光学构件用涂布液、聚合物、固化膜、感光性涂布液、图案固化膜、光学构件、固体摄像元件、显示装置、聚硅氧烷化合物、涂布液中使用的稳定剂、固化膜的制造方法、图案固化膜的制造方法和聚合物的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于，提供在涂布液中稳定分散有金属细颗粒、金属化合物的光学构件用涂布液、感光性涂布液、可用于光学构件用涂布液的聚合物、使用了光学构件用涂布液的固化膜、感光性涂布液、图案固化膜、光学构件、固体摄像元件、显示装置、聚硅氧烷化合物、涂布液中使用的稳定剂。或者，本发明专利技术的课题在于，提供涂布液中使用的稳定剂的制造方法或者光学特性优异的固化膜、图案固化膜或聚合物的制造方法。光学构件用涂布液包含成分(A)、稳定剂(B)和溶剂(C)，所述成分(A)是金属细颗粒(A

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学构件用涂布液、聚合物、固化膜、感光性涂布液、图案固化膜、光学构件、固体摄像元件、显示装置、聚硅氧烷化合物、涂布液中使用的稳定剂、固化膜的制造方法、图案固化膜的制造方法和聚合物的制造方法


[0001]本申请涉及光学构件用涂布液、聚合物、固化膜、感光性涂布液、图案固化膜、光学构件、固体摄像元件、显示装置、聚硅氧烷化合物、涂布液中使用的稳定剂、固化膜的制造方法、图案固化膜的制造方法聚合物的制造方法。

技术介绍

[0002]包含硅氧烷键的高分子化合物(以下有时称为聚硅氧烷)活用其高耐热性和透明性等而用作液晶显示器、有机EL显示器的涂布材料、图像传感器的涂布材料、或者半导体领域中的密封材料。例如，专利文献1中记载了一种高折射率无机平坦化层形成用涂料，其包含两种无机氧化物细颗粒、由烷氧基硅烷的水解产物形成的二氧化硅低聚物、以及高沸点溶剂，所述两种无机氧化物细颗粒以选自由TiO2和ZrO2组成的组中的至少一者作为主成分，且长径/短径比和平均粒径不同。
[0003]另一方面，专利文献2中，为了形成较厚、耐划伤性、透明性和耐候密合性优异的硬涂层而记载了一种硬涂层形成用涂料组合物的制造方法，其包括如下工序：准备包含结晶性无机氧化物细颗粒、聚合性有机硅化合物、固化催化剂和分散介质的分散液的工序，所述结晶性无机氧化物细颗粒包含平均粒径处于5～50nm的范围且选自Ti、Zn、Sn和Zr中的1种或2种以上的金属成分；以及，通过从分散液中挥发去除全部或一部分分散介质，从而得到粘度为10～40mPa
·
s的涂料组合物的工序。
[0004]另外，专利文献3中记载了：在实心球状的二氧化硅细颗粒借助以金属氧化物作为主成分的粘结剂进行固定的低反射涂布中，作为二氧化硅细颗粒，包含平均粒径为200～600nm的二氧化硅细颗粒，粘结剂包含二氧化硅作为金属氧化物，通过对基板实施低反射涂布而得到的透射率增量为1.5％以上。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2015
‑
117277号公报
[0008]专利文献2：日本特开2015
‑
193757号公报
[0009]专利文献3：国际公开第2016/051718号

