掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板技术

技术编号:38208850 阅读:19 留言:0更新日期:2023-07-21 16:58
本申请提供一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板,通过使用掩膜开口区位置错开的两个掩膜版进行两次蒸镀或者使用掩膜开口区位置错开的一个掩膜版平移前后进行两次蒸镀,可以在不增加其他工艺的情况下依靠蒸镀形成图案化的共用电极层,降低了图案化共用电极层的制造难度和制造成本。极层的制造难度和制造成本。极层的制造难度和制造成本。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板


[0001]本申请涉及显示面板制造领域,具体而言,涉及一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板。

技术介绍

[0002]在一些具有显示功能的电子设备中,为了尽可能提高屏占比,减少其他光学器件(如,摄像头、光线传感器等)对显示效果的影响,将显示面板的至少一部分设置为具有一定透明度,并将光学器件设置在显示面板下方,使得外界光线可以穿过显示面板到达位下方的光学器件。为了保证光学器件的信号采集效果,需要尽可能地提高显示面板的光线透过率,在一些此类电子设备中,考虑将原本覆盖整个显示面的阴极层图案化,从而减少与发光像素之间的间隙对应的阴极层对透过率的影响。但是,现有技术中图案化阴极层的方案均不成熟,实现难度大。

技术实现思路

[0003]为了克服现有技术中的上述不足,本申请的目的在于提供一种掩膜版组件,所述掩膜版组件包括:
[0004]第一掩膜版,所述第一掩膜版包括第一掩膜遮挡区和多个第一掩膜开口区,所述多个第一掩膜开口区相互间隔;
[0005]第二掩膜版,所述第二掩膜版包括第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版组件,其特征在于,所述掩膜版组件包括:第一掩膜版,所述第一掩膜版包括第一掩膜遮挡区和多个第一掩膜开口区,所述多个第一掩膜开口区相互间隔;第二掩膜版,所述第二掩膜版包括第二掩膜遮挡区和多个第二掩膜开口区,所述多个第二掩膜开口区相互间隔;其中,所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。2.根据权利要求1所述的掩膜版组件,其特征在于,所述第一掩膜遮挡区的图案和所述第二掩膜遮挡区的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。3.一种掩膜版组件,其特征在于,所述掩膜版组件包括:第三掩膜版,所述第三掩膜版包括第三掩膜遮挡区和多个第三掩膜开口区,所述多个第三掩膜开口区相互间隔;所述第三掩膜版包括第一定位标识和第二定位标识;所述第三掩膜开口区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。4.根据权利要求3所述的掩膜版组件,其特征在于,所述第三掩膜遮挡区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜遮挡区以所述第二定位标识为基准形成的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。5.根据权利要求2或4所述的掩膜版组件,其特征在于,所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口;或,所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口。6.根据权利要求1或3所述的掩膜版组件,其特征在于,所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案包括至少部分重合区域,所述重叠区域位于所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:李静静姜博
申请(专利权)人:云谷固安科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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