【技术实现步骤摘要】
一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺
[0001]本专利技术涉及薄膜
，具体涉及一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺。
技术介绍
[0002]高分子膜是以有机高分子聚合物为材料制成的薄膜。随着石油工业和科技的发展，高分子膜的应用领域不断扩大，由最初的包装膜发展到了智能高分子膜、高分子功能膜等。其中用量最大的是选择性分离膜，如离子交换膜、微孔过滤膜、超过滤膜、液膜、液晶膜等。已应用的领域有核燃料及金属提炼、气体分离、海水淡化、超纯水制备、污废处理、人工脏器的制造、医药、食品、农业、化工等各方面。现有的高分子绝缘电子薄膜隔热性不佳，因此，本专利技术提供一种具有良好隔热性的高分子绝缘电子薄膜加工工艺。
技术实现思路
[0003]为了解决现有的技术问题，本专利技术提供了一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺。
[0004]本专利技术解决技术问题具体采用如下技术方案：
[0005]本专利技术提供了一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺，包括以下步骤：
[0006]以重量份计，称取原料，高分子材料30
‑
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：以重量份计，称取原料，高分子材料30
‑
50份、甲基纤维素1
‑
4份、阻燃剂3
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5份、抗氧剂0.1
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0.5份、成膜剂2
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4份、固化剂1
‑
2份、改性纳米二氧化硅2
‑
8份、去离子水15
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20份；将高分子材料、甲基纤维素、阻燃剂、抗氧剂、改性纳米二氧化硅、去离子水，在150
‑
180℃下，搅拌混合50
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60分钟，然后加入固化剂和成膜剂搅拌混合30
‑
50分钟，螺杆挤出机熔融、混炼、挤出、造粒拉膜得到薄膜。2.根据权利要求1所述的一种高分子绝缘电子薄膜加工工艺，其特征在于，所述改性纳米二氧化硅的制备方法如下：将纳米二氧化硅加去离子水配置成质量分数为5
‑
10％的悬浮液，在30
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50℃下，然后加入表面活性剂搅拌混合，所述纳米二氧化硅与表面活性剂之间的质量比为10：1，反应90
...
【专利技术属性】
技术研发人员：余丹，王正乾，
申请(专利权)人：苏州航恒电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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