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的问题
[0011]如专利文献1～3中也有记载的那样，为了获得规定折射率的光学构件，需要使用使金属细颗粒分散于金属化合物的聚合物而得到的涂布液。但是，存在金属细颗粒容易在涂布液中发生沉降的问题，在保持涂布液的稳定性方面存在课题。
[0012]为了获得光学特性优异的光学构件，需要使涂布液的稳定性良好。本专利技术的一个实施方式的课题在于，提供在涂布液中稳定分散有金属细颗粒的光学构件用涂布液。或者，在一个实施方式中，提供不易发生金属醇盐的沉降、沉淀的涂布液。或者，在一个实施方式中，提供能够在光学构件用涂布液中使用的聚合物、使用光学构件用涂布液得到的固化膜、感光性涂布液、图案固化膜、光学构件、固体摄像元件、显示装置、聚硅氧烷化合物、涂布液中使用的稳定剂。或者，提供涂布液中使用的稳定剂的制造方法。或者，提供光学特性优异的固化膜、图案固化膜或聚合物的制造方法。
[0013]用于解决问题的方案
[0014]本专利技术人等为了解决上述课题而进行深入研究，结果发现了一种光学构件用涂布液，其包含：
[0015]成分(A)：是金属细颗粒(A
‑
1)和/或包含下述通式(1
‑
A)所示结构单元的金属化合物(A
‑
2)；
[0016]稳定剂(B)：含有包含下述通式(1)所示结构单元的聚硅氧烷化合物；
[0017]溶剂(C)。
[0018][(R1)
b
MO
c/2
](1
‑
A)
[0019][(R2)
d
(R3)
e
(OR4)
i
SiO
g/2
]ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0020]通式(1
‑
A)中，M为选自由Ti、Zr、Al、Hf、In和Sn组成的组中的至少1种，R1各自独立地为氢原子、羟基、卤素基团、碳原子数1以上且5以下的烷氧基、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、或者碳原子数1以上且10以下的氟烷基。b为0以上且小于4的数，c是大于0且为4以下的数，b+c＝3或4。通式(1)中，R2为下述通式(1a)所示的基团。
[0021][0022]通式(1a)中，X为氢原子或酸不稳定性基团。a为1～5的数，虚线表示原子键。R3各自独立地为氢原子、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、或者碳原子数1以上且10以下的氟烷基，R4各自独立地为氢原子、或者碳原子数1以上且5以下的烷基。d为1以上且3以下的数，
e
为0以上且2以下的数，f为0以上且小于3的数，g是大于0且为3以下的数，d+e+f+g＝4。
[0023]金属细颗粒(A
‑
1)优选包含选自由Si、Ti、Zr、Al、Mg、Hf、In和Sn组成的组中的至少1种。另外，金属细颗粒(A
‑
1)优选为选自由二氧化硅、中空二氧化硅、氧化钛、氧化锆、氟化镁、氧化铟锡、掺杂锑的氧化铟、氧化铪组成的组中的至少1种细颗粒。
[0024]另外，通式(1a)所示的基团优选为下述通式(1aa)～(1ad)所示基团中的任一者。
[0025][0026]通式(1aa)(1ad)中，X和虚线与通式(1a)中的定义相同。
[0027]聚硅氧烷化合物优选包含下述通式(2)和/或下述通式(3)所示的结构单元。
[0028][(R5)
h
(R6)
i
SiO
j/2
]ꢀꢀꢀ
(2)
[0029][(R7)
k
SiO
1/2
]ꢀꢀꢀ
(3)
[0030]通式(2)中，R5为选自被环氧基、氧杂环丁基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或内酯基中的任一者取代的碳原子数1以上且30以下的一价有机基团中的取代基。R6为氢原子、选自由卤素基团、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、羟基、碳原子数1以上且3以下的烷氧基、以及碳原子数1以上且10以下的氟烷基组成的组中的取代基。h为1以上且3以下的数，i为0以上且小于3的数，j是大于0且为3以下的数，h+i+j＝4。存在多个R5、R6时，其分别独立地选自上述取代基中的任一者。通式(3)中，R7为选自由卤素基团、烷氧基和羟基组成的组中的取代基。k为0以上且小于4的数，1是大于0且为4以下的数，k+1＝4。
[0031]一价有机基团R5优选为下述通式(2a)、(2b)、(2c)、(3a)或(4a)所示基团中的任一者。
[0032][0033]通式(2a)、(2b)和(2c)中，R...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学构件用涂布液，其包含成分(A)、稳定剂(B)和溶剂(C)，所述成分(A)是金属细颗粒(A
‑
1)和/或包含下述通式(1
‑
A)所示结构单元的金属化合物(A
