一种防漏气的单晶硅片真空加热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种防漏气的单晶硅片真空加热装置，其包括：真空加热箱、电加热管、密封圈和接头，所述真空加热箱顶部设置有密封板，所述密封板上间隔设置有与电加热管一一对应的安装孔，所述安装孔上方设置有安装座，所述安装座顶面内凹设置有与安装孔连通的锥形孔，所述接头设置在安装座上，所述接头顶部外圆上设置有一圈环形的压圈，所述接头外壁设置有与锥形孔对应的圆锥面，所述电加热管设置在接头的下方并向下延伸至真空加热箱中，所述密封圈设置在压圈的底面与安装座的顶面之间。本实用新型专利技术所述的防漏气的单晶硅片真空加热装置，通过锥形孔与圆锥面的配合，进行密封，并利用密封圈进行密封效果的加强，避免漏气问题。避免漏气问题。避免漏气问题。

【技术实现步骤摘要】
一种防漏气的单晶硅片真空加热装置


[0001]本技术涉及单晶硅片生产
，尤其涉及一种防漏气的单晶硅片真空加热装置。

技术介绍

[0002]真空加热箱的使用广泛，单晶硅片在真空镀膜时，就需要通过真空加热箱进行加热。现有技术中，真空加热箱中通常安装一排电加热管，通过电加热管进行真空加热箱的加热。
[0003]为了确保真空加热箱的真空效果，在电加热管安装时，需要通过密封圈进行电加热管与真空加热箱连接处的密封，避免漏气的问题。由于真空加热箱的温度较高，密封圈在高温下的使用稳定性差，容易产生漏气问题，需要经常进行密封圈的更换，费工费时，而且影响单晶硅片的生产，需要进行改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种防漏气的单晶硅片真空加热装置，进行单晶硅片的加热，避免漏气问题，提升维护便利性。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种防漏气的单晶硅片真空加热装置，包括：真空加热箱、电加热管、密封圈和接头，所述真空加热箱顶部设置有密封板，所述密封板上间隔设置有与电加热管一一对应的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防漏气的单晶硅片真空加热装置，其特征在于，包括：真空加热箱、电加热管、密封圈和接头，所述真空加热箱顶部设置有密封板，所述密封板上间隔设置有与电加热管一一对应的安装孔，所述安装孔上方设置有安装座，所述安装座顶面内凹设置有与安装孔连通的锥形孔，所述接头设置在安装座上，所述接头顶部外圆上设置有一圈环形的压圈，所述接头外壁设置有与锥形孔对应的圆锥面，所述电加热管设置在接头的下方并向下延伸至真空加热箱中，所述密封圈设置在压圈的底面与安装座的顶面之间。2.根据权利要求1所述的防漏气的单...

【专利技术属性】
技术研发人员：周兵兵，周炳，
申请(专利权)人：德兴市意发功率半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：