本实用新型专利技术涉及清洁装置技术领域，尤其是一种等离子体处理室清洁装置，包括壳体、底架、敞口、密封板、离子清洁机构、滚动支撑件、限位座、进气管件和排气管件，其中：底架固定连接至壳体的底端上，敞口开设至壳体上，密封板可拆卸的密封连接至敞口上，滚动支撑件固定连接至壳体的内部底端上，限位座固定连接至壳体的内部上端，壳体内连接用于清洁的离子清洁机构，进气管件连通至壳体的上端，排气管件连通至壳体的底端上。本实用新型专利技术通过滚动支撑件与限位座结构，板件通过敞口放入壳体内，放入的板件的底端在滚动支撑件上滑动，滚动支撑件对板件进行支撑，板件的上端与限位座相配合，板件滑动进入壳体内，板件放入方便。板件放入方便。板件放入方便。
【技术实现步骤摘要】
一种等离子体处理室清洁装置
[0001]本技术涉及清洁装置
，尤其涉及一种等离子体处理室清洁装置。
技术介绍
[0002]等离子清洁装置主要利用等离子体对板件表面或孔壁的污染物进行清洁，等离子体处理室清洁装置是对板件表面杂物进行处理，在通过等离子体处理室清洁装置对板件进行处理时，需要将板件放入等离子体处理室清洁装置内，由于板件较重，不方便将板件放入等离子体处理室清洁装置内。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的不方便将板件放入装置内的缺点，而提出的一种等离子体处理室清洁装置。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0005]设计一种等离子体处理室清洁装置，包括壳体、底架、敞口、密封板、离子清洁机构、滚动支撑件、限位座、进气管件和排气管件，其中：
[0006]所述底架固定连接至所述壳体的底端上，所述敞口开设至所述壳体上，所述密封板可拆卸的密封连接至所述敞口上，所述滚动支撑件固定连接至所述壳体的内部底端上，所述限位座固定连接至所述壳体的内部上端，所述壳体内连接用于清洁的所述离子清洁机构，所述进气管件连通至所述壳体的上端，所述排气管件连通至所述壳体的底端上。
[0007]优选的，所述离子清洁机构包括负极板、负极电源、正极板和正极电源，所述负极板固定连接至所述壳体内，所述正极板固定连接至所述壳体内，所述负极电源设置在所述壳体上，所述负极电源通过导线连接所述负极板，所述正极电源设置在所述壳体上，所述正极电源通过导线连接所述正极板，所述滚动支撑件位于所述负极板与所述正极板之间。
[0008]优选的，所述滚动支撑件包括凹槽架和若干滚轮，所述凹槽架固定连接至所述壳体的内部底端上，若干所述滚轮沿所述凹槽架的长度方向等间距分布。
[0009]优选的，还包括推动机构，所述推动机构包括电动伸缩杆、活动板和弹性垫，所述电动伸缩杆固定连接至所述壳体上，所述电动伸缩杆的伸缩端延伸至所述壳体内，所述活动板固定连接至所述电动伸缩杆的伸缩端上，所述弹性垫固定连接至所述活动板上。
[0010]优选的，所述弹性垫为绝缘橡胶垫。
[0011]本技术提出的一种等离子体处理室清洁装置，有益效果在于：
[0012]通过滚动支撑件与限位座结构，板件通过敞口放入壳体内，放入的板件的底端在滚动支撑件上滑动，滚动支撑件对板件进行支撑，板件的上端与限位座相配合，板件滑动进入壳体内，板件放入方便。
附图说明
[0013]图1为本技术提出的一种等离子体处理室清洁装置的结构示意图；
[0014]图2为本技术提出的一种等离子体处理室清洁装置的剖视结构示意图；
[0015]图3为本技术提出的一种等离子体处理室清洁装置中滚动支撑件的结构示意图；
[0016]图4为本技术提出的一种等离子体处理室清洁装置中推动机构的结构示意图。
[0017]图中：壳体1、底架2、敞口3、密封板4、负极板5、负极电源6、正极板7、正极电源8、滚动支撑件9、限位座10、进气管件11、排气管件12、推动机构13、凹槽架91、滚轮92、电动伸缩杆131、活动板132、弹性垫133。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]实施例1
[0020]参照图1
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3，一种等离子体处理室清洁装置，包括壳体1、底架2、敞口3、密封板4、离子清洁机构、滚动支撑件9、限位座10、进气管件11和排气管件12，其中：
