一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备制造技术

本发明专利技术公开了一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括陶瓷立式旋转器，所述陶瓷立式旋转器上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂，陶瓷立式旋转器的一侧以及陶瓷上釉抓取臂的下方设置有乳浊上釉箱，陶瓷立式旋转器的前侧以及一侧设置有上料输送机和下料输送机，并且上料输送机和下料输送机之间相互垂直设置，同时所述上料输送机和下料输送机上均设开设有陶瓷放置槽组，以及所述上料输送机和下料输送机上均安装有上料翻转机和下料翻转机。本发明专利技术可以实现双面上釉的同时，还可以实现单面上釉，其次，可以提高陶瓷坯上釉的效率和效果，另外，降低釉料附着到输送带表面的情况。降低釉料附着到输送带表面的情况。降低釉料附着到输送带表面的情况。

【技术实现步骤摘要】
一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备


[0001]本专利技术涉及陶瓷坯乳浊上釉
，具体为一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备。

技术介绍

[0002]乳浊釉又称"盖地釉"。陶瓷坯体上不透明的玻璃状覆盖层，可以掩盖坯体的颜色和缺陷。是在普通透明釉中添加乳浊剂而形成的。此外，釉层中含有大量微细气泡时也可形成乳浊，传统青釉的乳浊性主要是这种气相乳浊作用。
[0003]现有陶瓷的乳浊上釉分为两种，一种为双面上釉，另一种为单面上釉，双面上釉是将陶瓷坯的内外表面均附着有一层乳浊釉料，而单面上釉只对陶瓷外表面附着一层乳浊釉料，陶瓷具体的上釉方式，大多是根据人工放置陶瓷的方式而决定的，比如公告号CN112077989A的中国专利技术专利文献所记载的一种陶瓷杯上釉用设备，其通过电动吸盘将陶瓷吸附，陶瓷的上釉方式，完全取决于陶瓷的放置方式，双面上釉需要人工将其倒立放置(器口朝下)，反之，单面上釉则需要人工将其正常竖立放置(器口朝上)，人工放置陶瓷失误率高，且非常容易发生人工放置错乱的情况；
[0004]再比如公告号CN216658385U的中国技术专利文献所记载的一种自动化陶瓷容器上釉设备，其将陶瓷放置到放置盘上，通过负压将陶瓷吸附，上釉的方式，也完全取决于人工放置陶瓷的方式所决定的。
[0005]目前，设备对陶瓷单面上釉和双面上釉完全取决与人工放置陶瓷的方式，在后续更换上釉的陶瓷器型时，如果该陶瓷器型与上次生产的陶瓷器型不一样，亦或是上釉的方式不一样时，人工就需要更换陶瓷的放置方式，长时间且频繁的更换，会经常出现陶瓷放置出现错误，残次品会时常发生，另外，现有设备在对其陶瓷附着乳浊釉料时，大多为静止状态，比如公告号CN112077989A的中国专利技术专利文献所记载的一种陶瓷杯上釉用设备，这样就会造成内侧表面的附着效果不理想，同时后续附着的乳浊釉料还会滴落附着在输送带上，致使需要定期且频繁的清洁。
[0006]也有部分带动陶瓷在其釉料内旋转，比如公告号CN216658385U的中国技术专利文献所记载的一种自动化陶瓷容器上釉设备，但是带动陶瓷旋转，附着在陶瓷的釉料，因受到离心力的原因，所以会非常容易外溅在外，严重污染周围的环境。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本发提供一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括一种乳浊青釉瓷器的生产工艺，其特征是包括如下工艺步骤：
[0008]1)原料选取，配料、吃浆、巩固、脱膜、修沾、预干燥成型工艺后制成的瓷器坯体；
[0009]2)坯体的预干燥是在注浆车间内进行自然干燥的，在工人下班后的16小时内，注浆车间内保持高温度(33～40℃)、高湿度(40％一60％)，使坯体缓慢的干燥，经预干燥后，
湿坯休的含水率从15％～17％下降到8％一10％即可；亦或是将坯体放置到预干燥设备内，预干燥设备内部同样保持高温度、高湿度，致使通过设备加快坯体的干燥速度；
