铝构件及其制造方法技术

铝构件(1)包括由铝或铝合金形成的基材(10)。铝构件(1)包括阳极氧化皮膜(20)，所述阳极氧化皮膜(20)包括：阻挡层(21)，与基材(10)的表面(11)接触；第一多孔层(22)，和阻挡层(21)的与基材(10)为相反侧的面接触；以及第二多孔层(23)，和第一多孔层(22)的与阻挡层(21)相反的面接触，且具有从与第一多孔层(22)接触的面向露出的表面(24)整齐排列并呈直线状延伸的多个孔。第一多孔层(22)具有多个分支的孔及平均孔径比第二多孔层(23)大的多个孔中的至少任一者。至少任一者。至少任一者。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】铝构件及其制造方法


[0001]本公开涉及一种铝构件及其制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，欲使例如便携式机器或个人计算机框体为如纸那样的白色的外观的要求增加。为了满足此种要求，已经尝试了通过在由铝或铝合金形成的基材的表面形成阳极氧化皮膜而将铝构件的外观制成白色。
[0003]专利文献1中公开了基材的表面的算术平均高度Sa为0.1μm～0.5μm、最大高度Sz为0.2μm～5μm、粗糙度曲线要素的平均长度RSm为0.5μm～10μm的铝构件。
[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006]专利文献1：日本专利第6525035号公报

