真空设备和真空设备部件制造技术

真空设备和真空设备部件。该真空设备(100)包括：具有工艺处理区域(111)的真空室(110)；用于借助于工艺在工艺处理区域(111)中对衬底(241)进行工艺处理的工艺处理设备(120)，其中气态材料(150)被发射到工艺处理区域(111)中；和预制的积聚表面结构(230)，该积聚表面结构具有多个不平坦部(231)，用于积聚气态材料(150)；其中多个不平坦部(231)借助于嵌入预制的积聚表面结构(230)的结构材料中的固体颗粒或借助于结构材料的激光结构化来提供。供。供。

【技术实现步骤摘要】
真空设备和真空设备部件


[0001]不同的实施例涉及真空设备和真空设备部件。

技术介绍

[0002]通常，真空设施的暴露于在其中执行的覆层工艺的一个或多个构件同样会被覆层，使得这些构件获得寄生覆层(也称作为寄生层)，其中在所述覆层工艺中应对衬底覆层。这种寄生覆层会不利地影响真空设施，例如当寄生覆层的组成部分脱离进而干扰真空设施内的真空和/或覆层工艺时。
[0003]通常，定期清洁寄生覆层的表面以移除寄生覆层，这当然是耗费的并且会与高成本联系在一起。传统的清洁工艺还会损坏相关的构件，由此通常整体地更换尤其小的和/或敏感的构件。此外，清洁工艺会与真空设施的停机时间和工艺效率的减小联系在一起。

