微调设备需要微调的次数N，然后开始进行某次测量；所述信号产生参数包括信号产生的频率、幅度；调整位置模块，位置控制单元产生该次的位置控制参数，把参数传给驱动单元，驱动单元控制机械移动单元以位置控制参数对应的路线移动一次，参考信号对应的光接收器进行移动一次；调整一次后，发送调整完成指令给信号控制处理模块，信号控制处理模块接收到调整完成指令后，准备发送信号；所述处理器包括：信号转换模块，信号转换模块对两个接收光接器收到的信号进行前置放大和数模转换，转换完成后，将信号交给信号控制处理模块进行处理；自适应对消滤波处理模块，信号控制处理模块对信号转换模块转换好的待处理信号和参考信号进行自适应对消滤波处理，结果是得到均方误差期望，最佳滤波器系数和滤除直
达波后的反射信号，得出上述结果后，信号控制处理模块产生信号处理完成指令，并发送微调指令给控制器。6.测量光栅的测量控制方法，其特征在于，包括：S100，图像处理器采集待测对象的图像，并对图像进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤宏川，魏林，蔡之，
申请(专利权)人：惠州市施莱格科技有限公司，
类型：发明
国别省市：