[0010]3)将预干燥陶瓷坯成批的放置到上料输送机上开设的陶瓷放置槽组上，上料输送机对其成批的陶瓷坯进行输送，后续陶瓷坯被上料翻转机抓取，然后被上料翻转机抓取的陶瓷再被陶瓷上釉抓取臂抓取；
[0011]4)陶瓷坯的放置有两种：机械手臂放置和人工放置，机械手臂放置适用于大型工厂高效的流水线式生产，而人工放置适用于中小型工厂的半流水线生产；而上料输送机和下料输送机上开设的陶瓷放置槽组上可设置安装有磁感应传感器或是压力传感器，以及一些可检测陶瓷坯的定位式传感器，通过传感器更好的检测陶瓷坯的放置是否精准；
[0012]5)陶瓷坯如果需要双面上釉内外面，那么陶瓷坯就需要通过上料翻转机和下料翻转机被陶瓷上釉抓取臂抓取和下放，反之，不需要双面上釉内外面，只需要单面上釉外表面时，陶瓷坯就不需要通过上料翻转机和下料翻转机被陶瓷上釉抓取臂抓取和下放，直接被陶瓷上釉抓取臂抓取即可；
[0013]6)瓷器坯需要双面上釉内外面时，其状态为倒立式，而瓷器坯需要单面上釉外表面时，其状态为直立式；
[0014]7)陶瓷上釉抓取臂抓取陶瓷坯后，陶瓷立式旋转器会带动陶瓷上釉抓取臂旋转，当陶瓷上釉抓取臂旋转到乳浊上釉箱后，陶瓷坯进入其内，并做上釉处理，乳浊上釉内的釉料为乳浊釉；
[0015]8)陶瓷坯上釉完毕后，将其陶瓷坯放置到下料输送机的陶瓷放置槽组上，通过下料输送机将陶瓷坯输送到下一加工工序或是工艺的制备设备。
[0016]优选的，乳浊青釉瓷器的生产制备设备，包括陶瓷立式旋转器、陶瓷上釉抓取臂、乳浊上釉箱、上料输送机、下料输送机、陶瓷放置槽组、上料翻转机和下料翻转机，所述陶瓷立式旋转器上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂，陶瓷立式旋转器的一侧以及陶瓷上釉抓取臂的下方设置有乳浊上釉箱，陶瓷立式旋转器的前侧以及一侧设置有上料输送机和下料输送机，并且上料输送机和下料输送机之间相互垂直设置，同时所述上料输送机和下料输送机上均设开设有陶瓷放置槽组，以及所述上料输送机和下料输送机上均安装有上料翻转机和下料翻转机，上料翻转机和下料翻转机结构相同，上料输送机和下料输送机结构相同，上料输送机和下料输送机为现有公知技术中的输送带式的输送机；
[0017]陶瓷上釉抓取臂包括驱动横轴、抓起弯折臂、风干除尘风机、活动槽口、伺服马达、真空管、上釉抓取吸盘、真空软管和真空泵，驱动横轴的两端转动安装在陶瓷立式旋转器上，驱动横轴上固定安装有至少三个所述抓起弯折臂，抓起弯折臂的内外表面对应固定安装有风干除尘风机；抓起弯折臂的下端开设有活动槽口，抓起弯折臂的下端外部固定安装有伺服马达，伺服马达的输出端转动穿过抓起弯折臂的下端，并穿进活动槽口与真空管固定相连，真空管的下端固定安装有上釉抓取吸盘，真空管的上端与真空软管的一端固定相连，真空软管的另一端穿过抓起弯折臂与真空泵的输出端固定相连，真空泵固定安装在抓起弯折臂上方；上料翻转机包括横移槽口、横移丝杠、步进电机、横移平台、升降液压缸、侧向立板、驱动电机、翻转真空泵、多边辊、抓取管和翻转吸盘，上料输送机和下料输送机上均对应开设有横移槽口，横移槽口内转动安装有横移丝杠，步进电机固定安装在横移槽口内侧，横移丝杠的任一端与步进电机的输出端固定相连，横移丝杠通过滚珠螺母与横移平台
固定相连，横移平台上方固定安装有升降液压缸，升降液压缸的输出端与侧向立板的下端固定相连，侧向立板设置有两个，其中一个所述侧向立板上固定安装有驱动电机，另一个所述侧向立板上固定安装有翻转真空泵，两个所述侧向立板上转动安装有多边辊，多边辊的一端转动穿过其中一个所述侧向立板与驱动电机输出端固定相连，多边辊的另一端转动穿过另一个所述侧向立板，并与翻转真空泵的输出端转动相连通，翻转真空泵的表面上固定安装有抓取管的一端，抓取管的另一端固定安装有翻转吸盘。
