一种显示面板、制作方法和显示装置制造方法及图纸

技术编号:38522749 阅读:18 留言:0更新日期:2023-08-19 17:01
本发明专利技术公开了一种显示面板、制作方法和显示装置,其中一实施例的显示面板包括:第一衬底;设置在第一衬底上的显示基板,包括多个显示单元、桥接区、以及镂空区;设置在显示基板上的第二衬底;显示面板还包括粘接第一衬底和显示基板的第一粘接层、以及粘接第二衬底和显示基板的第二粘接层,其中,第一粘接层在第一衬底上的正投影落入显示单元在第一衬底上的正投影内,第二粘接层在第一衬底上的正投影落入显示单元在第一衬底上的正投影内。本发明专利技术提供的实施例通过仅在显示面板的各显示单元靠近第一衬底和第二衬底的位置点胶并形成粘接层,能够避免因粘接层胶体材料失效导致的显示不良的问题,具有实际应用价值。具有实际应用价值。具有实际应用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、制作方法和显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
,特别是涉及一种显示面板、制作方法和显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的快速发展,可拉伸、可折叠等柔性显示装置越来越受到用户的青睐。相关技术中,柔性显示装置通常采用显示岛—桥接区—镂空区的结构,然而,在实际使用过程中,存在拉伸失效的情况。

技术实现思路

[0003]为了解决上述问题至少之一,本专利技术第一方面提供一种显示面板,包括:
[0004]第一衬底;
[0005]设置在所述第一衬底上的显示基板,包括阵列排布的多个显示单元、连接相邻显示单元的桥接区、以及位于所述显示单元和桥接区之间的镂空区;
[0006]设置在所述显示基板上的第二衬底;
[0007]所述显示面板还包括粘接所述第一衬底和显示基板的第一粘接层、以及粘接所述第二衬底和显示基板的第二粘接层,其中
[0008]所述第一粘接层在所述第一衬底上的正投影落入所述显示单元在所述第一衬底上的正投影内,所述第二粘接层在所述第一衬底上的正投影落入所述显示单元在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:第一衬底;设置在所述第一衬底上的显示基板,包括阵列排布的多个显示单元、连接相邻显示单元的桥接区、以及位于所述显示单元和桥接区之间的镂空区;设置在所述显示基板上的第二衬底;所述显示面板还包括粘接所述第一衬底和显示基板的第一粘接层、以及粘接所述第二衬底和显示基板的第二粘接层,其中所述第一粘接层在所述第一衬底上的正投影落入所述显示单元在所述第一衬底上的正投影内,所述第二粘接层在所述第一衬底上的正投影落入所述显示单元在所述第一衬底上的正投影内。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示单元包括层叠设置在所述第一衬底上的驱动电路层、发光功能层、封装层和彩膜层,所述显示单元包括至少一个子像素。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示基板靠近所述第一衬底一侧,所述每个显示单元靠近所述桥接区和镂空区的边缘包括环绕所述显示单元的第一阻挡坝,用于阻挡形成所述第一粘接层的胶体材料溢出;所述显示基板靠近所述第二衬底一侧,所述每个显示单元靠近所述桥接区和镂空区的边缘包括环绕所述显示单元的第二阻挡坝,用于阻挡形成所述第二粘接层的胶体材料溢出。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示单元包括多个子像素,靠近所述桥接区和镂空区的子像素在所述第一衬底上的正投影与所述第一阻挡坝在所述第一衬底上的正投影至少部分重叠,靠近所述桥接区和镂空区的子像素在所述第一衬底上的正投影与所述第二阻挡坝在所述第一衬底上的正投影至少部分重叠。5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述封装层在所述第一衬底上的正投影的形状为环形;所述封装层在所述第一衬底上的正投影落入所述第一粘接层在所述第一衬底上的正投影内;所述封装层在所述第一衬底上的正投影落入所述第二粘接层在所述第一衬底上的正投影内。6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示基板靠近所述第一衬底的一侧设置有基板衬底,所述显示基板靠近所述第二衬底的一侧设置有平坦化层;所述第一粘接层的胶体材料的杨氏模量大于所述基板衬底的杨氏模量;所述第二粘接层的胶体材料的杨氏模量大于所述平坦化层的杨氏模量。7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示单元包括层叠设置在所述第一衬底上的驱动电路层和芯片层,其中所述驱动电路层包括多个驱动电极;所述芯片层包括至少一个LED芯片,每个LED芯片的芯片电极与所述驱动电极一一对位连接;所述第二粘接层覆盖所述驱动电极和芯片电极。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述显示基板靠近所述第一衬底的一侧设置有基板衬底,所述第一粘接层的胶体材料的杨氏模量大于所述基板衬底...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛金祥孙中元安澈张可忆张峰杰焦志强袁广才先建波
申请(专利权)人:北京京东方技术开发有限公司
类型:发明
国别省市:

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