阻隔膜及层叠体制造技术

本发明专利技术的阻隔膜为具备含有聚烯烃的基材膜的阻隔膜，其中，在使用荧光X射线分析装置对阻隔膜的两面进行分析时，由两面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以基材膜的厚度而得到的值(氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度)为0.015kcps/μm以下。0.015kcps/μm以下。0.015kcps/μm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻隔膜及层叠体


[0001]本公开涉及阻隔膜及层叠体，特别是涉及适合回收利用的阻隔膜及层叠体。

技术介绍

[0002]近年来，塑料垃圾所导致的海洋污染等环境问题、废弃物问题在世界范围内变得深刻，全世界达成了这逐渐成为地球规模的威胁的共识。日本国内也在2019年5月由环境省制定了用于综合推进塑料的资源循环的“塑料资源循环战略”，明文规定在2035年之前通过100％再使用/回收利用等将使用过的塑料有效活用。
[0003]为了应对这种社会形势，对适于材料回收利用的包装材料的要求有所提高。在回收利用中，通常采用裁剪所回收的包装材料并根据需要进行分类、洗涤之后、使用挤出机进行熔融混合的工序。
[0004]在材料回收利用中，层叠有尼龙、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚烯烃等多个树脂的包装材料具有各层树脂的分离回收困难的问题。因此，最近包装材料的单一材料化(单一原材料化)的动向逐渐加速。
[0005]另一方面，在包装材料的领域中，为了抑制内容物的品质劣化多要求气体阻隔性的功能。此时，虽然可使用铝箔或透明气体阻隔性膜，但铝箔从环境方面、内容物可视性的方面出发有时会成为问题，通常是使用透明气体阻隔膜。从包装材料的单一材料化的观点出发，对基材中使用了聚丙烯膜的阻隔膜的要求有所提高，如专利文献1及专利文献2那样还提出了用于对应该要求的提案。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2000
‑
254994号公报
[0009]专利文献2：国际公开第2016/158794号