[0018]优选的，所述陶瓷立式旋转器包括矩形基台、安装侧耳板、抓取电机、立式主轴、放置基座、从动齿轮和驱动齿轮，矩形基台的表面上对应固定安装有安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括一种乳浊青釉瓷器的生产工艺，其特征是包括如下工艺步骤：1)原料选取，配料、吃浆、巩固、脱膜、修沾、预干燥成型工艺后制成的瓷器坯体；2)坯体的预干燥是在注浆车间内进行自然干燥的，在工人下班后的16小时内，注浆车间内保持高温度(33～40℃)、高湿度(40％一60％)，使坯体缓慢的干燥，经预干燥后，湿坯休的含水率从15％～17％下降到8％一10％即可；亦或是将坯体放置到预干燥设备内，预干燥设备内部同样保持高温度、高湿度，致使通过设备加快坯体的干燥速度；3)将预干燥陶瓷坯成批的放置到上料输送机(4)上开设的陶瓷放置槽组(6)内，上料输送机(4)对其成批的陶瓷坯进行输送，后续陶瓷坯被上料翻转机(7)抓取，然后被上料翻转机(7)抓取的陶瓷再被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取；4)陶瓷坯的放置有两种：机械手臂放置和人工放置，机械手臂放置适用于大型工厂高效的流水线式生产，而人工放置适用于中小型工厂的半流水线生产；而上料输送机(4)和下料输送机(5)上开设的陶瓷放置槽组(6)上可设置安装有磁感应传感器或是压力传感器；5)陶瓷坯如果需要双面上釉(内外面)，那么陶瓷坯就需要通过上料翻转机(7)和下料翻转机(8)被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取和下放，反之，不需要双面上釉(内外面)，只需要单面上釉(外表面)时，陶瓷坯就不需要通过上料翻转机(7)和下料翻转机(8)被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取和下放；6)瓷器坯需要双面上釉(内外面)时，其状态为倒立式，而瓷器坯需要单面上釉(外表面)时，其状态为直立式；7)陶瓷上釉抓取臂(2)抓取陶瓷坯后，陶瓷立式旋转器(1)会带动陶瓷上釉抓取臂(2)旋转，当陶瓷上釉抓取臂(2)旋转到乳浊上釉箱(3)后，陶瓷坯进入其内，并做上釉处理；8)陶瓷坯上釉完毕后，将其陶瓷坯放置到下料输送机(5)的陶瓷放置槽组(6)上，通过下料输送机(5)将陶瓷坯输送到下一加工工序或是工艺的制备设备。2.根据权利要求1所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，包括陶瓷立式旋转器(1)、陶瓷上釉抓取臂(2)、乳浊上釉箱(3)、上料输送机(4)、下料输送机(5)、陶瓷放置槽组(6)、上料翻转机(7)和下料翻转机(8)，所述陶瓷立式旋转器(1)上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂(2)，陶瓷立式旋转器(1)的一侧以及陶瓷上釉抓取臂(2)的下方设置有乳浊上釉箱(3)，陶瓷立式旋转器(1)的前侧以及一侧设置有上料输送机(4)和下料输送机(5)，并且上料输送机(4)和下料输送机(5)之间相互垂直设置，同时所述上料输送机(4)和下料输送机(5)上均设开设有陶瓷放置槽组(6)，以及所述上料输送机(4)和下料输送机(5)上均安装有上料翻转机(7)和下料翻转机(8)，上料翻转机(7)和下料翻转机(8)结构相同；陶瓷上釉抓取臂(2)包括驱动横轴(21)、抓起弯折臂(22)、风干除尘风机(23)、活动槽口(24)、伺服马达(25)、真空管(26)、上釉抓取吸盘(27)、真空软管(28)和真空泵(29)，驱动横轴(21)的两端转动安装在陶瓷立式旋转器(1)上，驱动横轴(21)上固定安装有至少三个所述抓起弯折臂(22)，抓起弯折臂(22)的内外表面对应固定安装有风干除尘风机(23)；抓起弯折臂(22)的下端开设有活动槽口(24)，抓起弯折臂(22)的下端外部固定安装有伺服马达(25)，伺服马达(25)的输出端转动穿过抓起弯折臂(22)的下端，并穿进活动槽口(24)与真空管(26)固定相连，真空管(26)的下端固定安装有上釉抓取吸盘(27)，真空管(26)的上端与真空软管(28)的一端固定相连，真空软管(28)的另一端穿过抓起弯折臂(22)与真空泵
(29)的输出端固定相连，真空泵(29)固定安装在抓起弯折臂(22)上方；上料翻转机(7)包括横移槽口(71)、横移...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐飞，吴建春，方昶，李威，丁慧煜，
申请(专利权)人：龙泉市建春青瓷厂，
类型：发明
国别省市：