光罩缺陷检验的自动排程方法技术

本发明专利技术提供一种光罩缺陷检验的自动排程方法，获取各站点的光罩信息；定义未来N站点中无待检测的光罩为最低检验等级I，未来N站点中有待检测的光罩为优先检验组；根据各检验机台的光罩风险等级、距前次检验后的累计过货量设置定义值，定义优先检验组中符合定义值的站点为最高检测等级A；对于优先检验组中不符合定义值的各站点，获取各站点中光罩未检验的时间以及光罩检验周期控制线，根据两者的差值获取距需求检验日期的时间差；根据时间差的大小划分由高至低的检测等级；根据由高至低不同的检测等级依序对个站点中的光罩进行检验。本发明专利技术自动安排每日待检光罩，大幅度提高效率的同时，光罩缺陷检验得到精准控制。光罩缺陷检验得到精准控制。光罩缺陷检验得到精准控制。

【技术实现步骤摘要】
光罩缺陷检验的自动排程方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别是涉及一种光罩缺陷检验的自动排程方法。

技术介绍

[0002]光刻技术是半导体制造业的核心技术，而光罩又是光刻技术的模具，光罩缺陷检验是衡量光罩品质好坏的重要手段，也就需要按既定规则对光罩进行定期的缺陷检验，以确保其品质健康，维护生产安全。业界传统的缺陷检验排程均采用人工手动排程方式，结合光罩所使用光刻机机型(不同检验周期)，累计曝光次数，产品投货量等计算光罩风险等级，每日安排光罩检验，该方法不但效率低下，关键对光罩检验的周期把控不够精准，存在漏检，挡货等风险，无法根据实时投片调整检验等级，每天需求安排将近70块光罩，手动或是半自动模式，无法满足灵活投片及快节奏的工作需求。
[0003]为解决上述问题，需要提出一种新型的光罩缺陷检验的自动排程方法。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种光罩缺陷检验的自动排程方法，用于解决现有技术中采用人工手动排程方式，结合光罩所使用光刻机机型(不同检验周期)，累计曝光次数，产品投货量等计算光罩风险等级，每日安排光罩检验，该方法不但效率低下，关键对光罩检验的周期把控不够精准，存在漏检，挡货等风险，无法根据实时投片调整检验等级，无法满足灵活投片及快节奏的工作需求的问题。
[0005]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种光罩缺陷检验的自动排程方法，包括：
[0006]步骤一、获取各站点的光罩信息；
[0007]步骤二、定义未来N站点中无待检测的所述光罩为最低检验等级I，未来N站点中有待检测的所述光罩为优先检验组，其中N为正整数；
[0008]步骤三、根据各检验机台的光罩风险等级、距前次检验后的累计过货量设置定义值，定义所述优先检验组中符合所述定义值的所述站点为最高检测等级A；
[0009]步骤四、对于所述优先检验组中不符合所述定义值的各所述站点，获取各所述站点中所述光罩未检验的时间以及光罩检验周期控制线，根据两者的差值获取距需求检验日期的时间差；
[0010]步骤五、根据所述时间差的大小划分由高至低的检测等级；
[0011]步骤六、根据由高至低不同的所述检测等级依序对个所述站点中的所述光罩进行检验。
[0012]优选地，步骤一中的所述光罩的状态包括待检测和检测中。
[0013]优选地，步骤二中的所述N为3。
[0014]优选地，步骤三中所述设置定义值的方法包括：定义Arf浸没式光刻机的累积过货量≥1000、Krf扫描式光刻机的累积过货量≥2000或I线扫描式光刻机的累积过货量≥3000
的所述站点为所述最高检测等级A。
[0015]优选地，步骤三中的所述检验机台为光刻机台。
[0016]优选地，步骤五中所述根据所述检验时间差的大小划分由高至低的检测等级的方法包括：根据所述时间差的大小定义所述光罩为C至G等级以及暂无需检验NA。
[0017]优选地，步骤五中定义超过所述需求检验日期十天以上为B等级，超过所述需求检验日期五天以上为C等级，超过所述需求检验日期3天以上为D等级，刚达到所述需求检验日期为E等级，未到所述需求检验日期4天以内为F等级，未到所述需求检验日期6天以内为G等级，未到所述需求检验日期六天以上为暂无需检验NA。
[0018]优选地，步骤六中各所述站点的所述光罩的所述检测等级均在检验机台菜单中显示。
[0019]如上所述，本专利技术的光罩缺陷检验的自动排程方法，具有以下有益效果：
