一种等静压石墨浸渍装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种等静压石墨浸渍装置，涉及到石墨浸渍技术领域，一种等静压石墨浸渍装置，包括，浸渍外壳、刷墨组件、排墨组件、冲压组件、增压组件、浸渍外壳包括浸渍筒，所述浸渍筒的底部连通有出液管。本发明专利技术设置了增压组件，当浸渍筒中的浸渍剂完全填充满后，通过向气囊和增压囊内填充空气侵占浸渍剂的存储空间，从而增加浸渍剂在浸渍筒内的压力，当石墨棒内有气孔或者空腔时，受到挤压的浸渍剂则会快速渗透石墨棒，使得石墨棒浸渍不会留有气孔，因为是对浸渍剂进行施压在对石墨棒进行浸渍时会浸渍剂的渗透会比较均匀，不会导致浸渍后的石墨棒出现孔洞、裂纹以及内部应力的问题，从而影响石墨棒的使用效果。影响石墨棒的使用效果。影响石墨棒的使用效果。

【技术实现步骤摘要】
一种等静压石墨浸渍装置


[0001]本专利技术涉及石墨浸渍
，特别涉及一种等静压石墨浸渍装置。

技术介绍

[0002]等静压石墨浸渍装置是一种用于制备高性能石墨材料的设备，它通过将石墨原料放入加热炉中，然后在高温和高压的条件下进行石墨化反应，将气态碳源或者碳源液以沉积的形式转化为固态石墨，从而实现石墨材料的制备，该装置具有生产效率高、产品质量稳定等优点，在石墨电极、高纯度石墨制品等领域有广泛应用。
[0003]现在的等静压石墨浸渍装置在使用时，当浸渍罐中存有少量空气导致浸渍剂所受的压力较小时，会导致浸渍后的石墨材料出现孔洞、裂纹以及内部应力等问题，影响到材料的使用效果，而石墨毛坯料和浸渍剂之间的渗透性差时，将导致浸渍剂无法充分渗透到石墨材料内部，进而影响到浸渍剂的均匀分布和后续加工的效果，因此，本申请提供了一种等静压石墨浸渍装置来满足需求。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种等静压石墨浸渍装置，可有效解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本申请提供如下技术方案：一种等静本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等静压石墨浸渍装置，其特征在于，包括：浸渍外壳、包括浸渍筒（1），所述浸渍筒（1）的底部连通有出液管（2），所述浸渍筒（1）的一端设置有密封罩（5），且浸渍筒（1）的另一端通过铰链连接有密封盖（3），所述浸渍筒（1）的外表面上部连通有气管（4）；刷墨组件（6）、包括集液管（64）和石墨棒（63），所述集液管（64）的上部一侧设置有支撑框（67），所述支撑框（67）的内壁设置有墨刷（68），墨刷（68）用于摩擦石墨棒（63）的表面使其粗糙；排墨组件（7）、包括两个结构管（73），两个所述结构管（73）的内壁均连接有胶罩（72），两个所述胶罩（72）均覆盖在石墨棒（63）的表面，胶罩（72）用于排放浸渍剂覆盖在粗糙的石墨棒（63）表面；冲压组件（8）、包括罩筒（81），所述罩筒（81）的内壁设置有孔盘（84），所述孔盘（84）的一侧设置有锥管（85），所述孔盘（84）的一侧设置有倾斜片（86），倾斜片（86）用于引导浸渍剂的流向；增压组件（9）、包括弧罩（92），所述弧罩（92）的外表面设置有进液管（91），所述进液管（91）和弧罩（92）的内部共同设置有过滤壳（95），所述过滤壳（95）的内部设置有积碳片（96），积碳片（96）用于沉积浸渍剂中较大颗粒的碳素。2.根据权利要求1所述的一种等静压石墨浸渍装置，其特征在于：所述集液管（64）的内壁设置有支撑轨（65），且集液管（64）固定在浸渍筒（1）的内壁底部，所述支撑轨（65）的内部滑动安装有支撑板（61），所述支撑板（61）的上部设置有若干个支撑肋（62），且石墨棒（63）摆放在若干个支撑肋（62）的上部，所述集液管（64）的外表面底部开设有排液孔（66），且排液孔（66）与出液管（2）的位置相对应。3.根据权利要求2所述的一种等静压石墨浸渍装置，其特征在于：所述进液管（91）的一端贯穿密封罩（5）并延伸至其外部，所述进液管（91）内壁镶嵌有...

【专利技术属性】
技术研发人员：曲永乐，李明献，刘仕统，
申请(专利权)人：平顶山市开元特种石墨有限公司，
类型：发明
国别省市：