技术实现思路

[0007]根据专利文献1的铝构件，通过将基材的算术平均高度Sa、最大高度Sz及粗糙度曲线要素的平均长度RSm设为规定的范围内，可获得具有白色外观的铝构件。然而，需要使从倾斜方向观察时的白色度提高且进而具有与纸接近的外观的铝构件。
[0008]本公开是鉴于此种现有技术所具有的课题而成。而且，本公开的目的是提供一种具有白色且角度依存性低的铝构件及其制造方法。
[0009]本公开的第一形态的铝构件包括由铝或铝合金形成的基材。铝构件包括阳极氧化皮膜，所述阳极氧化皮膜包括：阻挡层，与基材的表面接触；第一多孔层，和阻挡层的与基材为相反侧的面接触；以及第二多孔层，和第一多孔层的与阻挡层相反的面接触，且具有从与第一多孔层接触的面向露出的表面整齐排列并呈直线状延伸的多个孔。第一多孔层具有多个分支的孔及平均孔径比第二多孔层大的多个孔中的至少任一者。
[0010]本公开的第二形态的铝构件的制造方法包括利用可形成整齐排列并呈直线状延伸的多个孔的电解液来对由铝或铝合金形成的基材进行第一阳极氧化的第一阳极氧化工序。所述方法包括利用电解液来对第一阳极氧化后的基材进行第二阳极氧化的第二阳极氧化工序。第二阳极氧化电解液是可形成多个分支的孔及具有比呈直线状延伸的多个孔的平均孔径大的平均孔径的多个孔中的至少任一者的电解液。
[0011]根据本公开，可提供一种具有白色且角度依存性低的铝构件及其制造方法。
附图说明
[0012]图1是表示本实施方式的铝构件的一例的剖面图。
[0013]图2是表示本实施方式的铝构件的制造方法的一例的图。
[0014]图3是说明使用测角光度计(goniophotometer)来评价白色度的角度依存性的方法的图。
[0015]图4是表示实施例1、比较例1及参考例(复印用纸)的角度依存性的曲线图。
[0016]图5是对实施例12的铝构件的剖面进行聚焦离子束(Focused Ion Beam，FIB)加工并利用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope，TEM)放大为2,550倍的图像。
[0017]图6是对实施例12的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为19,500倍的图像。
[0018]图7是对实施例12的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为43,000倍的图像。
[0019]图8是对比较例6的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为2,550倍的图像。
[0020]图9是对比较例6的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为19,500倍的图像。
[0021]图10是对比较例6的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为43,000倍的图像。
[0022]图11是对比较例7的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为2,550倍的图像。
[0023]图12是对比较例7的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为19,500倍的图像。
[0024]图13是对比较例7的铝构件的剖面进行FIB(聚焦离子束)加工并利用TEM(透射电子显微镜)放大为43,000倍的图像。
具体实施方式
[0025]以下，使用图式对本实施方式的铝构件及铝构件的制造方法进行详细说明。再者，图式的尺寸比率为了方便说明而进行了夸张，有时与实际的比率不同。
[0026][铝构件][0027]如图1所示，本实施方式的铝构件1包括基材10及阳极氧化皮膜20。以下，对这些构成元件进行说明。
[0028](基材10)
[0029]基材10由铝或铝合金形成。基材10也可由例如1000系合金、3000系合金、5000系合金、6000系合金或7000系合金形成。基材10也可由含有0质量％～10质量％的镁、0.1质量％以下的铁及0.1质量％以下的硅且剩余部分为铝及不可避免的杂质的铝或铝合金形成。基材10也可由含有0质量％～10质量％的镁、0.1质量％以下的铁、0.1质量％以下的硅及10质量％以下的锌且剩余部分为铝及不可避免的杂质的铝或铝合金形成。
[0030]镁未必需要包含在基材10中，但若基材10含有镁，则铝与镁固溶，可提高基材10的强度。另外，通过将镁的含量设为10质量％以下，可抑制基材10的耐腐蚀性的降低，同时提高基材10的强度。镁的含量优选为0.5质量％以上，更优选为1质量％以上。另外，镁的含量优选为8质量％以下，更优选为5质量％以下。
[0031]铁及硅不易与铝固溶。因此，在基材10含有这些元素的情况下，这些元素在阳极氧化皮膜20内容易作为包含铁或硅的第二相析出。在阳极氧化皮膜20含有这些那样的第二相
的情况下，透过阳极氧化皮膜20内的光的一部分被第二相吸收，因此铝构件1有时看起来如带黄色的颜色那样。基材10优选为含有0.05质量％以下的铁。另外，基材10优选为含有0.05质量％以下的硅。
[0032]锌未必需要包含在基材10中，但若基材10含有锌，则可维持基材10的强度。另外，通过将锌的含量设为10质量％以下，维持基材10的强度，同时不损害铝构件1的外观。锌的含量优选为8质量％以下。
[0033]基材10也可含有不可避免的杂质。本实施方式中，所谓不可避免的杂质是指存在于原料中或者在制造工序中不可避免地混入的物质。不可避免的杂质本来为不需要的物质，但由于为微量且不会对铝或铝合金中的特性造成影响，因此为容许的杂质。铝或铝合金中有可能含有的不可避免的杂质为铝、镁、铁及硅以外的元素。作为铝或铝合金中有可能含有的不可避免的杂质，例如可列举：铜、锰、铬、锌、钛、镓、硼、钒、锆、铅、钙及钴等。不可避免的杂质的量优选为在铝或铝合金中以合计计为0.5质量％以下，更优选为0.2质量％以下，进而优选为0.15质量％以下，特别优选为0.10质量％以下。另外，作为不可避免的杂质而包含的各元素的含量优选为0.05质量％以下，更优选为0.03质量％以下，进而优选为0.01质量％以下。
[0034]基材10也可在阳极氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种铝构件，包括由铝或铝合金形成的基材、以及阳极氧化皮膜，所述阳极氧化皮膜包括：阻挡层，与所述基材的表面接触；第一多孔层，和所述阻挡层的与所述基材为相反侧的面接触；以及第二多孔层，和所述第一多孔层的与所述阻挡层相反的面接触，且具有从与所述第一多孔层接触的面向露出的表面整齐排列并呈直线状延伸的多个孔，所述第一多孔层具有多个分支的孔及平均孔径比所述第二多孔层大的多个孔中的至少任一者。2.根据权利要求1所述的铝构件，其中从所述阳极氧化皮膜侧测定的所述铝构件的L*a*b*表色系中的L*值为82.5～100，a*值为
‑
1～+1，b*值为
‑
1.5～+1.5。3.根据权利要求1或2所述的铝构件，其中在使用测角光度计以
‑
80度～+10度的检测器角度测定所述阳极氧化皮膜侧的反射强度的情况下，最大反射强度相对于最小反射强度的比为400以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的铝构件，其中所述基材的表面的算术平均高度Sa为0.1μm～0.5μm，最大高度Sz为0.2μm～5μm，粗糙度曲线要素的平均长度RSm为0.5μm～10μm。5.一种铝构件的制造方法，包括：第一阳极氧化工序，利用能够形成整齐排列并呈直线状延伸的多个孔的电解液...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口隆幸，田口喜弘，
申请(专利权)人：日本轻金属株式会社，
类型：发明
国别省市：