质量分析方法及质量分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的质量分析装置即使在CE值个数不同的情况下也将累计质谱的图案的变化抑制得较小，具备包括碰撞池(17)和对产物离子进行质量分析的质量分离部(20～23)的测量部(1)，能够执行MS/MS分析，该质量分析装置具备：CES法条件决定部(321)，与包含CE值的范围及CE值的个数的条件对应来决定CES法中的多个CE值，以将个数为n+1(其中n为3以上的任意整数)时的n+1个CE值设为在该个数为n时的n个CE值加入与其不同的1个CE值而得的值的方式，决定n+1个CE值；分析控制部(30)，将CE依次变化为在CES法条件决定部中决定的n+1个CE值，并且控制测量部以执行各CE值下的MS/MS分析；数据处理部(33)，累计分别得到的不同CE值下的质谱来获取累计质谱。质谱。质谱。

【技术实现步骤摘要】
质量分析方法及质量分析装置


[0001]本专利技术涉及能够进行MS/MS分析的质量分析装置及该质量分析装置中的质量分析方法。

技术介绍

[0002]为了鉴定分子量大的化合物或解析其化合结构，作为质量分析的方法之一的MS/MS分析是有用的方法。作为能够进行MS/MS分析的质量分析装置，众所周知有三重四极型质量分析装置和四极
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飞行时间型质量分析装置(以下称为“Q
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TOF型质量分析装置”)。一般来说，这些质量分析装置具备碰撞池，使具有规定的能量(碰撞能量)并导入到碰撞池内的离子与碰撞气体碰撞，产生碰撞诱导解离(C I D)，从而使该离子解离。然后，对通过该解离而生成的产物离子进行质量分析从而生成质谱(产物离子谱)。
[0003]化合物中的各种键合部位的键合能量因其部位而异，因此键合部位的容易被切断的程度也因其部位而异。因此，在上述质量分析装置中，若使导入到碰撞池的离子所具有的碰撞能量(以下有时简称为“CE”)变化，则即使是源自相同化合物的相同离子，解离的方式不同，得到的产物离子谱的峰图案也有所不同。
[0004]一般来说，为了鉴定具有复杂的化学结构的化合物或进行结构解析，判明源自该化合物的各种片段的质量比较方便。因此，以往已知有碰撞能量扩展法(以下称为“CES法”)这样的分析方法，对一个目标化合物将CE值改变为多个阶段同时反复进行产物离子扫描测量，累计这样得到的多个质谱从而生成可观测到各种种类的产物离子的质谱(参照专利文献1等)。这样生成的累计的质谱(以下称为“累计质谱”)是混杂了源自通过在不同CE值下的解离而生成的各种产物离子的峰的质谱。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：国际公开第2019/229942号