‑
2)，所述稳定剂(B)含有包含下述通式(1)所示结构单元的聚硅氧烷化合物，[(R1)
b
MO
c/2
]
ꢀꢀ
(1
‑
A)[(R2)
d
(R3)
e
(OR4)
f
SiO
g/2
]
ꢀꢀ
(1)所述通式(1
‑
A)中，M为选自由Ti、Zr、Al、Hf、In和Sn组成的组中的至少1种，R1各自独立地为氢原子、羟基、卤素基团、碳原子数1以上且5以下的烷氧基、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、或者碳原子数1以上且10以下的氟烷基，b为0以上且小于4的数，c是大于0且为4以下的数，b+c＝3或4，所述通式(1)中，R2为下述通式(1a)所示的基团，所述通式(1a)中，X为氢原子或酸不稳定性基团，a为1～5的数，虚线表示原子键，R3各自独立地为氢原子、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、或者碳原子数1以上且10以下的氟烷基，R4各自独立地为氢原子、或者碳原子数1以上且5以下的烷基，d为1以上且3以下的数，e为0以上且2以下的数，f为0以上且小于3的数，g是大于0且为3以下的数，d+e+f+g＝4。2.根据权利要求1所述的光学构件用涂布液，其中，所述金属细颗粒(A
‑
1)包含选自由Si、Ti、Zr、Al、Mg、Hf、In和Sn组成的组中的至少1种。3.根据权利要求1所述的光学构件用涂布液，其中，所述金属细颗粒(A
‑
1)为选自由二氧化硅、中空二氧化硅、氧化钛、氧化锆、氟化镁、氧化铟锡、掺杂锑的氧化铟、以及氧化铪组成的组中的至少1种细颗粒。4.根据权利要求1所述的光学构件用涂布液，其中，所述通式(1a)所示的基团为下述通式(1aa)～(1ad)所示的基团中的任一者，所述通式(1aa)～(1ad)中，X和虚线与所述通式(1a)中的定义相同。5.根据权利要求1所述的光学构件用涂布液，其中，所述聚硅氧烷化合物包含下述通式(2)和/或下述通式(3)所示的结构单元，[(R5)
h
(R6)
i
SiO
j/2
]
ꢀꢀ
(2)
[(R7)
k
SiO
1/2
]
ꢀꢀ
(3)所述通式(2)中，R5为选自被环氧基、氧杂环丁基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或内酯基中的任一者取代的碳原子数1以上且30以下的一价有机基团中的取代基，R6为氢原子、选自由卤素基团、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、羟基、碳原子数1以上且3以下的烷氧基、以及碳原子数1以上且10以下的氟烷基组成的组中的取代基，h为1以上且3以下的数，i为0以上且小于3的数，j是大于0且为3以下的数，h+i+j＝4，存在多个R5、R6时，其分别独立地选自所述取代基中的任一者，所述通式(3)中，R7为选自由卤素基团、烷氧基和羟基组成的组中的取代基，k为0以上且小于4的数，l是大于0且为4以下的数，k+l＝4。6.根据权利要求5所述的光学构件用涂布液，其中，所述一价有机基团R5为下述通式(2a)、(2b)、(2c)、(3a)或(4a)所示基团中的任一者，所述通式(2a)、(2b)和(2c)中，R
g
、R
h
、R
i
各自独立地表示二价连接基团，虚线表示原子键，所述通式(3a)或(4a)中，R
j
和R
k
各自独立地表示二价连接基团，虚线表示原子键。7.根据权利要求5所述的光学构件用涂布液，其中，所述通式(3)所示的结构单元在所述通式(1)所示的聚硅氧烷化合物的全部结构单元之中的含量小于5摩尔％或大于50摩尔％。8.根据权利要求1所述的光学构件用涂布液，其中，所述溶剂(C)包含选自由丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、环己酮、乳酸乙酯、γ
‑
丁内酯、二丙酮醇、二甘醇二甲醚、甲基异丁基酮、乙酸3
‑
甲氧基丁酯、2
‑
庚酮、N,N
‑
二甲基甲酰胺、N,N
‑
二甲基乙酰胺、N
‑
甲基吡咯烷酮、二醇类、二醇醚类和二醇醚酯类组成的组中的至少1种化合物。9.一种聚合物，其包含通式(1)所示的结构单元和通式(1
‑
A)所示的结构单元，[(R1)
b
MO
c/2
]
ꢀꢀꢀ
(1A)[(R2)
d
(R3)
e
(OR4)
f
SiO
g/2
]
ꢀꢀ
(1)所述通式(1
‑
A)中，M为选自由Ti、Zr、Al、Hf、In和Sn组成的组中的至少1种，R1各自独立地为氢原子、羟基、卤素基团、碳原子数1以上且5以下的烷氧基、碳原子数1以上且5以下的烷基、苯基、或者碳原子数1以上且10以下的氟烷基，b为0以上且小于4的数，c是大于0且为4以...

【专利技术属性】
技术研发人员：及川祐梨，增渕毅，山中一广，四元理香子，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：