技术实现思路

[0004]根据不同的方面已经认识到，会有利的是：寄生覆层尽可能牢固地附着(也称为附着)进而结合在真空系统内。这例如抑制寄生覆层的组成部分的脱离进而抑制由于寄生覆层(也称作寄生层)而对真空系统的不利影响。因此，可以扩大两个清洁工艺之间的时间间距，这降低了成本和/或提高了工艺效率。
[0005]直观地已经认识到：寄生覆层的附着例如可以通过如下方式改进：上面形成寄生覆层的表面被粗化，例如表面设有不平坦部。这有助于寄生覆层与表面不平坦部的机械联结(也称作为形状配合)。在该上下文中认识到：用于粗化表面的常规的工艺(例如喷砂或酸洗)是昂贵的和/或会引起损坏。与之相对，根据不同的实施方式，粗化借助于激光结构化或借助于用固体颗粒覆层来进行，这是便宜的并且温和地进行(例如，损坏更小)。
[0006]根据不同的实施方式，可以提供一种设备和方法，其改进表面和沉积在表面上的材料(在本文中也称为寄生层或积聚部)之间的增附。
[0007]根据不同的方面，提供一种预制的积聚表面结构、其用途和其预制，例如作为寄生层可以附着在其上的更复杂的设备的构件。
[0008]根据不同的方面，积聚表面结构具有借助于预制物形成的粗糙表面(也称为积聚表面)。
[0009]根据不同的方面，可以提供一种真空设备，该真空设备的表面具有多个不平坦部作为表面结构(也称为结构化表面)，气态材料可以附着在该表面结构处。
[0010]根据不同的方面，可以提供一种真空设备部件(也称为真空系统构件)及用于其预制的方法，其中该真空设备部件具有表面结构，气态材料可以积聚在该表面结构处或者其他材料可以被积聚在该表面结构处。
[0011]根据不同的方面，提供一种可以在真空设备内使用以增强气态材料在其处的附着的表面结构。根据不同的方面，表面结构可以具有多个不平坦部。
[0012]根据不同的方面，多个不平坦部可以借助于多个固体颗粒来提供，固体颗粒可以
嵌入表面结构的结构材料中。替代地或附加地，表面结构可以借助于激光来产生。
附图说明
[0013]不同的实施方式在附图中示出并且在下文更详细地解释。
[0014]附图示出
[0015]图1至图3分别示意地示出根据不同的方面的真空设备，
[0016]图4A至图4D分别示意地示出根据不同的方面的真空设备部件，和
[0017]图5示意地示出根据不同的方面的用于运行真空设备的方法。
具体实施方式
[0018]在下面详细的说明书中参考附图，这些附图形成说明书的一部分，并且其中示出能够实施本专利技术的具体的实施形式以用于说明。在此方面，相关于所描述的一个(多个)附图的取向而使用方向术语例如是“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因为实施形式的部件能够以多个不同的取向来定位，所以方向术语用于说明并且不以任何方式受到限制。要理解的是，能够使用其他的实施方式并且能够进行结构上的或逻辑上的改变，而不偏离本专利技术的保护范围。要理解的是，只要没有特殊地另外说明，就能够将在此描述的不同的示例性的实施方式的特征互相组合。因此，下面详细的描述不能够理解为限制性的意义，并且本专利技术的保护范围通过所附的权利要求来限定。
[0019]在本文中，术语“积聚”表示流体(例如液体和/或气体)的一个或多个原子和/或一个或多个分子在固体表面处的富集，借助积聚从中形成固体积聚部(例如层)。借助于积聚形成积聚物(例如层)的表面在本文中也可以称作为积聚表面。待积聚的材料在积聚之前例如存在于气相并且在积聚后存在于固相，例如以层的形式存在(例如也称作为寄生层、寄生积聚物或积聚覆层)。
[0020]“寄生层”在本文中可表示在层形成工艺期间不期望形成的积聚物。寄生层可以被理解为由材料(也称作为覆层材料)构成的层，这些层在真空设备的部件上形成，而衬底用相同的覆层材料覆层。
[0021]在本说明书的范围内，固体颗粒可以理解为具有固体或由固体形成的颗粒(直观地粒状结构)，即以固态聚集态存在的物质(其中物质可以具有多个原子和/或分子)。固体颗粒也可以简称为“颗粒”。固体颗粒可以具有大于5nm的、例如大于0.1μm、例如小于1mm的扩展(直观地颗粒尺寸)。直观地，固体颗粒可以形成粒料或粉末。固体颗粒的扩展可以是其平均扩展，例如对所有固体颗粒取平均和/或对每个固体颗粒单独取平均。单个固体颗粒的平均的扩展直观地可以对应于具有固体颗粒体积的球的直径。例如，固体颗粒可以作为粉末或粒料存在。
[0022]“真空设备部件”在本文中理解为可以在真空内使用的构件(也称为机器部件)，例如其由金属和/或陶瓷构成。例如，将真空设备部件理解为构件组形式的一个或多个构件，该构件包含在真空设备中并且该构件在真空设备运行中暴露于真空，例如设置在真空室内。例如，衬底保持器、运输设备、室壁、工艺处理设备、真空室内的屏蔽件等可以被称为真空设备部件。
[0023]表面结构在本文中理解为主体(例如真空设备部件)的设有三维结构的区域，表面
结构的不平坦部提供主体的表面。例如，表面结构可以具有多个不平坦部，这些不平坦部以周期性图案设置并且借助于激光结构化产生。替代地，不平坦部可以不规则地设置和/或创建，例如当其借助于固体颗粒提供时。表面结构在其引入真空室中之前在其中预制，使得表面结构不借助于在真空室中执行的覆层工艺来形成。
[0024]例如，与主体的其他区域相比，激光结构化的区域可以被变色，例如由于通过借助激光的加工(例如结构化)产生的热量输入而被变色。例如，借助于激光结构化产生的表面结构可以具有与机械产生的表面结构的微观的差异，即例如变色、熔化材料的残留物和/或均匀的例如周期性的图案。
[0025]预制的积聚表面结构例如可以具有嵌入在所谓的结构材料(例如金属，例如镍)中的固体颗粒。例如通过将结构材料至少部分地和/或暂时地引入可变形状态(例如熔化)使得固体颗粒可以进入结构材料中的方式，进行固体颗粒的嵌入。作为预制的结果，固体颗粒可以从结构材料伸出(例如本身没有借此被覆层)。在嵌入固体颗粒后，结构材料例如会硬化。结构材料例如可以作为固体层存在，并且为了嵌入固体颗粒可以暂时熔化。但是，结构材料也可以直接以液体形式作为层施加，使得结构材料在固体颗粒嵌入之前不硬化。例如，预本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空设备(100)，其特征在于，包括：真空室(110)，具有工艺处理区域(111)；工艺处理设备(120)，用于借助于工艺在所述工艺处理区域(111)中对衬底(241)进行工艺处理，其中气态材料(150)发射到所述工艺处理区域(111)中；和预制的积聚表面结构(230)，所述积聚表面结构具有多个不平坦部(231)，用于将所述气态材料(150)积聚在所述不平坦部处；其中所述多个不平坦部(231)借助于嵌入预制的所述积聚表面结构(230)的结构材料中的固体颗粒或借助于所述结构材料的激光结构化来提供。2.根据权利要求1所述的真空设备(100)，其特征在于，还具有：衬底承载设备(240)，用于承载设置在所述工艺处理区域(111)中的所述衬底(241)；其中所述衬底承载设备(240)具有预制的所述积聚表面结构。3.根据权利要求2所述的真空设备(100)，其特征在于，所述衬底承载设备(240)具有衬底容纳区域，用于容纳所述衬底(241)，所述衬底容纳区域由预制的所述积聚表面结构限界。4.根据权利要求2或3所述的真空设备(100)，其特征在于，所述衬底承载设备具有用于承载所述衬底的衬底承载件；并且在于，所述衬底承载件具有所述积聚表面结构。5.根据权利要求4所述的真空设备(100)，其特征在于，所述衬底承载设备设计为运输设备，用于将所述衬底运输到所述工艺处理区域和/或穿过所述工艺处理区域，其中，所述运输设备具有用于承载所述衬底的所述衬底承载件和用于运输所述衬底承载件的多个运输辊。6.根据权利要求1所述的真空设备(100)，其特征在于，所述结构材...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：冯，
类型：新型
国别省市：