[0021]底架2固定连接至壳体1的底端上，底架2用于支撑壳体1，敞口3开设至壳体1上，敞口3便于将板件放入壳体1内，密封板4可拆卸的密封连接至敞口3上，密封板4用于打开与密封敞口3，滚动支撑件9固定连接至壳体1的内部底端上，滚动支撑件9用于支撑需要进行清洁的板件，板件在放入壳体1内时，板件在滚动支撑件9上滑动，方便将板件放入壳体1内，限位座10固定连接至壳体1的内部上端，限位座10用于对滚动支撑件9上的板件进行限位，壳体1内连接用于清洁的离子清洁机构，离子清洁机构用于对板件进行清洁，进气管件11连通至壳体1的上端，进气管件11用于导入气体，排气管件12连通至壳体1的底端上，排气管件12用于将壳体1内的气体排出。
[0022]工作过程：将密封板4从敞口3上取下，将板件通过敞口3放入壳体1内，放入的板件在滚动支撑件9上滑动，板件的上端与限位座10相配合，板件放入方便，再将密封板4固定在敞口3上，离子清洁机构启动后对板件进行清洁，使得板件表面的杂物分解，分解的杂物混合在壳体1内的气体中，外部气体通过进气管件11导入壳体1内，通入的气体带走壳体1内的气体，气体从排气管件12上释放。
[0023]实施例2
[0024]参照图1
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3，作为本技术的另一优选实施例，与实施例1的区别在于离子清洁机构包括负极板5、负极电源6、正极板7和正极电源8，负极板5固定连接至壳体1内，正极板7固定连接至壳体1内，负极电源6设置在壳体1上，负极电源6通过导线连接负极板5，正极电源8设置在壳体1上，正极电源8通过导线连接正极板7，滚动支撑件9位于负极板5与正极板7之间，负极板5与正极板7通电启动后产生等离子体，产生的等离子体对板件进行清洁。
[0025]实施例3
[0026]参照图1
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3，作为本技术的另一优选实施例，与实施例1的区别在于滚动支撑件9包括凹槽架91和若干滚轮92，凹槽架91固定连接至壳体1的内部底端上，凹槽架91用于安装滚轮92，若干滚轮92沿凹槽架91的长度方向等间距分布，滚轮92可发生转动，板件放置
在滚轮92上，滚轮92滚动后板件放入方便。
[0027]实施例4
[0028]参照图1
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3，作为本技术的另一优选实施例，在实施例1的基础上，还包括推动机构13，推动机构13包括电动伸缩杆131、活动板132和弹性垫133，电动伸缩杆131固定连接至壳体1上，电动伸缩杆131的伸缩端延伸至壳体1内，活动板132固定连接至电动伸缩杆131的伸缩端上，弹性垫133固定连接至活动板132上，弹性垫133为绝缘橡胶垫，电动伸缩杆131通电启动后带动活动板132移动，通过活动板132将滚动支撑件9上的板件从敞口3上推出，板件取出方便。
[0029]以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子体处理室清洁装置，其特征在于，包括壳体(1)、底架(2)、敞口(3)、密封板(4)、离子清洁机构、滚动支撑件(9)、限位座(10)、进气管件(11)和排气管件(12)，其中：所述底架(2)固定连接至所述壳体(1)的底端上，所述敞口(3)开设至所述壳体(1)上，所述密封板(4)可拆卸的密封连接至所述敞口(3)上，所述滚动支撑件(9)固定连接至所述壳体(1)的内部底端上，所述限位座(10)固定连接至所述壳体(1)的内部上端，所述壳体(1)内连接用于清洁的所述离子清洁机构，所述进气管件(11)连通至所述壳体(1)的上端，所述排气管件(12)连通至所述壳体(1)的底端上。2.根据权利要求1所述的等离子体处理室清洁装置，其特征在于，所述离子清洁机构包括负极板(5)、负极电源(6)、正极板(7)和正极电源(8)，所述负极板(5)固定连接至所述壳体(1)内，所述正极板(7)固定连接至所述壳体(1)内，所述负极电源(6)设置在所述壳体(1)上，所述负极电源(6)通过导线连接所述负极板(...
【专利技术属性】
技术研发人员：周焱文，
申请(专利权)人：武汉麦韦光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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