【技术实现步骤摘要】
MicroLED微显示芯片及其制造方法
[0001]本申请是属于MicroLED微显示芯片领域,特别是关于MicroLED微显示芯片及其制造方法。
技术介绍
[0002]MicroLED微显示芯片,是指由多个单像素元件高密度集成的微型LED阵列,阵列中的每个像素点都能自发光。MicroLED微显示芯片具有高亮度、高分辨率等优异性能。
[0003]随着MicroLED显示技术的出现,使得显示设备如增强现实(Augmented Reality,AR)显示设备、虚拟现实(Virtual Reality,VR)显示设备、近眼显示(Near
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Eye Display,NED)以及抬头显示(Head Up Display,HUD)设备等的微型化和高分辨率成为可能。
[0004]但是,在工作过程中,LED单元的像素电阻较高,导致MicroLED微显示芯片的整体功耗较大。
技术实现思路
[0005]本申请的目的在于提供MicroLED微显示芯片及其制备方法,降低LED单元的像素电阻。 >[0006]下面对本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种MicroLED微显示芯片,其特征在于,包括:驱动基板(10),所述驱动基板(10)包括多个第一触点(101);多个LED单元(200),阵列排布于所述驱动基板(10)上且每一所述LED单元(200)能够独立地被驱动,所述第一触点(101)位于相邻的所述LED单元(200)之间;每一所述LED单元(200)具有台阶结构,所述LED单元(200)具有第一掺杂型半导体层(210)、第二掺杂型半导体层(220)和位于两者之间的有源层(230);所述台阶结构至少使相邻的所述LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220)彼此断开且电隔离;第一钝化层(240),覆盖所述LED单元(200),所述第一钝化层(240)包括第一开孔(1011)和第二开孔(1012),所述第一开孔(1011)暴露对应的所述第一触点(101),所述第二开孔(1012)暴露对应的所述LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220);多个金属反射罩(250),所述金属反射罩(250)覆盖在所述第一钝化层(240)上并包围对应所述LED单元(200)的台阶结构,相邻所述金属反射罩(250)彼此断开且电隔离;所述金属反射罩(250)与对应的所述LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220)电性连接,所述金属反射罩(250)通过所述第一开孔(1011)与对应的所述第一触点(101)电性连接。2.根据权利要求1所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述金属反射罩(250)包括第三开孔(1013),所述第三开孔(1013)暴露对应的LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220);所述MicroLED微显示芯片还包括:电极层(270),所述电极层(270)设置于金属反射罩(250)上,用于将所述金属反射罩(250)与对应的所述LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220)电性连接,所述电极层(270)通过所述第二开孔(1012)与第二掺杂型半导体层(220)接触并电性连接,所述电极层(270)通过所述第三开孔(1013)与所述金属反射罩(250)接触并电性连接。3.根据权利要求2所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述MicroLED微显示芯片还包括:第二钝化层(260);所述第二钝化层(260)设于所述金属反射罩(250)和所述电极层(270)之间,所述第二钝化层(260)设有第四开孔(1014),所述第四开孔(1014)暴露对应的所述LED单元(200)的所述第二掺杂型半导体层(220)。4.根据权利要求3所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述第四开孔(1014)在垂直方向上的投影不小于所述第三开孔(1013)在垂直方向上的投影,并暴露所述第三开孔(1013)。5.根据权利要求2所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述第三开孔(1013)在垂直方向上的投影不小于所述第二开孔(1012)在垂直方向上的投影,并暴露所述第二开孔(1012)。6.根据权利要求5所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述第二开孔(1012)以及所述第三开孔(1013)形成台阶。7.根据权利要求4所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述第二开孔(1012)、所述第三开孔(1013)以及所述第四开孔(1014)形成台阶。
8.根据权利要求1所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述MicroLED微显示芯片还包括:键合层(60),所述键合层(60)设于所述驱动基板(10)和所述LED单元(200)之间,所述键合层(60)为金属材质或非金属材质。9.根据权利要求1所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述金属反射罩(250)采用金、银、铝、铜、钛中的任意一种或多种的组合。10.根据权利要求2所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,所述电极层(270)采用氧化铟锡、ZnO、AZO、ATO、FTO、SnO2中的一种或多种组成。11.根据权利要求1所述的MicroLED微显示芯片,其特征在于,相邻所述LED单元(200)的第一掺杂型半...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晓楠,顾银冬,张盼盼,庄永漳,孙志鹏,张庆,
申请(专利权)人:镭昱光电科技苏州有限公司,
类型:发明
国别省市:
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