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]在CES法中期望累计各种CE值下的质谱，但此时的CE值的个数(CE值的变化的级数)受到质谱的累计次数和测量时间等分析条件的限制。在现有的质量分析装置中，CES法时的CE值是通过将作为分析条件之一的直接或间接指定的CE值的范围(下限值～上限值)除以由谱累计次数或分配给基于CES法的测量的时间等限制确定的CE值个数来决定的。例如，在CE值范围为20～50V、CE值个数为5的情况下，CES法中的CE值(V)为20、27.5、35、42.5、50的5个阶段。此外，在相同的CE值范围内CE值个数为4的情况下，CES法中的CE值(V)为20、30、40、50的4个阶段。另外，CE值的单位有时也使用eV，但由于通常用提供碰撞能量的电压示出的情况较多，因此在此将单位统一为V。
[0010]如此，即使CE值范围相同，若CE值个数即分析条件不同，则CE值也会发生较大变
化，其结果为，有时累计质谱的图案会发生较大变化。累计质谱对于利用了基于数据库的图案匹配等进行的化合物的鉴定是有用的，但若在CE值个数不同的情况下累计质谱的图案的变化较大，则有可能妨碍如上所述的化合物鉴定。此外，也存在难以比较不同的累计质谱的问题。
[0011]本专利技术是为了解决上述技术问题而完成的，其主要目的在于，提供一种在获取基于CES法的累计质谱时，即使在改变CE值个数的情况下也能够避免累计质谱的图案发生较大变化的质量分析方法及质量分析装置。
[0012]用于解决上述技术问题的方案
[0013]为了解决上述技术问题而完成的本专利技术的质量分析方法的一方案，使用质量分析装置执行使碰撞能量变化为多个阶段同时累计分别得到的质谱来获取累计质谱的碰撞能量扩展法，所述质量分析装置具备包括使离子解离的碰撞池和对通过解离生成的产物离子进行质量分析的质量分离部的测量部，并且能够执行MS/MS分析，其中，所述质量分析方法具有如下步骤：
[0014]CES法条件决定步骤，是与包含碰撞能量值的范围及碰撞能量值的个数的给定条件对应来决定碰撞能量扩展法中的多个碰撞能量值的步骤，以将所述个数为n+1(其中n为3以上的任意整数)时的n+1个碰撞能量值设为在该个数为n时的n个碰撞能量值加入与其不同的1个碰撞能量值而得的值的方式，来决定所述n+1个碰撞能量值；
[0015]分析执行步骤，将碰撞能量依次设定为在所述CES法条件决定步骤中决定的n+1个碰撞能量值，并且控制所述测量部以执行各碰撞能量值下的MS/MS分析，由此分别获取质谱。
[0016]此外，为了解决上述技术问题而完成的本专利技术的质量分析装置的一方案，具备包括使离子解离的碰撞池和对通过解离生成的产物离子进行质量分析的质量分离部的测量部，并且能够执行MS/MS分析，所述质量分析装置具备：
[0017]CES法条件决定部，与包含碰撞能量值的范围及碰撞能量值的个数的给定条件对应来决定碰撞能量扩展法中的多个碰撞能量值，以将所述个数为n+1(其中n为3以上的任意整数)时的n+1个碰撞能量值设为在该个数为n时的n个碰撞能量值加入与其不同的1个碰撞能量值而得的值的方式，来决定所述n+1个碰撞能量值；
[0018]分析控制部，将碰撞能量依次变化为在所述CES法条件决定部中决定的n+1个碰撞能量值，并且控制所述测量部以执行各碰撞能量值下的MS/MS分析；
[0019]数据处理部，累计在所述分析控制部的控制下分别得到的不同的碰撞能量值下的质谱来获取累计质谱。
[0020]专利技术效果
[0021]根据本专利技术的质量分析方法及质量分析装置的上述方案，在执行CES法时，即使在CE值范围内的CE值个数不同的情况下，也有很多共通的CE值，因此能够将累计质谱的谱图案的差异抑制得较小。由此，例如能够以高精度进行基于利用了累计质谱的数据库的图案匹配等的化合物鉴定。此外，容易进行对不同试样的累计质谱彼此的比较。
附图说明
[0022]图1是本专利技术的一实施方式的Q
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TOF型质量分析装置的主要部分的构成图。
[0023]图2是示出本实施方式的质量分析装置中的CE值个数与CE值的关系的一例的图。
[0024]图3是示出现有的质量分析装置中的CE值个数与CE值的关系的一例的图。
具体实施方式
[0025]以下，参照附图对本专利技术的质量分析装置的一实施方式的Q
‑
TOF型质量分析装置进行说明。
[0026]图1是本实施方式的Q
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TOF型质量分析装置的主要部分的构成图。
[0027]如图1所示，该质量分析装置具备：测量部1、控制与处理部3、输入部4、显示部5。测量部1包括：大致大气压气氛的离子化室101、内部被划分为四个的真空腔10。在真空腔10内设有第1中间真空室102、第2中间真空室103、第1高真空室104及第2高真空室105，各室被未图示的真空泵(涡轮分子泵及旋转泵)抽真空，从而以上述顺序使真空度变高。即，该测量部1为多级差动排气系统的构成。
[0028]在离子化室101中配置有电喷雾离子化(ES I：E 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种质量分析方法，使用质量分析装置执行使碰撞能量变化为多个阶段同时累计分别得到的质谱来获取累计质谱的碰撞能量扩展法，所述质量分析装置具备包括使离子解离的碰撞池和对通过解离生成的产物离子进行质量分析的质量分离部的测量部，并且能够执行MS/MS分析，所述质量分析方法的特征在于，具有：CES法条件决定步骤，是与包含碰撞能量值的范围及碰撞能量值的个数的给定条件对应来决定碰撞能量扩展法中的多个碰撞能量值的步骤，以将所述个数为n+1时的n+1个碰撞能量值设为在该个数为n时的n个碰撞能量值加入与其不同的1个碰撞能量值而得的值的方式，来决定所述n+1个碰撞能量值，其中，n为3以上的任意整数；分析执行步骤，将碰撞能量依次设定为在所述CES法条件决定步骤中决定的n+1个碰撞能量值，并且控制所述测量部以执行各碰撞能量值下的MS/MS分析，由此分别获取质谱。2.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，在所述CES法条件决定步骤中，在所述n个碰撞能量值加入与其不同的1个碰撞能量值时，优先沿着值相邻的2个碰撞能量值的间隔大的碰撞能量值，在该2个碰撞能量值之间加入新的碰撞能量值。3.如权利要求2所述的质量分析方法，其特征在于，在所述CES法条件决定步骤中，在所述2个碰撞能量值之间加入新的碰撞能量值时，加入该2个碰撞能量值的中间值。4.如权利要求2所述的质量分析方法，其特征在于，在所述CES法条件决定步骤中，在存在多个所述2个碰撞能量值的间隔相同的碰撞能量值的情况下，优先对能量值...

【专利技术属性】
技术研发人员：前田一真，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：