一种晶体抛光用抗拉白磨皮及其生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种晶体抛光用抗拉白磨皮及其生产工艺，属于抛光皮技术领域。本发明专利技术的一种晶体抛光用抗拉白磨皮，包括抛光层、抗拉层和基底层，所述抛光层、抗拉层和基底层从上至下依次复合连接。本发明专利技术解决了现有涂覆后纳米聚集粒子中的氧化物与氧气反应形成镂空状的氧化膜网层结构不够稳定，容易出现断裂或者生成时出现断层，造成白磨皮抗拉强度不稳定的问题，本发明专利技术提出的一种晶体抛光用抗拉白磨皮及其生产工艺，抗拉层中采用纳米混合粒子制备加强环和加强筋，对抗拉层起到加固作用，防止抗拉层出现形变，增加了抗拉层和抛光层、基底层连接的紧密度，提高了抛光层和基底层的抗拉性能。性能。性能。

【技术实现步骤摘要】
一种晶体抛光用抗拉白磨皮及其生产工艺


[0001]本专利技术涉及抛光皮
，具体为一种晶体抛光用抗拉白磨皮及其生产工艺。

技术介绍

[0002]白磨皮是抛光布的一种，由于白磨皮在抛光过程中受到摩擦力拉伸变形。
[0003]公开号为CN110712143B的中国专利公开了一种一种抗拉白磨皮及生产方法，包括由上到下依次设置抛光面、磨料层、抗拉层、基材和防滑胶层，抛光面、磨料层、抗拉层、基材和防滑胶层依次复合连接在一起，纳米聚集粒子和水性环氧树脂胶混合后放置在富氧状态下搅拌24～48小时，其中纳米聚集粒子中的氧化物与氧气反应形成镂空状的氧化膜网层，该网层位于抛光面、磨料层和基材、防滑胶层之间，对抛光面形成支撑，使白磨皮抗拉性强，不易变形。
[0004]该专利虽然在一定程度上解决
技术介绍
中的问题，但是该专利中，涂覆后纳米聚集粒子中的氧化物与氧气反应形成镂空状的氧化膜网层结构不够稳定，容易出现断裂或者生成时出现断层，造成白磨皮抗拉强度不稳定。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种晶体抛光用抗拉白磨皮及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶体抛光用抗拉白磨皮，包括抛光层(1)、抗拉层(2)和基底层(3)，其特征在于：所述抛光层(1)、抗拉层(2)和基底层(3)从上至下依次复合连接，所述抗拉层(2)所用原料的各成分重量份数配比如下：第一环氧树脂胶20
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30份、第一填料2
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4份、第一聚氨酯5
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12份、纳米混合粒子5
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15份、第一混合纤维材料1
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3份、聚酰胺树脂2
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4份，所述第一环氧树脂胶的环氧基都是以环氧丙基醚连接在苯核或脂肪烃上，环氧树脂分子链中接枝有丙烯酸以及马来酸酐单体、环氧树脂分子链中含有叔胺或季胺碱；所述第一填料为石棉粉、石英粉、石墨粉、氧化铝中的一种或者两种以上混合物；所述纳米混合粒子为尺寸为0.01
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50um的氧化锌、氧化铝和炭化木屑的混合物，其中氧化锌占比20％
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40％，氧化铝占比20％
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40％，炭化木屑占比30％
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60％；所述第一混合纤维材料为石棉纤维、玻璃纤维、凯夫拉纤维和碳纤维中的至少两种以上的混合物。2.根据权利要求1所述的晶体抛光用抗拉白磨皮，其特征在于：所述抗拉层(2)的上下表面均设置有加强环(21)和加强筋(22)，加强环(21)为同心圆结构，加强筋(22)包括沿加强环(21)径向分布的筋条和沿加强环(21)径向对称分布的筋条。3.根据权利要求2所述的晶体抛光用抗拉白磨皮，其特征在于：所述加强环(21)和加强筋(22)等厚，厚度为0.3
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0.5mm。4.根据权利要求3所述的晶体抛光用抗拉白磨皮，其特征在于：所述炭化木屑的加工方法如下：将樟子松木材切片后，在200℃
‑
220℃的环境下进行无水无氧热解处理，将处理后樟子松木材粉碎、研磨，过筛直至满足尺寸在0.01
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50um。5.根据权利要求4所述的晶体抛光用抗拉白磨皮，其特征在于：所述抛光层(1)所用原料的各成分重量份数配比如下：第二环氧树脂胶20
‑
30份、第二填料2
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4份、第二聚氨酯5
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12份、纳米混合磨料7
‑
12份、第二混合纤维材料1
‑
3份，第二环氧树脂胶的环氧基都是以环氧丙基醚连接在苯核或脂肪烃上，环氧树脂分子链中接枝有丙烯酸以及马来酸酐单体、环氧树脂分子链中含有叔胺或季胺碱；第二填料为石棉粉、石英粉、石墨粉、氧化铝中的一种或者两种以上混合物。6.根据权利要求5所述的晶体抛光用抗拉白磨皮，其特征在于：所述纳米混合磨料为尺寸为0.01
‑
50um的氧化锌、氧化铝、亚微米...

【专利技术属性】
技术研发人员：李加海，杨惠明，李元祥，
申请(专利权)人：安徽禾臣新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：