一种平面近场法天线测量中的扫描探头修正方法技术

技术编号:38436270 阅读:40 留言:0更新日期:2023-08-11 14:21
本发明专利技术公开了一种平面近场法天线测量中的扫描探头修正方法,属于天线测量技术领域,包括以下步骤:步骤一、在待测天线的辐射近场区,进行平面近场扫描测量,得到一个平面上的待测天线近场幅度和相位数据;步骤二、将天线近场数据变换到天线远场;步骤三:测量扫描探头的增益和方向图;步骤四:将扫描探头的增益和方向图从共同结果中去除,得到待测天线的增益和远场方向图。本发明专利技术通过实测数据进行探头影响去嵌入,从共同结果中将探头影响去除,可以大幅度降低探头影响,有效修正增益和方向图测量结果;解决了探头影响的实际评估分析,对于提升平面近场法天线测量准确度具有至关重要的意义。要的意义。要的意义。

【技术实现步骤摘要】
一种平面近场法天线测量中的扫描探头修正方法


[0001]本专利技术涉及天线测量
,具体涉及一种平面近场法天线测量中的扫描探头修正方法。

技术介绍

[0002]天线是一种发射或接收电磁波的电子器件,用于实现自由空间电磁场和导波系统电磁场之间的相互转换,是无线电设备中的关键部件。无线电通信、广播、电视、雷达、导航、电子对抗、遥感、射电天文等工程系统,凡是利用电磁波来传递信息的,都依靠天线进行工作,无论民用还是国防领域,天线的应用都极其广泛。
[0003]影响天线性能的关键参数包括增益、交叉极化、辐射方向图等。其中辐射方向图反映了天线在空间不同方向上辐射或接收功率的强弱,通常对最大值做归一化,是一个三维的立体图,很多重要的天线参数如相位中心、主瓣半功率波束宽度(HPBW)等都可以根据三维辐射方向图得到。
[0004]三维辐射方向图虽然仅涉及到相对值,然而要想准确地测量却并非易事,尤其是对于超低副瓣天线、测量第一零点波瓣宽度等,此时远场测试已不再适用,可以采用近场测量方法。所谓近场测量是在天线辐射近场区域实施,利用一个特性已知的探本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平面近场法天线测量中的扫描探头修正方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、在待测天线的辐射近场区,使用两个正交扫描探头进行平面近场扫描测量,得到距离待测天线一定距离的平面上的待测天线近场幅度和相位数据;步骤二、将天线近场数据变换到天线远场;步骤三、测量扫描探头的增益和方向图;步骤四、将扫描探头的增益和方向图从共同结果中去除,得到待测天线的增益和远场方向图。2.根据权利要求1所述的平面近场法天线测量用扫描探头修正方法,其特征在于,待测天线为发射天线,扫描探头为开口波导形式,该扫描探头在距离待测天线3至10个波长的距离的一个平面上按照一定间隔进行移动,用来采集待测天线辐射近场处的场分布,包含场幅度和场相位。3.根据权利要求1所述的平面近场法天线测量用扫描探头修正方法,其特征在于,步骤一中,两个正交扫描探头接收处的传输方程分别为:b
′0(P)=F

a0∫t
10
(K)
·
s

02
(K)e
iγd
e
iK
·
P
dK;b
″0(P)=F

a0∫t
10
(K)
·
s

02
(K)e
iγd
e
iK
·
P
dK;其中,b
′0(P)和b
″0(P)分别是两个正交的探头的输出;P是在z=d平面上的x,y位置矢量;a0是待测天线的输入功率;F

和F

分别是两次探头和负载之间的阻抗修正系数;s

02
(K)和s

【专利技术属性】
技术研发人员:沈伦玉周祚赵虔邓乐武杜微魏平李华军吴杰
申请(专利权)人:成都飞机工业集团有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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