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的技术问题
[0011]但是，在对阻隔膜进行材料回收利用时，具有有时树脂会劣化而着色、不适于回收利用的问题。树脂的劣化在将包装材料熔融混合的工序中容易发生。
[0012]因此，本公开的目的在于提供能够抑制回收利用时的着色的回收利用性优异的阻隔膜及层叠体。
[0013]用于解决技术问题的手段
[0014]为了达成上述目的，本公开提供一种阻隔膜，其为具备含有聚烯烃的基材膜的阻隔膜，其中，在使用荧光X射线分析装置对上述阻隔膜的两面进行分析时，从两面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以上述基材膜的厚度而得到的值(氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度)为0.015kcps/μm以下。
[0015]阻隔膜的基材膜中使用的聚丙烯或聚乙烯等烯烃系树脂易于因热被氧化，在高温
下发生熔融时易发生氧化分解反应。伴随着氧化分解反应，树脂的机械性质、物理性质发生劣化，进而反应进行时，树脂会发生碳化，可见外观变色为茶色或黑色。如此发生了氧化分解反应的树脂难以作为回收利用品使用。本专利技术人反复进行深入研究的结果发现，存在于阻隔膜中的氯变成烯烃系树脂的氧化分解反应的催化剂，具有促进氧化分解反应的功能；以及促进氧化分解所需的氯的存在量随膜的厚度而改变。进而发现，通过使得使用荧光X射线分析装置分析阻隔膜的两面时、从两面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以基材膜的厚度而得到的值(氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度)为0.015kcps/μm以下，可以抑制在回收利用时阻隔膜中的聚烯烃被氧化分解，可以抑制着色。因此，满足上述条件的阻隔膜可以抑制回收利用时的着色、具有优异的回收利用性。
[0016]上述阻隔膜还可以进一步具备形成于上述基材膜的至少一个面上的气体阻隔层。通过具备上述气体阻隔层，阻隔膜的气体阻隔性提高。另外，存在于阻隔膜中的氯除了来自于基材膜自身之外，还来自于气体阻隔层。但是，通过使上述值(氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度)为0.015kcps/μm以下，即便是存在来自于气体阻隔层的氯，也可抑制回收利用时的着色。因此，可以提供回收利用性及气体阻隔性优异的阻隔膜。
[0017]上述气体阻隔层还可以包含含有无机氧化物的蒸镀层。上述无机氧化物还可以包含氧化铝、氧化硅或它们的混合物。气体阻隔层通过具备上述蒸镀层，可以进一步提高阻隔膜的气体阻隔性。
[0018]上述气体阻隔层还可以包含气体阻隔性被覆层。通过气体阻隔层具备上述气体阻隔性被覆层，可以进一步提高阻隔膜的气体阻隔性。另外，通过在蒸镀层上形成气体阻隔性被覆层，可以保护蒸镀层。
[0019]上述气体阻隔性被覆层还可以是使用气体阻隔性被覆层形成用组合物形成的层，该气体阻隔性被覆层形成用组合物含有：下述通式(1)所示的硅化合物及其水解物中的至少一种；下述通式(2)所示的硅化合物及其水解物中的至少一种；以及具有羟基的水溶性高分子。
[0020]Si(OR1)4(1)
[0021](R2Si(OR3)3)
n
(2)
[0022][通式(1)及(2)中，R1及R3各自独立地表示CH3、C2H5或C2H4OCH3，R2表示有机官能团，n表示1以上的整数。][0023]另外，上述气体阻隔性被覆层还可以是使用含有聚氨酯树脂、具有羟基的水溶性高分子、以及固化剂的气体阻隔性被覆层形成用组合物所形成的层。这里，上述聚氨酯树脂还可以包含含有酸基的含酸基聚氨酯树脂与具有氨基的多胺化合物的反应产物。
[0024]气体阻隔性被覆层是使用上述任一种气体阻隔性被覆层形成用组合物所形成的层时，可以减少上述值(氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度)，可以进一步提高回收利用性，同时可以获得更为优异的气体阻隔性。
[0025]上述阻隔膜中，上述聚烯烃还可以是聚丙烯。此时，可以提高阻隔膜的耐热性。
[0026]本公开还提供一种层叠体，其为具有2个以上含有聚烯烃的树脂膜的层叠体，其中，将各树脂膜从上述层叠体上剥离，使用荧光X射线分析装置对全部上述树脂膜的两面进行分析时，由全部上述树脂膜的全部面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以上述层叠体的厚度而得到的值(氯的荧光X射线强度之和/层叠体的厚度)为0.015kcps/μm以下。
[0027]在具备2个以上含有聚烯烃的树脂膜的层叠体中，通过使得由各树脂膜的全部面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以层叠体的厚度而得到的值(氯的荧光X射线强度之和/层叠体的厚度)为0.015kcps/μm以下，可以抑制在回收利用时阻隔膜中的聚烯烃被氧化分解，可以抑制着色。因此，满足上述条件的层叠体可以抑制回收利用时的着色、可以具有优异的回收利用性。
[0028]专利技术效果
[0029]根据本公开，可以提供能够抑制回收利用时的着色的回收利用性优异的阻隔膜及层叠体。
附图说明
[0030]图1为表示本公开的阻隔膜的一个实施方式的示意截面图。
[0031]图2为表示本公开的层叠体的一个实施方式的示意截面图。
具体实施方式
[0032]以下，详细地说明本公开的实施方式。
[0033]本实施方式的阻隔膜具备含有聚烯烃的基材膜。另外，使用荧光X射线分析装置对阻隔膜的两面进行分析时，由两面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以上述基材膜的厚度而得到的值(氯的荧光X射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种阻隔膜，其为具备含有聚烯烃的基材膜的阻隔膜，其中，在使用荧光X射线分析装置对所述阻隔膜的两面进行分析时，由两面检测到的氯的荧光X射线强度之和除以所述基材膜的厚度而得到的值、即氯的荧光X射线强度之和/基材膜的厚度为0.015kcps/μm以下。2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其进一步具备形成于所述基材膜的至少一个面上的气体阻隔层。3.根据权利要求2所述的阻隔膜，其中，所述气体阻隔层包含含有无机氧化物的蒸镀层。4.根据权利要求3所述的阻隔膜，其中，所述无机氧化物包含氧化铝、氧化硅或它们的混合物。5.根据权利要求2～4中任一项所述的阻隔膜，其中，所述气体阻隔层包含气体阻隔性被覆层。6.根据权利要求5所述的阻隔膜，其中，所述气体阻隔性被覆层是使用气体阻隔性被覆层形成用组合物形成的层，所述气体阻隔性被覆层形成用组合物含有：下述通式(1)所示的硅化合物及其水解物中的至少一种；下述通式(2)所示的硅化合物及其水解物中的至少一种；以及具有羟...

【专利技术属性】
技术研发人员：福上美季，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：