壳体、壳体制备方法及电子设备技术

本申请提供一种壳体、壳体制备方法及电子设备。所述壳体具有预设表面，所述预设表面具有多个凸起结构，所述凸起结构为四棱锥，所述四棱锥具有四个反光面，所述预设表面的表面粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤4.0μm。本申请实施方式提供的壳体，由于所述预设表面具有多个凸起结构，当光线照射至所述壳体时，所述凸起结构的所述反光面对所述光线进行反射，因此，所述壳体呈现出闪光效果，即，本申请实施方式提供的壳体具有较好的CMF外观装饰效果。此外，所述预设表面的表面粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤4.0μm，从而使得所述预设表面具有较高的粗糙度，在触摸体验上兼具细腻感以及砂粒感。粒感。粒感。

【技术实现步骤摘要】
壳体、壳体制备方法及电子设备
[0001]本申请为2021年10月15日递交的申请名称为“壳体、壳体制备方法及电子设备”的申请号为
[0002]202111207830.8的在先申请的分案申请，上述在先申请的内容以引用的方式并入本文本中。


[0003]本申请涉及电子
，尤其涉及一种壳体、壳体制备方法及电子设备。

技术介绍

[0004]随着技术的发展，手机和平板电脑等电子设备已经成为了人们不可或缺的工具。消费者在面对琳琅满目的电子设备时，不仅需要考虑电子设备的功能是否满足自身需求，电子设备的壳体的外观也是左右消费者是否选购的重要因素之一。相关技术中的壳体的外观效果相对单一，无法满足用户对壳体的外观效果的丰富追求。

技术实现思路

[0005]第一方面，本申请提供一种壳体，所述壳体具有预设表面，所述预设表面具有多个凸起结构，所述凸起结构为四棱锥，所述四棱锥具有四个反光面，所述反光面用于反射光线，所述预设表面的表面粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤4.0μm。
[0006]第二方面，本申请提供一种壳体制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种壳体，其特征在于，所述壳体具有预设表面，所述预设表面具有多个凸起结构，所述凸起结构为四棱锥，所述四棱锥具有四个反光面，所述反光面用于反射光线，所述预设表面的表面粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤4.0μm。2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述预设表面的粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤3.5μm。3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述凸起结构在所述预设表面上的正投影上相距最远的两点之间的距离L的范围为：30μm≤L≤150μm。4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述凸起结构的高度H为：3μm≤H≤15μm。5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述壳体的透过率Tg≤15％。6.如权利要求5所述的壳体，其特征在于，所述壳体的透过率Tg为：5％≤Tg≤15％。7.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，相邻的两个凸起结构的中心点之间的间距Jd为：50μm≤Jd≤200μm。8.一种壳体制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供玻璃基材，所述玻璃基材包括待处理表面；将所述玻璃基材浸泡于蒙砂液中并进行抛动，以在待处理表面形成晶体膜；以及去除所述晶体膜，以得到壳体，其中，所述壳体具有由所述待处理表面得到的预设表面，且所述预设表面具有多个凸起结构，其中，所述凸起结构为四棱锥，所述四棱锥具有四个反光面，所述反光面用于反射光线，所述预设表面的表面粗糙度Ra的范围为：1.5μm≤Ra≤4.0μm。9.如权利要求8所述的壳体制备方法，其特征在于，所述将所述玻璃基材浸泡于蒙砂液中并进行抛动，以在待处理表面形成晶体膜，包括：将玻璃基材浸泡于蒙砂液中并进行玻璃基材抛动，所述玻璃基材与所述蒙砂液发生反应，生成晶核，所述晶核覆盖在所述待处理表面；所述待处理表面中未被所述晶核覆盖的区域继续与所述蒙砂液发生反应生成晶体，所述晶体吸附于所述晶核上生长，所述晶体用于抑制被覆盖的玻璃基材与所述蒙砂液发生反应；以及经过总时长t，在所述待处理表面形成预设厚度的晶体膜。10.如权利要求8所述的壳体制备方法，其特征在于，所述蒙砂液包括：重量百分比的范围为5％～10％的氢氟酸；重量百分比的范围为35％～50％的氟化氢铵；重量百分比的范围为20％～35％的盐酸；重量百分比的范围为3％～5％的硫酸钡；以及重量百分比的范围为5％～10％水。11.如权利要求10所述的壳体制备方法，其特征在于，所述蒙砂液包括：重量百分比的范围为6％～8％的氢氟酸；重量百分比的范围为42％～45％的氟化氢铵；重量百分比的范围为28％～30％的盐酸；重量百分比为4％硫酸钡；以及重量百分比为8％...

【专利技术属性】
技术研发人员：祝鹏辉，杨啸，张世龙，王语鉴，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：