发光元件的制造方法、发光元件技术

一种发光元件的制造方法，包括:涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层的第一发光层形成工序；在所述第一发光层上涂布第一感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层的第一抗蚀层形成工序；以规定的图案对所述第一抗蚀层进行曝光的曝光工序；以及用显影液对所述第一抗蚀层进行显影来形成图案化的第一抗蚀层，以所述图案化的第一抗蚀层作为掩模，利用处理液对所述第一发光层进行处理来形成图案化的第一发光层的图案化形成工序。图案化的第一发光层的图案化形成工序。图案化的第一发光层的图案化形成工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光元件的制造方法、发光元件


[0001]本公开涉及发光元件的制造方法、发光元件。

技术介绍

[0002]例如，在专利文献1中公开了对量子点层进行图案化的方法。更具体而言，在形成于基板上的量子点层上形成光致抗蚀层后，进行曝光、显影，使光致抗蚀层图案化，将该图案化的光致抗蚀层作为掩模，通过蚀刻等对量子点层进行图案化。然后，被图案化的上述光致抗蚀层最终被剥离。现有技术文献专利文献专利文献1：
[0003]美国专利申请公开第2017/0254934号说明书

技术实现思路

专利技术要解决的问题
[0004]然而，在对专利文献1记载的量子点层进行图案化的情况下，剥离光致抗蚀层的工序等工序数变多，并且有可能在先形成的层产生损伤。本公开的主要目的例如提供能够更简便地形成包含量子点的量子点层的发光元件的制造方法。用于解决问题的方案
[0005]本公开中一方式的发光元件的制造方法包括:涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层的第一发光层形成工序；在所述第一发光层上涂布第一感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层的第一抗蚀层形成工序；以规定的图案对所述第一抗蚀层进行曝光的曝光工序；以及用显影液对所述第一抗蚀层进行显影来形成图案化的第一抗蚀层，以所述图案化的第一抗蚀层作为掩模，利用处理液对所述第一发光层进行处理来形成图案化的第一发光层的图案化形成工序。
[0006]本公开中另一方式的发光元件的制造方法，包括:剥离用抗蚀层形成工序，其涂布正型感光性树脂组合物形成剥离用抗蚀层；剥离用曝光工序，其以规定的图案对所述剥离用抗蚀层进行曝光；剥离用图案化形成工序，其对所述剥离用抗蚀层进行显影来形成图案化的剥离用抗蚀层；第一发光层形成工序，其在所述图案化的剥离用抗蚀层上涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层；第一抗蚀层形成工序，其在所述第一发光层上涂布负型感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层；以及图案化形成工序，其在对整个面进行曝光的全面曝光后，用显影液对所述图案化的剥离用抗蚀层进行处理，由此将在所述图案化的剥离用抗蚀层上形成的所述第一发光层和所述第一抗蚀层剥离，将所述第一发光层和所述第一抗蚀层图案化。
[0007]本公开的一方式的发光元件包括:图案化的第一发光层，其包含第一量子点；以及抗蚀层，其由包含功能性材料的感光性树脂组合物的固化物形成，层叠于所述图案化的第
一发光层的各个上。
附图说明
[0008]图1是示意性示出第一实施方式所涉及的发光元件的层叠构成的一个示例的图。图2A是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2B是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2C是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2D是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2E是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2F是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2G是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2H是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2I是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图2J是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图3是用于说明第一实施方式所涉及的发光元件的制造方法的变形例的图。图4A是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4B是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4C是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4D是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4E是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4F是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4G是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4H是用于说明第二实施方式所涉及的发光元件的制造方法的一例的工序的图。图4I是示意性示出第二实施方式所涉及的发光元件的层叠构成的一个示例的图。
