具有用于减少衍射伪影的多层偏振光栅的光学元件制造技术

一种光学元件包括第一双折射介质光栅层(455)，该第一双折射介质光栅层具有倾斜的布拉格光栅平面(475)，并且该第一双折射介质光栅层中的第一光学各向异性分子的指向矢的取向随沿水平方向的第一面内间距和第一竖直间距在空间上变化。该光学元件还包括第二双折射介质层(460)，该第二双折射介质层具有倾斜的布拉格光栅平面(465)，并且该第二双折射介质层中的第二光学各向异性分子的指向矢的取向随第二面内间距和第二竖直间距在空间上变化。该第二双折射介质层与该第一双折射介质层光学耦合，并且该第二双折射介质层被配置成减少由该第一双折射介质层衍射的光的色散效应。该第一面内间距与该第二面内间距基本相同，并且该第二竖直间距小于该第一竖直间距，这意味着第二光栅的扭转角大于第一光栅的扭转角。第二光栅的扭转角大于第一光栅的扭转角。第二光栅的扭转角大于第一光栅的扭转角。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有用于减少衍射伪影的多层偏振光栅的光学元件


[0001]本公开总体上涉及光学设备，并且更具体地，涉及具有用于减少衍射伪影(diffraction artifact)的多个层的光学元件。

技术介绍

[0002]偏振选择性元件在光学设备和光学系统的应用中(例如在射束转向设备、波导和显示器中)得到了越来越多的关注。可以基于光学各向同性材料或光学各向异性材料来制造偏振选择性元件，并且偏振选择性元件可以包括合适的亚波长结构、液晶、光折变全息材料或它们的任意组合。偏振体全息图(“polarization volume hologram，PVH”)是一种偏振选择性元件。PVH的光轴在面内方向上和在面外方向上都具有在空间上变化的取向，以提供偏振敏感的全息响应。PVH或PVH元件具有紧凑、偏振选择性、衍射效率高、衍射效率大等特点。因此，可以在各种各样的
的各种应用中实施PVH。可以使用各种方法(例如全息干涉或全息术、激光直写和各种其它形式的光刻)来制造PVH元件。

技术实现思路

[0003]根据本公开的第一方面，提供了一种光学元件，该光学本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学元件，所述光学元件包括：第一双折射介质层，所述第一双折射介质层中的第一光学各向异性分子的指向矢的取向随第一面内间距和第一竖直间距在空间上变化；以及第二双折射介质层，所述第二双折射介质层中的第二光学各向异性分子的指向矢的取向随第二面内间距和第二竖直间距在空间上变化，所述第二双折射介质层与所述第一双折射介质层光学耦合，并且所述第二双折射介质层被配置成减少所述第一双折射介质层对光的衍射，其中，所述第一面内间距与所述第二面内间距基本相同，并且所述第二竖直间距小于所述第一竖直间距。2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述第二竖直间距与所述第一竖直间距之间的比值在0.2
‑
0.8的范围内。3.根据权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述第二竖直间距与所述第一竖直间距之间的比值约为0.5。4.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其中，所述第二双折射介质层的厚度与所述第一双折射介质层的厚度之间的比率小于约5％、10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％或50％。5.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其中，所述第一双折射介质层或所述第二双折射介质层中的至少一者具有光轴，所述光轴被配置成在面内方向上和在面外方向上都具有在空间上变化的取向。6.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其中，所述第一双折射介质层或所述第二双折射介质层中的至少一者包括聚合液晶LC、聚合物稳定LC、光聚合物、或有源LC中的至少一者。7.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其中，所述第一双折射介质层或所述第二双折射介质层中的至少一者包括向列型LC、扭转弯曲型LC、手性向列型LC或层列型LC中的至少一者。8.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，所述光学元件还包括：第三双折射介质层，所述第三双折射介质层中的第三光学各向异性分子的指向矢的取向随第三面内间距和第三竖直间距在空间上变化，其中，所述第三面内间距与所述第一面内间距基本相同，并且所述第三竖直间距小于所述第一竖直间距，并且其中，所述第三竖直间距与所述第二竖直间距基本相同或与所述第二竖直间距不同。9.根据权利要求1至7中任一项所述的光学元件，所述光学元件还包括：第三双折射介质层，所述第三双折射介质层中的第三光学各向异性分子的指向矢的取向随第三面内间距和第三竖直间距在空间上变化；以及第四双折射介质层，所述第四双折射介质层中的第四光学各向异性分子的指向矢的取向随第四面内间距和第四竖直间距在空间上变化，其中，所述第四面内间距与所述第三面内间距基本相同，并且所述第四竖直间距小于所述第三竖直间距。10.根据权利要求9所述的光学元件，其中，所述第三面内间距与所述第一面内间距基
本相同或与所述第一面内间距不同，并且所述第三竖直间距与所述第一竖直间...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯考特，
申请(专利权)人：元平台技术有限公司，
类型：发明
国别省市：