【技术实现步骤摘要】
一种气体处理炉及排气处理装置
[0001]本专利技术涉及尾气处理设备
，具体地说尤其涉及一种气体处理炉机排气处理装置。
技术介绍
[0002]现在，作为制造或处理物体的工业制程，开发、实施有各式各样者，从这种各式各样的工业制程排出的气体(以下称为处理对象排气)的种类亦非常多样复杂。因此，据从工业加工排出的处理对象排出气体的种类，分别使用各个种类的排出气体处理方法以及排出气体处理装置。
[0003]其中，使处理对象排气通过等离子空间来进行分解处理的等离子式的排气处理方法，近年来，作为半导体制造制程的排气处理方法开始被导入。该等离子式的排气处理方法，在处理对象排气(除害对象气体)的分解处理之际，即使是难分解性者亦能比较安全地被分解处理。
[0004]于是，在使用非移动型等离子喷流的分解处理装置(气体处理炉)的前后设置了湿式洗涤器的排气处理装置，可追随半导体制造各式各样的条件，不论是处理对象排气中的哪种除害对象成分皆可除害处理至TLV[ThresholdLimit Value；暴露极限值]以下的浓度。
[0005]但是，在相关议程制定之后，关于往后的能源有效率的利用等进行了各种议论与检讨。在这种状况下，作为加热之际的能源消耗比较大量电力的上述以往具备等离子式的气体处理炉的排气处理装置，亦容易料想到会因为高效率化及伴随于此的节能化及节约空间化的需求也日益增多。
技术实现思路
[0006]本专利技术的目的在于提出一种气体处理炉及排气处理装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。>[0007]为实现上述目的，本专利技术通过如下技术手段实现：
[0008]一种气体处理炉，包括有在内部设有气体处理空间的中空筒状的炉本体，炉本体的上部装设有对气体处理空间内供给等离子喷流的非移动型的等离子喷流器，所述炉本体的中空筒状内壁设置有供给等离子喷流的区域予以加热的电热加热器。
[0009]一种排气处理装置，包括有与气体处理炉中炉本体上配合设置用于将导入至气体处理炉的处理对象的排气予以事先清洗的入口洗涤器，以及与气体处理炉中炉本体配合设置用于将气体处理炉热分解过的排气予以冷却及清洗的出口洗涤器，所述入口洗涤器包括有直管型的洗涤器本体，洗涤器本体的内部顶部附近设置有喷雾喷嘴，所述洗涤器本体竖立设置在储藏槽上，所述喷雾喷嘴与储藏槽之间设置有循环泵，所述出口洗涤器包括有竖立设置在储藏槽上的洗净层，洗净层的正上方设置有喷雾喷嘴件，喷雾喷嘴件与储藏槽通过管道与循环泵配合连接，所述炉本体的底部设置有连通洗净层的排出配管。
[0010]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：
[0011]本专利技术装置与使用以往的等离子式气体处理炉者相较之下，可提高对电力能源利用效率的进一步利用，更是能提高对各种气体的分解效率，不仅仅能够应用于半导体制造制程排出排气的热分解处理领域，也可以应用于化学厂排气的加热处理等各种工业制程所排出的排气的分解处理领域，且，本专利技术的气体处理炉，不只可以用于排气的热分解处理，还可利用在工业制程中各种气体的热处理；通过气体处理炉配合加热器等部件，能提供气体处理炉和使用气体处理炉的排出气体处理装置，其能继续有效提高气体处理炉热解温度范围，提高对排气处理种类及分解效率，能实现小型化，能降低耗电量而实现能量的有效利用。
附图说明：
[0012]图1为本专利技术产品结构概略剖面图；
[0013]图2为本专利技术图1中X
‑
X'线切断端面的示意图；
[0014]图3为本专利技术产品其他实施例中气体处理炉的炉本体水平方向切断端面的示意图；
[0015]图4为本专利技术产品其他实施例中产品概略剖面图。
具体实施方式：
[0016]下面将结合附图对本申请技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例和附图仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本申请的保护范围。附图中只示意性地表示出了与本申请技术方案相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。
[0017]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0018]在本申请实施例的描述中，技术术语“第一”、“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本申请实施例的描述中，术语“多个”指的是两个以上(包括两个)，同理，“多组”指的是两组以上(包括两组)，“多片”指的是两片以上(包括两片)。
[0019]在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
[0020]在本申请实施例的描述中，术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0021]在本申请实施例的描述中，技术术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置
关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。
[0022]在本申请实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，技术术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；也可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。
[0023]现在，作为制造或处理物体的工业制程，开发、实施有各式各样者，从这种各式各样的工业制程排出的气体(以下称为处理对象排气)的种类亦非常多样复杂。因此，据从工业加工排出的处理对象排出气体的种类，分别使用各个种类的排出气体处理方法以及排出气体处理装置。
[0024]其中，使处理对象排气通过等离子空间来进行分解处理的等离子式的排气处理方法，近年来，作为半导体制造制程的排气处理方法开始被导入。该等离子式的排气处理方法，在处理对象排气(除害对象气体)本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种气体处理炉，其特征在于：包括有在内部设有气体处理空间(12a)的中空筒状的炉本体(12)，炉本体(12)的上部装设有对气体处理空间(12a)内供给等离子喷流P的非移动型的等离子喷流器(14)，所述炉本体(12)的中空筒状内壁设置有供给等离子喷流(P)的区域予以加热的电热加热器(16)。2.根据权利要求1所述的一种气体处理炉，其特征在于：所述电热加热器(16)以若干棒状或柱状的陶瓷加热器(16A)构成，并将各陶瓷加热器(16A)在相同圆周上互相邻接地配列来设置在炉本体(12)的内壁(12b)。3.根据权利要求2所述的一种气体处理炉，其特征在于：陶瓷加热器(16)A)为使用碳化硅发热体的SiC加热器。4.根据权利要求1所述的一种气体处理炉，其特征在于：所述炉本体(12)在其内部设有气体处理空间(12a)，是上下开口的中空筒状的直管型构件，气体处理空间(12a)予以区划的内壁(12b)是以电热加热器(16)来构成，电热加热器(16)构成内壁(12b)的外周由隔热材(22)围绕成，隔热材(22)的外周以金属制套筒(24)覆盖，炉本体(12)的上部开口透过处理气体供给器(26)连结有等离子喷流器(14)，炉本体(12)的下部开口为在气体处理空...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚尚兵，李东洋，
申请(专利权)人：上海皓越真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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