具体实施方式
[0009]以下，对实施本专利技术的优选方式的一例进行说明。但是，下述的实施方式仅为例示。本专利技术并不限定于下述的实施方式。
[0010](第一实施方式)图1是示意性示出本实施方式所涉及的发光元件100A的层叠构成的一个示例的图。
[0011]发光元件100A是出射光的装置。发光元件100A例如可以是出射白色光等光的照明装置(例如，背光源等)，可以是通过出射光显示图像(例如，文字信息等。)的显示装置。在本实施方式中，对发光元件100A是显示装置中的一个像素的示例进行说明。例如，能够通过将多个像素排列成矩阵状而构成显示装置。
[0012]如图1所示，发光元件100A包括例如发出红色光的第一发光元件10R、发出绿色光的第二发光元件10G、发出蓝色光的第三发光元件10B。第一发光元件10R的发光中心波长为第一波长，例如以约630nm发光。第二发光元件10G的发光中心波长为比第一波长短的第二波长，例如以约530nm发光。第三发光元件10B的发光中心波长为比第二波长短的第三波长，
例如以约440nm发光。
[0013]第一发光元件10R具有在基板1上依次层叠有第一电极2R、第一电荷传输层4、第一发光层5R、第一抗蚀层6R、第二电荷传输层7、第二电极8的构成。
[0014]基板1例如由玻璃等构成，作为支撑上述各层的支撑体而起作用。基板1例如可以是形成有薄膜晶体管(TFT)等的阵列基板。
[0015]第一电极2R配置在基板1上。第一电极例如向第一发光层5R供给第一电荷。
[0016]第一电荷传输层4配置在第一电极2R上。第一电荷传输层4将从第一电极2R注入的第一电荷传输至第一发光层5R。另外，第一电荷传输层4既可以由一层构成，也可以由多层构成。
[0017]第一发光层5R配置在第一电荷传输层4上。第一发光层5R以发光中心波长为第一波长，例如约630nm发光。第一发光层5R例如包括以发光中心波长为第一波长即例如约630nm发光的第一发光材料。
[0018]第一抗蚀层6R配置在第一发光层5R上。第一抗蚀层6R的厚度例如优选为1nm以上且50nm以下。另外，为了抑制驱动电压上升，第一抗蚀层6R的厚度的上限更优选为40nm以下，进一步优选为30nm以下，更进一步优选为20nm以下。在第一抗蚀层6R作为永久膜残留的情况下，通过设为上述厚度，能够抑制发光元件的驱动电压的上升等性能下降，或进行载流子平衡调整。第一抗蚀层6R中包含感光性树脂组合物的固化物，例如，也可以包含传输第一发光材料或者第二电荷的第二电荷传输性材料等功能性材料。第一抗蚀层6R例如在包含第一发光材料的情况下，作为第一发光层5R的一部分发挥功能。另外，第一抗蚀层6R例如在包含第二电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光元件的制造方法，其特征在于，包括:第一发光层形成工序，其涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层；第一抗蚀层形成工序，其在所述第一发光层上涂布第一感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层；曝光工序，其以规定的图案曝光所述第一抗蚀层；以及图案化形成工序，其用显影液使所述第一抗蚀层显影，形成图案化的第一抗蚀层，以所述图案化的第一抗蚀层作为掩模，利用处理液处理所述第一发光层，形成图案化的第一发光层。2.根据权利要求1所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述处理液为所述显影液。3.根据权利要求2所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述显影液含有表面活性剂。4.根据权利要求1至3中任一项所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述第一感光性树脂组合物为正型感光性树脂组合物，还包括在所述图案化的第一抗蚀层上形成至少一个第一功能层的工序，在所述图案化形成工序中，在将所述第一抗蚀层图案化时，将所述至少一个第一功能层剥离，形成图案化的至少一个第一功能层。5.根据权利要求1至4中任一项所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述第一感光性树脂组合物含有功能性材料。6.根据权利要求5所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述功能性材料包含第二量子点。7.根据权利要求5或6所述的发光元件的制造方法，其特征在于，所述功能性材料包含电荷传输性纳米粒子。8.根据权利要求1至7中任一项所述的发光元件的制造方法，其特征在于，包含将所述图案化的第一抗蚀层烘烤而使其固化的硬烘烤工序。9.根据权利要求8所述的发光元件的制造方法，其特征在于，在烘烤后的所述第一抗蚀层上形成了包含发光颜色与所述第一量子点不同的第二的第一量子点的第二的第一发光层后，进一步进行所述第一抗蚀层形成工序、所述曝光工序及所述图案化形成工序。10.根据权利要求1至9中任一项所述的发光元件的制造方法，其特征在于，在形成所述第一抗蚀层之前，包括在所述第一发光层上形成至少一个第二功能层的工序，在所述图案化形成工序中，将所述图案化的第一抗蚀层作为掩模，将所述至少一个第二功能层用处理液处理，进行图案化。11.一种发光元件的制造方法，其特征在于，包括:剥离用抗蚀层形成工序，其涂布正型感光性树脂组合物形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：安达考洋，佐久间惇，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：