【技术实现步骤摘要】
一种异步双光路激光蚀刻装置
[0001]本技术涉及激光加工
,具体涉及一种异步双光路激光蚀刻装置。
技术介绍
[0002]在电容触控模组生产过程中,主要采用刻蚀方法的为银浆蚀刻和ITO膜蚀刻,针对电容屏的网版印刷的设备中,无论是在银浆丝印或ITO膜的蚀刻中,一般均采用黄光制程和激光束蚀刻技术,其中,黄光制程需要通过电脑设计电路图,然后将图纸导出、出菲林,待菲林出完后再进行丝印或曝光、显影等,其步骤较多,每次机型变更都需要重新出具菲林,变更麻烦且周期较长,且只能单独进行银浆丝印或ITO膜的蚀刻,耗材较多,成本投入太高;激光束蚀刻技术可以直接导入电脑设计的图纸,控制激光器和光路扫描装置直接进行激光直写,相较于黄光制程,激光束刻蚀技术更具优势,但是,激光单次加工的幅面有限120mmx120mm~170mmx170mm,且单次幅面内需要先加工ITO线路再加工银浆线路,为了实现大范围的激光蚀刻加工,需要线路分块进行多次拼接加工,因此,加工效率较低。
[0003]目前,激光精密蚀刻技术的最大幅面可以到达1600mmx275 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种异步双光路激光蚀刻装置,其特征在于,包括:加工平台、支撑件、X轴驱动组件、第一光路系统及第二光路系统;所述加工平台用于承载待加工的工件;所述支撑件与所述加工平台的上表面间隔设置;所述X轴驱动组件、所述第一光路系统和所述第二光路系统均设于所述支撑件上,所述X轴驱动组件包括第一X轴驱动件及第二X轴驱动件,所述第一光路系统和所述第二光路系统分别与所述第一X轴驱动件和所述第二X轴驱动件电性连接;其中,所述第一X轴驱动件用于带动所述第一光路系统沿X轴移动,所述第二X轴驱动件用于带动所述第二光路系统沿X轴移动;所述第一光路系统和所述第二光路系统均用于对所述工件进行刻蚀。2.根据权利要求1所述的异步双光路激光蚀刻装置,其特征在于,所述异步双光路激光蚀刻装置还包括Y轴驱动组件;所述Y轴驱动组件设于所述加工平台的上表面,所述支撑件设于所述Y轴驱动组件上、且所述支撑件的延伸方向与所述Y轴驱动组件的移动方向垂直设置;所述Y轴驱动组件用于带动所述第一光路系统和所述第二光路系统沿Y轴方向移动。3.根据权利要求2所述的异步双光路激光蚀刻装置,其特征在于,所述Y轴驱动组件包括第一Y轴驱动件及第二Y轴驱动件;所述第一Y轴驱动件和所述第二Y轴驱动件均相对布设于所述加工平台的两侧;所述支撑件的两端分别设于所述第一Y轴驱动件和所述第二Y轴驱动件,所述第一Y轴驱动件和所述第二Y轴驱动件用于带动所述支撑件沿Y轴方向移动,以带动所述第一光路系统和所述第二光路系统沿Y轴方向移动。4.根据权利要求1所述的异步双光路激光蚀刻装置,其特征在于,所述第一光路系统和所述第二光路系统相同,均包括:激光发射器、扫描振镜及聚焦场...
【专利技术属性】
技术研发人员:高茂华,林少辉,陈明琅,
申请(专利权)人:武汉中科锐择光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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