一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头制造技术

本实用新型专利技术涉及工业视觉检测领域，公开了一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头，包括工业检测镜头，所述工业检测镜头包括物镜筒，所述物镜筒一端连接有交叉滤光组，所述物镜筒远离交叉滤光组的一端连接有连接模块，所述连接模块顶部连接有点光源，所述点光源远离物镜筒的一端连接有目镜筒。本实用新型专利技术所述的一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头，通过在物镜筒下方直接增加交叉滤光组，通过两个互成一定角度的偏光片一和偏光片二，吸收与偏振化方向垂直的光，只允许偏振化方向的光，可有效过滤杂光，起到滤光作用有效解决了高反光面成像问题。光作用有效解决了高反光面成像问题。光作用有效解决了高反光面成像问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头


[0001]本技术涉及工业视觉检测领域，特别涉及一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头。

技术介绍

[0002]针对镜面金属，表面PVD镀膜金属，透明玻璃以及透明胶水之类表面为高反光面的检测产品，目前市场上主要为分多个工位进行检测，搭配多种类型的光源和镜头，通过不同安装位置和安装角度的光源和镜头来检测高反光面产品。例如通过多个不同角度的条形光源搭配镜头成像，或者将通过增加漫反射板的光源来搭配镜头来成像，在实际检验过程中，在检测中多个不同位置和角度的光源成像，增加了调试难度，且复制性很差，同时无法保证成像的均匀性，同时由于主要处理方式为在光源上加漫反射板等方式，光源和镜头又是分体形式，安装位置上的配合，增加了成像均匀性的不确定性，不利于实际使用。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的在于提供一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头，包括工业检测镜头(1)，其特征在于：所述工业检测镜头(1)包括物镜筒(104)，所述物镜筒(104)一端连接有交叉滤光组(2)，所述物镜筒(104)远离交叉滤光组(2)的一端连接有连接模块(101)，所述连接模块(101)顶部连接有点光源(102)，所述点光源(102)远离物镜筒(104)的一端连接有目镜筒(103)。2.根据权利要求1所述的一种用于高反光面抗反光干扰的内同轴点光源工业镜头，其特征在于：所述交叉滤光组(2)包括安装座(201)，所述安装座(201)内一侧设置有偏光片一(202)，所述安装座(201)内远离偏光片一(202)的一侧设置有偏光片二(203...

【专利技术属性】
技术研发人员：石璕，鞠游，朱豪，杨勋涛，
申请(专利权)人：深圳智机视觉科技有限公司，
类型：新型
国别省市：