[0020]本专利技术通过大数据监控模式，结合光罩所使用机型，累计过货量，产品投货量，实时光罩过货档期等，自动安排每日待检光罩，大幅度提高效率的同时，光罩缺陷检验得到精准控制，满足灵活投片需求，光罩品质及产品品质得到保障。
附图说明
[0021]图1显示为本专利技术的光罩缺陷检验的自动排程方法示意图。
具体实施方式
[0022]以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。
[0023]请参阅图1，本专利技术提供一种光罩缺陷检验的自动排程方法，包括：
[0024]步骤一、获取各站点的光罩信息，可通过大数据监控等方式获取各站点机台的在线数据；
[0025]在一种可选的实施方式中，步骤一中的光罩的状态包括待检测和检测中。
[0026]步骤二、定义未来N站点中无待检测的光罩为最低检验等级I，未来N站点中有待检测的光罩为优先检验组，其中N为正整数；
[0027]在一种可选的实施方式中，步骤二中的N为3，需要说明的是，N也可根据实际情况采用其他的数值，此处不作具体限定。
[0028]步骤三、根据各检验机台的光罩风险等级、距前次检验后的累计过货量设置定义值，定义优先检验组中符合定义值的站点为最高检测等级A；
[0029]在一种可选的实施方式中，步骤三中设置定义值的方法包括：定义Arf浸没式光刻机的累积过货量≥1000、Krf扫描式光刻机的累积过货量≥2000或I线扫描式光刻机的累积过货量≥3000的站点为最高检测等级A。
[0030]在一种可选的实施方式中，步骤三中的检验机台为光刻机台。
[0031]步骤四、对于优先检验组中不符合定义值的各站点，获取各站点中光罩未检验的时间以及光罩检验周期控制线，根据两者的差值获取距需求检验日期的时间差；
[0032]步骤五、根据时间差的大小划分由高至低的检测等级；
[0033]在一种可选的实施方式中，步骤五中根据检验时间差的大小划分由高至低的检测等级的方法包括：根据时间差的大小定义光罩为C至G等级以及暂无需检验NA。需要说明的是，检测等级的数量也可以是其他值。
[0034]在一种可选的实施方式中，步骤五中定义超过需求检验日期十天以上为B等级，超过需求检验日期五天以上为C等级，超过需求检验日期3天以上为D等级，刚达到需求检验日期为E等级，未到需求检验日期4天以内为F等级，未到需求检验日期6天以内为G等级，未到需求检验日期六天以上为暂无需检验NA。
[0035]步骤六、根据由高至低不同的检测等级依序对个站点中的光罩进行检验。
[0036]在一种可选的实施方式中，步骤六中各站点的光罩的检测等级均在检验机台菜单中显示。
[0037]在一种可选的实施方式中，根据检验等级及光罩实时状态，在产能允许条件下，最大化利用检验机台产能，灵活安排光罩缺陷检验，运用大数据，结合逻辑运算，统筹安排线上光罩检验顺序，效率提高94％(3小时缩减至10min)，漏检率降至0％，产品覆盖率达100％，最大程度满足现有灵活投片需求，确保线上光罩品质安全。
[0038]需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩缺陷检验的自动排程方法，其特征在于，至少包括：步骤一、获取各站点的光罩信息；步骤二、定义未来N站点中无待检测的所述光罩为最低检验等级I，未来N站点中有待检测的所述光罩为优先检验组，其中N为正整数；步骤三、根据各检验机台的光罩风险等级、距前次检验后的累计过货量设置定义值，定义所述优先检验组中符合所述定义值的所述站点为最高检测等级A；步骤四、对于所述优先检验组中不符合所述定义值的各所述站点，获取各所述站点中所述光罩未检验的时间以及光罩检验周期控制线，根据两者的差值获取距需求检验日期的时间差；步骤五、根据所述时间差的大小划分由高至低的检测等级；步骤六、根据由高至低不同的所述检测等级依序对个所述站点中的所述光罩进行检验。2.根据权利要求1所述的光罩缺陷检验的自动排程方法，其特征在于：步骤一中的所述光罩的状态包括待检测和检测中。3.根据权利要求1所述的光罩缺陷检验的自动排程方法，其特征在于：步骤二中的所述N为3。4.根据权利要求1所述的光罩缺陷检验的自动排程方法，其特征在于：步骤三中的所述检验机台为光刻机台。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨继红，朱祎明，李文亮，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：