一种光学元件缺陷检测方法、装置及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光学元件缺陷检测方法、装置及存储介质，涉及光学元件缺陷检测技术领域。所述方法包括：获取待测元件的初始荧光强度数据，并对初始荧光强度数据进行去噪处理，得到第一荧光强度数据；获取仪器响应函数，并根据仪器响应函数和第一荧光强度数据，获取第二荧光强度数据；将所述第二荧光强度数据，输入荧光指数衰减模型，采取非线性拟合方法，并对所述非线性拟合方法进行算法优化，获取荧光强度值；根据荧光强度值，获取荧光强度图像，并对荧光强度图像进行数字图像处理，从荧光强度图像中提取缺陷信息。本发明专利技术通过高精度荧光强度成像，从图像中提取出缺陷信息，实现对光学元件表面缺陷的检测。元件表面缺陷的检测。元件表面缺陷的检测。

【技术实现步骤摘要】
一种光学元件缺陷检测方法、装置及存储介质


[0001]本专利技术涉及光学元件缺陷检测
，具体而言，涉及一种光学元件缺陷检测方法、装置及存储介质。

技术介绍

[0002]随着先进光学制造技术的不断发展，微电子装备、航空航天、精密测量和激光系统等应用领域对其核心组成部件精密光学元件的表面加工质量提出了更高的技术需求。特别是在一些高精密光学系统中，对光学元件表面缺陷有着严格的控制要求。
[0003]目前，在光学成像系统中应用最多的是荧光强度。例如，在光学元件的研磨过程中加入量子点的研磨液作为荧光标记物，通过激光共聚焦扫描观察光学元件中激发荧光缺陷的结构和分布。通过实验证明，光学元件的激光损伤阈值与表现出的荧光特性高度相关，可用于对元件机械加工后质量的检测和评价。还有的搭建了基于荧光强度的光学元件缺陷检测系统利用荧光强度的成像原理实现起来比较简单，但测量结果容易受到环境因素的影响，不利于定量分析。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的问题是如何实现高精度荧光强度成像，从图像中提取出缺陷信息，实现对光学元件表面缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学元件缺陷检测方法，其特征在于，包括：获取待测元件的初始荧光强度数据，并对所述初始荧光强度数据进行去噪处理，得到第一荧光强度数据；获取仪器响应函数，并根据所述仪器响应函数和所述第一荧光强度数据，获取第二荧光强度数据；将所述第二荧光强度数据，输入荧光指数衰减模型，采取非线性拟合方法，并对所述非线性拟合方法进行算法优化，获取荧光强度值；根据所述荧光强度值，获取荧光强度图像，并对所述荧光强度图像进行数字图像处理，从所述荧光强度图像中提取缺陷信息。2.根据权利要求1所述的光学元件缺陷检测方法，其特征在于，所述获取待测元件的初始荧光强度数据包括：获取激光射到所述待测元件表面不同像素区域得到的多组第一数据，每组所述第一数据包括激光在不同时间射到同一像素区域所获得的多个第二数据；所述对所述初始荧光强度数据进行去噪处理，得到第一荧光强度数据，包括：获取每组所述第一数据的离散程度，根据所述离散程度判断所述第一数据是否为噪声信号，若是，则将与所述第一数据对应的像素区域的荧光强度值设为0。3.根据权利要求2所述的光学元件缺陷检测方法，其特征在于，所述获取每组所述第一数据的离散程度包括：获取每组所述第一数据的标准差，根据所述标准差获取所述第一数据的离散程度；所述根据所述离散程度判断所述第一数据是否为噪声信号包括：将所述标准差与设定值比较，当所述标准差小于所述设定值时，判断所述第一数据为噪声信号。4.根据权利要求1所述的光学元件缺陷检测方法，其特征在于，所述仪器响应函数为：其中，G(t)为所述仪器响应函数，F
μ
为仪器响应函数的期望，F
σ
为方差，t为时间；所述根据所述仪器响应函数和所述第一荧光强度数据，获取第二荧光强度数据，包括：将所述仪器响应函数形成的荧光信号从所述第一荧光强度数据中移除，并将荧光信号达到最大值的时刻作为所述第一荧光强度数据的起始点。5.根据权利要求1所述的光学元件缺陷检测方法，其特征在于，所述将所述仪器响应函数形成的荧光信号从所述第一荧光强度数据中移除包括：根据所述第一荧光强度数据与所述仪器响应函数的关系获得所述荧光强度衰减函数，根据所述荧光强度衰减函数获得所述第二荧光强度数据；其中，所述第一荧光强度数据与所述仪器响应函数的关系为：所述第一荧光强度数据为荧光强度衰减函数与所述仪器响应函数的卷积。6.根据权利要求1所述的光学元件缺陷检测方法，其特征在于，假设所述第二荧光强度数据为{(x
i
,y
i
),(i＝1,2,
…
...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴洪义，张玉龙，叶锦平，陈晓光，张涛，孙胜利，金庆凯，吴海洋，
申请(专利权)人：宁波钢铁有限公司，
类型：发明
国别省市：